江蘇開放大學(xué)計算機(jī)繪圖形考4

1、形成性考核作業(yè)學(xué) 號 姓 名 課程代碼 110037課程名稱 計算機(jī)繪圖評閱教師 第 4 次任務(wù) 共 4 次任務(wù)任務(wù)內(nèi)容：一：繪制標(biāo)題欄和明細(xì)欄（不標(biāo)尺寸）結(jié)果作答：繪圖步驟：步驟一：繪圖環(huán)境設(shè)置步驟二：表格樣式設(shè)置步驟三：繪制標(biāo)題欄并調(diào)整尺寸步驟四：合并單元格、分解表格、匹配線型命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):步驟五：繪制明細(xì)欄并調(diào)整尺寸當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 8當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)

2、/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 8當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 8當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 8當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 8當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 8當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 8命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一

3、點(diǎn)或 放棄(u):指定下一點(diǎn)或 放棄(u):步驟六：分解表格并匹配線型命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):步驟七：輸入兩種字高的文字令: _mtext 當(dāng)前文字樣式: th_gbdim 文字高度: 5.0000 注釋性: 否指定第一角點(diǎn):指定對角點(diǎn)或 高度(h)/對正(j)/行距(l)/旋轉(zhuǎn)(r)/樣式(s)/寬度(w)/欄(c):步驟八：多重復(fù)制文字當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或

4、 陣列(a) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄

5、(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :步驟九：編輯修改文字命令:請選擇超級編輯實體：*取消*最終結(jié)果貼圖(背景為黑色）：任務(wù)內(nèi)容：二：完成軸測圖繪制并標(biāo)注、寫文字 結(jié)果作答：繪圖步驟：步驟一：繪圖環(huán)境設(shè)置步驟二：軸側(cè)環(huán)境設(shè)置步驟三：繪制底板上平面命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 40指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 60指定下一點(diǎn)或 閉合(c)/放棄(u): 40命令: _copy 找到

6、1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 10指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) : 50命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 10命令: _ellipse指定橢圓軸的端點(diǎn)或 圓弧(a)/中心點(diǎn)(c)/等軸測圓(i): i指定等軸測圓的圓心:指定等軸測圓的半徑或 直徑(d): 10命令: _ellipse指定橢圓軸的端點(diǎn)或 圓弧(a)/中心點(diǎn)(c)/等軸測圓(i): i指定等軸測圓的圓心:指定等軸測圓的半徑或 直徑(d):

7、 5命令: _.erase 找到 4 個命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: 指定對角點(diǎn)或 欄選(f)/圈圍(wp)/圈交(cp):步驟四：繪制整個底板命令: 命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 10命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) : *取消*命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :命令: _.erase 找到 3 個步驟五：

8、繪制圓筒前表面命令: 命令: _ellipse指定橢圓軸的端點(diǎn)或 圓弧(a)/中心點(diǎn)(c)/等軸測圓(i): i指定等軸測圓的圓心:指定等軸測圓的半徑或 直徑(d): 15命令: _ellipse指定橢圓軸的端點(diǎn)或 圓弧(a)/中心點(diǎn)(c)/等軸測圓(i): i指定等軸測圓的圓心:指定等軸測圓的半徑或 直徑(d):30步驟六：繪制整個圓筒命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 25命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a

9、) :命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):步驟七：繪制后方支撐板命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): _tan 到命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 10命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 15步驟八：修剪后方支撐板并繪制圓筒中心線命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或

10、第一點(diǎn)(f):命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: _.erase 找到 1 個步驟九：繪制前方支撐板命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 40命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 5命令: 命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 步驟十：修剪前方支撐板命令: _break 選擇對象:指定第二個打

11、斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: _break 選擇對象:指定第二個打斷點(diǎn) 或 第一點(diǎn)(f):命令: _.erase 找到 1 個步驟十一：設(shè)置2種文字樣式和2種標(biāo)注樣式步驟十二：標(biāo)注、寫文字最終結(jié)果貼圖(背景為黑色）：任務(wù)內(nèi)容：三、畫出三視圖并標(biāo)尺寸結(jié)果作答：繪圖步驟：步驟一：繪圖環(huán)境設(shè)置步驟二：繪制四棱柱三視圖命令: _rectang指定第一個角點(diǎn)或 倒角(c)/標(biāo)高(e)/圓角(f)/厚度(t)/寬度(w):需要點(diǎn)或選項關(guān)鍵字。指定第一個角點(diǎn)或 倒角(c)/標(biāo)高(e)/圓角(f)/厚度(t)/寬度(w): 35指定另一個角點(diǎn)或 面積(a)/尺寸(d)/旋轉(zhuǎn)(r): d指定矩形的長度 : 3

12、5指定矩形的寬度 : 35命令: _rectang指定第一個角點(diǎn)或 倒角(c)/標(biāo)高(e)/圓角(f)/厚度(t)/寬度(w):需要點(diǎn)或選項關(guān)鍵字。指定第一個角點(diǎn)或 倒角(c)/標(biāo)高(e)/圓角(f)/厚度(t)/寬度(w): 35指定另一個角點(diǎn)或 面積(a)/尺寸(d)/旋轉(zhuǎn)(r): d指定矩形的長度 : 45指定矩形的寬度 : 35步驟三：繪制左上前角切口三視圖命令: _rectang指定第一個角點(diǎn)或 倒角(c)/標(biāo)高(e)/圓角(f)/厚度(t)/寬度(w):指定另一個角點(diǎn)或 面積(a)/尺寸(d)/旋轉(zhuǎn)(r): d指定矩形的長度 : 10指定矩形的寬度 : 20命令: _rectang

13、指定第一個角點(diǎn)或 倒角(c)/標(biāo)高(e)/圓角(f)/厚度(t)/寬度(w):指定另一個角點(diǎn)或 面積(a)/尺寸(d)/旋轉(zhuǎn)(r): d指定矩形的長度 : 10指定矩形的寬度 : 20命令: _rectang指定第一個角點(diǎn)或 倒角(c)/標(biāo)高(e)/圓角(f)/厚度(t)/寬度(w):指定另一個角點(diǎn)或 面積(a)/尺寸(d)/旋轉(zhuǎn)(r): d指定矩形的長度 : 20指定矩形的寬度 : 20步驟四：繪制右上前角切口三視圖命令: _mirror 找到 1 個指定鏡像線的第一點(diǎn): 指定鏡像線的第二點(diǎn): 要刪除源對象嗎？是(y)/否(n) :命令: _mirror 找到 1 個指定鏡像線的第一點(diǎn): 指

14、定鏡像線的第二點(diǎn): 要刪除源對象嗎？是(y)/否(n) :步驟五：標(biāo)注尺寸任務(wù)內(nèi)容：四、畫出盤零件圖說明：(1)122122四棱柱的左端面相對于90f8圓柱軸心線的垂直度公差為0.06. (2)四棱柱四角有4個14的通孔，定位尺寸為90x90，圓角尺寸為r16. （3）在105的圓周上均勻分布著6個7的沉孔。結(jié)果作答：繪圖步驟：步驟一：繪圖環(huán)境設(shè)置步驟二：繪制全剖主視圖上半外輪廓命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 45指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 5指定下一點(diǎn)或 閉合(c)/放棄(u): 16指定下一點(diǎn)或 閉合(c)/放棄(u): 18指定下一點(diǎn)或 閉合(c)/放棄(u)

15、: 61步驟三：繪制全剖上半主視圖命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 35指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 1指定下一點(diǎn)或 放棄(u):指定下一點(diǎn)或 閉合(c)/放棄(u):命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 38指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多

16、個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 9命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u):命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 52.5命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 3.5指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 6指

17、定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :命令: _copy 找到 1 個當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式 = 多個指定基點(diǎn)或 位移(d)/模式(o) :指定第二個點(diǎn)或 陣列(a) : 6指定第二個點(diǎn)或 陣列(a)/退出(e)/放棄(u) :命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u): 8指定下一點(diǎn)或 放棄(u):8命令: _line 指定第一點(diǎn):指定下一點(diǎn)或 放棄(u):10指定下一點(diǎn)或 放棄(u):10步驟四：繪制全剖完整主視圖命令: _mirror 找到 16 個指定鏡像線的第一點(diǎn): 指定鏡像線的第二點(diǎn):要刪除源對象嗎？是(y)/否(n) :命令: _hatch拾取內(nèi)部點(diǎn)或

18、選擇對象(s)/設(shè)置(t): 正在選擇所有對象.正在選擇所有可見對象.正在分析所選數(shù)據(jù).正在分析內(nèi)部孤島.拾取內(nèi)部點(diǎn)或 選擇對象(s)/設(shè)置(t): 正在選擇所有對象.正在選擇所有可見對象.正在分析所選數(shù)據(jù).正在分析內(nèi)部孤島.拾取內(nèi)部點(diǎn)或 選擇對象(s)/設(shè)置(t):正在分析內(nèi)部孤島.拾取內(nèi)部點(diǎn)或 選擇對象(s)/設(shè)置(t):正在分析內(nèi)部孤島.拾取內(nèi)部點(diǎn)或 選擇對象(s)/設(shè)置(t):步驟五：繪制左視圖命令: _rectang指定第一個角點(diǎn)或 倒角(c)/標(biāo)高(e)/圓角(f)/厚度(t)/寬度(w):指定另一個角點(diǎn)或 面積(a)/尺寸(d)/旋轉(zhuǎn)(r): f指定另一個角點(diǎn)或 面積(a)/尺寸

19、(d)/旋轉(zhuǎn)(r): d指定矩形的長度 : 122指定矩形的寬度 : 122命令: _fillet當(dāng)前設(shè)置: 模式 = 修剪，半徑 = 0.0000選擇第一個對象或 放棄(u)/多段線(p)/半徑(r)/修剪(t)/多個(m): r指定圓角半徑 : 16選擇第一個對象或 放棄(u)/多段線(p)/半徑(r)/修剪(t)/多個(m):選擇第二個對象，或按住 shift 鍵選擇對象以應(yīng)用角點(diǎn)或 半徑(r):命令: fillet當(dāng)前設(shè)置: 模式 = 修剪，半徑 = 16.0000選擇第一個對象或 放棄(u)/多段線(p)/半徑(r)/修剪(t)/多個(m):選擇第二個對象，或按住 shift 鍵選擇對象以應(yīng)用角點(diǎn)或 半徑(r):命令: fillet當(dāng)前設(shè)置: 模式 = 修剪，半徑 = 16.0000選擇第一個對象或 放棄(u)/多段線(p)/半徑(r)/修剪(t)/多個(m):選擇第二個對