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文檔簡介
1、精品文檔第一章化學(xué)基礎(chǔ)和電鍍基礎(chǔ)第一節(jié)化學(xué)基礎(chǔ)氧化還原反應(yīng)在化學(xué)反應(yīng)中有電子得失和電子轉(zhuǎn)移,并且反應(yīng)物在反應(yīng)前后化合價(jià)發(fā)生變化的反應(yīng),叫氧化還原反應(yīng)。如:得到2個(gè)電子,化合價(jià)降低為氧化劑Sn2+Pd 2+= Sn4+Pd0失去2個(gè)電子化合價(jià)升高為還原劑在氧化還原反應(yīng)中,還原劑失去電子被氧化,氧化劑得到電子被還原。第二節(jié)溶液濃度表示方法1. 體積比例:1:1HCI溶液表示1份HCI與1份水相混合;2. 克/升(g/L)以1升溶液中所含溶質(zhì)的質(zhì)量表示;如:5g/L的SnCb溶液就是指1升SnCI2溶液中含5gSnCb;溶質(zhì)的質(zhì)量3. 質(zhì)量百分比濃度(x% )x%=x 100%溶液質(zhì)量如:20%的N
2、aOH溶液表示100g水中含20gNaOH固體。溶質(zhì)的摩爾數(shù)4. 體積摩爾濃度(mol/L)mol/L=x 100%溶液的體積如:0.2mol/L的NaOH溶液表示1L溶液中含0.2mol的NaOH即含有8g (0.2X 40) NaOH 固體。精品文檔精品文檔5.波美度 主要代表溶液密度,用比重計(jì)測量。波美度與密度關(guān)系:Be=144 3-144.3密度6.ppm 濃度 指溶質(zhì)質(zhì)量占全部溶液質(zhì)量的百萬分之一,即 1kg 溶 液中含 1mg 溶質(zhì)。第三節(jié) 化學(xué)鍍鎳的基本原理一、化學(xué)鍍鎳鍍層的主要性質(zhì)1. 耐蝕性、耐熱、耐磨;2. 良好的導(dǎo)電性、焊接性;3. 磁性能、電阻性能;二、化學(xué)鍍鎳的特點(diǎn)
3、化學(xué)鍍鎳鍍層厚度均勻、針孔少,不需要直流電源設(shè)備,能在非 導(dǎo)體上沉積,并具有一些特殊性能, 但成本比電鍍高, 鍍液穩(wěn)定性差。三、化學(xué)鍍鎳應(yīng)具備的條件1. 化學(xué)鍍鎳應(yīng)包括金屬鹽、還原劑、緩沖劑、 pH 調(diào)節(jié)劑、穩(wěn)定劑 等成份;2. 必須有催化劑存在 ,才發(fā)生金屬沉積過程;3. 調(diào)節(jié)溶液的 pH 值、溫度時(shí),可以控制金屬的還原速度,即可以 調(diào)節(jié)鍍覆速度;4. 被還原析出的金屬應(yīng)具有自催化活性,這樣鍍層才能增厚;5. 反應(yīng)生成物不妨礙鍍覆過程的正常進(jìn)行,即溶液有足夠的使用 壽命。四、化學(xué)鍍鎳原理精品文檔精品文檔1溶液中的次磷酸根在催化表面上催化脫氫,同時(shí)氫化物離子轉(zhuǎn)移到催化表面,而本身被氧化生成亞磷
4、酸根,反應(yīng)式為:H2PO2+H2O催化表面HPO32+H+2H吸附催化表面2吸附催化表面的活性氫化物與鎳離子進(jìn)行還原反應(yīng)沉積鎳,本身氧化為H2,反應(yīng)式為:Ni2+2H- Ni+H2f總反應(yīng)式為:2H2PO2-+2H2O+Ni2+ Ni+出 f +4H+2HPO32-另外:部分次磷酸根被氫化物還原成單質(zhì)磷而進(jìn)入鍍層H2PO2-+H-催化表面片 P+H2O+OH-除上述反應(yīng)外,化學(xué)鍍中還有副反應(yīng)產(chǎn)生:H2POJ+H2O 催化劑 H+HPO32-+H2 f上述反應(yīng)是周期進(jìn)行的,其反應(yīng)速度取決于界面pH值、濃度和溫度。五、化學(xué)鍍鎳溶液中各成份的作用1. 主鹽(硫酸鎳)提供鎳金屬離子,鎳鹽濃度高,鍍液沉
5、積速 度快,但穩(wěn)定性下降?;瘜W(xué)鍍過程中為保持一定的沉積速度,采 用連續(xù)補(bǔ)加使其控制在工作范圍之內(nèi)。2. 還原劑 還原劑的用量主要取決于鎳鹽濃度,鎳與次磷酸鈉的 摩爾比為0.30.45。次亞磷酸鈉含量增大,沉積速度加快,但鍍 液穩(wěn)定性下降。為了保持恒定的沉積速度,次磷酸鈉休采用連續(xù) 補(bǔ)加使其控制在工作范圍內(nèi)。H2PO2-+H2OH+HPO32-+H2 f3. 絡(luò)合劑 為避免化學(xué)鍍鎳溶液自然分解和控制鎳沉積反應(yīng)速 度,鍍液中必須加入絡(luò)合劑。絡(luò)合劑均為有機(jī)酸和它們的鹽類, 常用的絡(luò)合劑有:乙醇酸、檸檬酸等。絡(luò)合劑與鎳離子形成穩(wěn)定 的絡(luò)合物,用來控制可供反應(yīng)的游離鎳離子含量。同時(shí)抑制亞磷 酸鎳沉淀的作
6、用,使鍍液具有較好的穩(wěn)定性。4. 緩沖劑 鎳還原過程中有氫離子產(chǎn)生,鍍液 pH 值逐漸降低而 使沉積速度下降加入緩沖劑,可以穩(wěn)定 pH 值,穩(wěn)定沉積速度, 目前常用的緩沖劑有醋酸、琥珀酸等。5. 穩(wěn)定劑 為控制鎳離子的還原和使還原反應(yīng)只在被鍍基體表面 進(jìn)行,鍍液中常加入穩(wěn)定劑。通常由于鍍液中有膠?;蚬腆w粒子 存在,這些微??赡苁峭鈦黼s質(zhì)(如:灰塵、砂粒等)進(jìn)入鍍液 或是鍍液中產(chǎn)生亞磷酸鎳沉淀,而引起鍍液自發(fā)分解。鍍液中的 微量穩(wěn)定劑可抑制鍍液自發(fā)分解,是因?yàn)樗鼈儍?yōu)先被微?;蚰z團(tuán) 粒子吸咐(毒化),阻礙了鎳在這些粒子上的還原。使用的穩(wěn)定劑 一般有:含硫化合物,如硫代硫酸鹽,含氧的陰離子物質(zhì),如鉬
7、 酸鹽,第三種是重金屬離子,如鉛等;穩(wěn)定劑對化學(xué)鍍鎳溶液和 鍍層質(zhì)量有正反兩方面作用。除能穩(wěn)定鍍液外,還能影響沉積速 度及鍍層質(zhì)量,如鍍層光亮、回應(yīng)力、孔隙率、延展性、抗蝕性 和耐磨性。當(dāng)穩(wěn)定齊加入量過多會導(dǎo)致鎳沉積、停止反應(yīng)。第四節(jié) 電鍍基礎(chǔ)與基本原理一、電鍍層的基本要求1. 鍍層與基體金屬有良好的結(jié)合力和附著力。2. 鍍層完整、結(jié)晶細(xì)致緊密、孔隙率少。3. 鍍層具有良好的物理、化學(xué)、機(jī)械性能。4. 具有符合標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定的鍍層厚度,而且鍍層分布要均勻。、 影響鍍層的因素1. 電沉積過程 溶液中的金屬離子在陰極還原形成鍍層,陽極進(jìn) 行氧化將金屬轉(zhuǎn)移為離子。鍍層金屬從離子態(tài)至晶體需經(jīng)過:離 子液相
8、傳質(zhì),電荷轉(zhuǎn)移,形成晶體。2. 電鍍液對鍍層的影響(1)電鍍液本生對鍍層的影響;(2)主鹽濃度對鍍層的影響;(3)其它附加鹽的影響;(4)添加劑的影響:添加劑一般有光亮劑、整平劑、潤濕劑、應(yīng)力 削減劑、鍍層細(xì)化劑、陽極活化劑。3. 影響鍍層的因素(1) 電流密度的影響在其它條件不變的情況下,當(dāng)電流密度從零開始增大時(shí), 往往形成粗大晶粒, 這是因?yàn)殡娏髅芏冗^低, 陰極極化作用小, 增大電流密度,陰極極化提高,鍍層結(jié)晶也就變細(xì),當(dāng)電流密 度增大到一定程度時(shí)會引起鍍層燒 焦。( 2) 溫度的影響在其它條件不變的情況下,升高鍍液溫度會降低陽極極化 會導(dǎo)致鍍層結(jié)晶粗糙,升高溫度通??梢蕴岣唠娏髅芏?,提高
9、溶液的導(dǎo)電性, 促進(jìn)陽極溶解, 提高陰極電流效率, 減少針孔, 所以中要配合恰當(dāng),升高溫度反而有利于鍍?nèi)×己缅儗?。?3) 攪拌的影響 攪拌能強(qiáng)制鍍液對流,減少濃差極,同時(shí)也可以提高電 流密度。攪拌還可以提高鍍層的整平性,消除條紋和桔皮狀 鍍層。( 4) 析氫對鍍層的影響 在任何鍍液中,在陽極上與金屬析出的同時(shí),往往有氫 氣產(chǎn)生,在不少情況下析出的氫氣會使鍍層質(zhì)量變劣。 氫脆 析出的氫有時(shí)會進(jìn)入鍍層或鐵基體內(nèi), 造成金屬 的吸氫作用。 起泡 吸咐在基體金屬細(xì)孔內(nèi)的氫, 有時(shí)會使與鍍層產(chǎn) 生小鼓泡。 針孔 氫氣在陰極上析出后, 經(jīng)常呈氣泡形式粘附在陰 極表面,這些氣泡阻止金屬在這些部位沉積,金屬
10、只能 沉積在氣泡周圍。那么這些地方將形成線坑或點(diǎn)狀穴, 通常稱為麻點(diǎn)或針孔。三、電鍍液的組成 任何一種鍍液對成份、 含量都有固定的要求, 各成份之間有 合理的組合,才能獲得良好的鍍層。1.主鹽 是指鍍層沉積金屬的鹽類,如NiS04 7戰(zhàn)0, CUP2O72. 絡(luò)合劑 絡(luò)合劑作為配體與金屬離子形成絡(luò)合物, 改變了鍍液 的電化學(xué)性質(zhì)和金屬沉積的電極過程。對鍍層質(zhì)量有很大影響, 是鍍液中的重要成份。 常用的絡(luò)合劑有: 檸檬酸鹽 焦磷酸鹽等。 3. 導(dǎo)電鹽 為了提高電鍍液的導(dǎo)電能力,降低槽端電壓,提高工 藝電流密度,加入導(dǎo)電能力較強(qiáng)的物如鍍鎳溶液中加Na2SO4,導(dǎo)電鹽不參加電極反應(yīng),酸和堿也可做導(dǎo)電
11、物質(zhì)。4. 緩沖劑 在弱酸堿性鍍液中應(yīng)加入適當(dāng)?shù)木彌_劑, 使鍍液有自 行調(diào)節(jié) pH 值的能力。保持溶液的穩(wěn)定性,緩沖劑要有足夠的數(shù) 量才有較好的效果,如鍍鎳中的 H3BO4,般加入3040g/L。5. 陽極活化劑 在電鍍過程中金屬離子是不斷消耗的,大多數(shù) 采用可溶性陽極來補(bǔ)充,使在陰極析出的金屬量與陽極的溶解量 相等,保持鍍液成份平衡, 加入活化劑能維持陽極處于活化狀態(tài), 不發(fā)生鈍化,溶解正常。6. 添加劑 添加劑是用來改善鍍液性能,提高鍍層質(zhì)量,加入量 很少,一般只有幾克范圍,但效果明顯,添加劑種類很多,能起 各種作用:細(xì)化晶粒作用、光亮作用、整平作用、潤濕作用、提 高鍍液硬度,降低鍍層應(yīng)力
12、。第五節(jié) 退 鍍退鍍的方法退鍍法一般來說分為三種:機(jī)械剝離法、電化學(xué)法、化學(xué)退鍍 法。1. 機(jī)械剝離法 通常是用磨料對鍍層進(jìn)行噴砂、拋磨等手段去除 鍍層。2. 化學(xué)退鍍法 本方法是將退鍍件浸漬在化學(xué)藥品溶液中,使鍍 層化學(xué)法溶解除去,為了防止基體金屬過腐蝕,造成基體表面粗 糙,有時(shí)可在退鍍液中加抑制劑及表面活性劑。鋼鐵零件上鎳層的退除:退鍍液一:氰化鈉7080g/L問硝基苯磺酸鈉7080g/L氨水2080ml/L溫度6080C本法對基體的影響較少, 是保護(hù)基體免受損傷的一種可靠的退鍍 法,缺點(diǎn)是采用劇毒藥品氰化物及操作溫度高。退鍍液二:硝酸1000ml氯化物3050g溫度4060C本法是目前常
13、用的方法,退除速度快,缺點(diǎn)是有氧化物生成,需 要良好的吸風(fēng)裝置,另外退鍍件應(yīng)干燥,如有水份混入,容易引起零 件過腐蝕。3. 電化學(xué)退鍍本方法的實(shí)質(zhì)是在電化學(xué)退鍍?nèi)芤褐校淹隋兞慵麝枠O處理,由于退鍍時(shí)零件表面上電流分布不均勻,以及零件表面鍍層厚度的不同,因而在退鍍時(shí)常發(fā)生在零件凸出的部分 及周邊先退除,使這部分基體容易過腐蝕而產(chǎn)生粗糙,為了防止 此種情況發(fā)生,必要時(shí)應(yīng)采用輔助陰極,同時(shí)避免過高電壓,否 則陽極易鈍化,產(chǎn)生針孔,造成表面粗糙。電化學(xué)退鍍?nèi)芤阂唬毫蛩幔核?=3:2甘油 :30ml/L溫度: 常 溫 電壓: 6V水可加速退鍍,但易出現(xiàn)針孔,加甘油可減少針孔電化學(xué)退鍍二:鉻酐:2503
14、00g/L硼酸: 2530g/L陽極電流密度: 電化學(xué)退鍍?nèi)?硝酸銨: 40100g/L 氨三乙酸: 2030g/L 六次甲基田胺: 1030g/L 溫度: 常溫57A/dm2 溫度: 常溫電壓: 618V 陽極電流密度: 535A/dm2 陰極:陽極 34:1陰極: 不銹鋼pH 值 37以退鍍液可用于銅 -鎳-鉻一次性退除。第二章泡沫鎳工藝流程及工藝工藝流程(此工藝適應(yīng)于連續(xù)化帶狀泡沫)放卷T堿除油T水洗T粗化T水洗T浸酸T水洗T敏化T水洗T活化T還原T化學(xué)鍍T水洗T吹干T拉網(wǎng)電鍍(退鍍)T回收T水洗T電鍍T回收T水洗T吹干T烘干T焚燒T燒結(jié)T冷卻T收卷T分條T產(chǎn)品入庫第一節(jié)除油一、工藝目
15、的、原理、規(guī)范及處理后效果判別和影響原因1除油目的:除去泡沫表面油污,改善親水性也起到微粗化作用。2除油原理:利用堿與皂化性油脂反應(yīng)生成肥皂和甘油及各類化學(xué)物 質(zhì),對礦物油起乳化、發(fā)泡、潤滑作用,使油脂脫離泡沫表面。皂化反應(yīng)(RCOO)3C3H5+3NaOHRCOONa+GH5(OH)33泡沫鍍除油堿液工藝NaOHNa?CO3Na3PO4OP-1C乳化劑溫度2030g/L2030g/L2030g/L210ml/L30士 2C注:1、除油時(shí)間根據(jù)除油效果定,一般為 2min;2、溶液分析檢測周期為每2小時(shí)1次。除油效果判別:(1) 表面干凈,無臟物;( 2) 泡沫親水性良好。4. 影響除油效果的
16、因素( 1) NaOH 過少皂化不明顯,即除油效果不佳,如過多,生成的 肥皂不易水解,并且不利于清洗。( 2) 除油堿液溫度過高會使泡沫變形,過低降低除油能力。(3) Na2CO3和Na3PO4對溶液起緩沖作用,使溶液濃度維持在相 對范圍,生產(chǎn)中NaOH不斷消耗,而Na2CO3、Na3PO4不斷 水解生成 NaOH 也即含量過低會影響除油效果, 含量過高會 使清洗效果降低。( 4 ) 壓輥本身油污沒有清除,會影響除油效果。( 5) 操作者沒按操作規(guī)程操作而帶入油污。5. 泡沫經(jīng)除油后水洗效果判別( 1) 泡沫經(jīng)水洗后用廣泛試紙測 pH 為 7 ±0.5。(2) 表面干凈,無堿液中帶來
17、的懸浮物。( 3) 用手觸摸泡沫沒有滑膩的感覺。第二節(jié) 粗化一、粗化目的 提高零件表面的親水性和增大其表面積。二、粗化原理 利用化學(xué)粗化液中的強(qiáng)酸,強(qiáng)氧化劑對泡沫表面 起蝕刻氧化作用,而使泡沫表面變得粗糙、粗化的同時(shí),強(qiáng)氧化劑 還能與其發(fā)生氧化、硬化作用,使高分子結(jié)構(gòu)產(chǎn)生斷鏈作用,由于這些作用的結(jié)果,使泡沫表面生成較多的親水性基因,或使非極化極大地提高了制件表面的親水性,分子極化,這些極性基因的存在,有利于化學(xué)反應(yīng),從而提高了鍍層與基體的結(jié)合力三、粗化工藝KMnO 40.50.8g/LHAC 23ml/L pH3.0±0.2溫度30 士 2C粗化時(shí)間視粗化效果而定 溶液的分析周期:四
18、、粗化效果判別Cr2O5 1020g/LH2SO4 1060ml/L 水 4001000ml/L溫度 20C 50C,泡沫粗化一般為 2min,1 次/2h1. 粗化不足:表面平滑有光澤,對強(qiáng)光源反射好。2. 粗化適宜:表面平滑,平滑但不反光3. 粗化稍過度:表面明顯發(fā)暗,但仍平滑4. 粗化過度:表面呈白絨狀。5. 粗化嚴(yán)重過度:表面有裂紋、疏松。6. 粗化效果判別:用手拉泡沫,檢測強(qiáng)度7. 目測粗化泡沫表面的均勻性、親水性。五、影響粗化的因素1. 粗化液中成份含量過高會導(dǎo)致粗化過度,過低達(dá)不到粗化效果;2. 粗化液溫度過度會使泡沫粗化過度, 并引起泡沫變形, 過低達(dá)不 到粗化目的。3. 生產(chǎn)
19、設(shè)備:泡沫經(jīng)粗化槽壓輥擠壓后,溶液要將泡沫全浸蝕。4. 操作者:將油漬、臟物帶入泡沫上而影響泡沫親水性。六、泡沫經(jīng)粗化后水洗效果判別1. 泡沫經(jīng)水洗后用廣泛試紙測 pH 值, 7±0.5 為正常。2. 泡沫經(jīng)水洗后不能有粗化液顏色存在。3. 不能有臟物附在泡沫表面。第三節(jié) 浸酸一、目的除去泡沫從粗化液中帶來的 MnO2 固體微粒,以防止污染敏化液 和活化液。二、原理粗化液中帶來的 MnO2 微粒很難溶解,當(dāng)泡沫進(jìn)入草酸溶液后, 會使 MnO2 變成一種可溶性物質(zhì),從而達(dá)到除MnO2 的效果。三、浸酸工藝H2C2O410.0 15.0g/L溫 度40 ± 3C時(shí) 間 2min
20、 (一般根據(jù)其浸酸效果而定)溶液分析周期1次/2h四、浸酸效果判斷目測: 泡沫經(jīng)粗化后會呈棕褐色,當(dāng)進(jìn)入浸酸工序,泡沫會變 成微黃色,并無明顯棕褐色斑點(diǎn)。五、影響浸酸效果及原因1. 溫度 溫度過低會增加浸酸時(shí)間,并且還達(dá)不到除 MnO2 微粒 的效果,過高會使泡沫變形,一般控制溫度 40C 士 3C。2.成份含量 當(dāng)溶液中 H2C2O4 含量低于其范圍值時(shí),使浸酸效 果降低。六、泡沫經(jīng)浸酸后水洗效果判別1. 泡沫經(jīng)水洗后用廣泛試紙測其 pH 值 7.0士 0.5 為正常。2. 泡沫經(jīng)水洗后不能有粗化后的顏色存在。3. 不能有臟物附在泡沫表面。第四節(jié) 敏化一、敏化的目的: 使粗化后的零件表面吸附
21、一層有還原性的兩價(jià)錫 離子,以便在隨后的離子型活化處理時(shí)將鈀離子還原成有催化作用 的鈀原子。二、敏化的原理 :當(dāng)泡沫進(jìn)入敏化溶液中,在它的表面會吸附一些氧化的物質(zhì), 為了使它們保持穩(wěn)定的還原狀態(tài), 必須在敏化液 中加入 HCl 使其酸化, 為維護(hù)溶液中錫離子保持二價(jià)狀態(tài), 應(yīng) 在 溶 液 中 加 入 錫 條 , 付 反 應(yīng) SnCl2+H2O( 過 量 ) Sn(OH)Cl+HCl 對溶液危害很大,在生產(chǎn)中應(yīng)注意控制。三、敏化工藝SnCl2 2H2O1.01.5g/LpH 值 1.52.0溫度30士2C溶液分析周期1 次/2h四、敏化后效果判別1泡沫在敏化液中親水性很好;2. 泡沫經(jīng)敏化后在水
22、中有自然下垂的現(xiàn)象;3泡沫經(jīng)乳化后呈乳白色。五、影響敏化效果的因素1敏化液Sn2+的含量;2. 溶液的攪拌過強(qiáng)會使溶液中雜質(zhì)進(jìn)入泡沫,并易造成溶液水解,過弱又達(dá)不到效果;3二價(jià)錫水解生成Sn(OH)CI沉淀會影響敏化效果,并且影響鍍層與基體的結(jié)合力;4敏化液錫條加入量不足或加入不均勻;5配制敏化液未按配制標(biāo)準(zhǔn)配制而導(dǎo)致敏化液水解;6. 敏化液酸性太弱,盡理避免敏化液與空氣接觸;六、經(jīng)敏化后泡沫水洗效果判別1. 表面干凈,無臟物;2. 泡沫上不能帶有乳白懸浮物;3. 經(jīng)清洗后 pH 值在 6.5 左右,如清洗不干凈會危害下一道工序活 化液。第五節(jié) 活化一、活化目的 :泡沫表面形成一層具有催化活性
23、的金屬。二、原理: 借助于用催化活性金屬化合物的溶液,對經(jīng)過敏化處理 的表面進(jìn)行處理,其實(shí)質(zhì)是將吸附有還原劑的泡沫浸入含有氧化劑 的溶液中(PdCb溶液)PcT作為氧化劑被SrT還原,而化學(xué)鈀呈膠 體狀微粒附在泡沫表面, 它具有很強(qiáng)的催化活性, 當(dāng)進(jìn)入鍍液中后 這些顆粒就會成為催化中心,從而使化學(xué)鍍得以連續(xù)進(jìn)行。Pd2+Sn2+f PdJ +Sn4+三、活化工藝PdCl20.05 0.1g/L溫度4247C時(shí)間2mi n3minpH 值1.52.0溶液分析周期為1次/2h四、活化后效果判別1. 外觀:泡沫經(jīng)活化后,外觀顏色微帶黃色;2. 親水性:泡沫浸入水中自然下沉;3. 采用化學(xué)鍍鎳判別活化
24、效果。五、影響活化效果因素1. 溫度:過高效果明顯,過低效果稍差;2. 循環(huán)量:循環(huán)量過強(qiáng),會使活化液中沉淀物附在泡沫表面影響活 化效果,循環(huán)量過弱,會使活化效果降低,而達(dá)不到要求;3活化液中主鹽濃度:Pd2+ J效果差 PcF+ f成本太高;4. 敏化工序清洗沒有達(dá)到要求影響活化效果;5時(shí)間:過長消耗Pd太多,成本太高,過短達(dá)不到要求。六、泡沫經(jīng)活化處理后水洗效果判別1. 表面干凈,無活化液中沉淀物附著泡沫表面;2. 經(jīng)清洗后泡沫上pH值為6.5± 0.5。第六節(jié) 還原為了保持化學(xué)鍍液的穩(wěn)定性, 在泡沫未進(jìn)入鍍液之前, 先用一定 濃度的次亞磷酸鈉將未洗凈的活化劑還原除去, 從而增加
25、鍍液使用壽 命,還原處理時(shí)間,一般為幾十秒到 1mi n,次亞磷酸鈉濃度為 5 30g/L 室溫下完成。第七節(jié) 泡沫化學(xué)鍍鎳 一、化學(xué)鍍鎳目的: 使前處理后的聚脂泡沫導(dǎo)電化。二、化學(xué)鍍鎳簡單原理: 鎳的沉積是依靠泡沫表面的催化作用,使次磷酸根分解析出初生態(tài)原子氫 H o在泡沫表面使Ni2+還原成金屬Ni 。反應(yīng)式:Ni2+H2PO2-+H2O HPO32-+3H+Ni三、泡沫化學(xué)鍍鎳工藝NiSO4 7出02030g/L 溫度 4045CNazHzPO? H2O 2030g/LpH8.08.5Na3C6H3O745g/L 化學(xué)鍍時(shí)間 :3minHAC15ml/L 溶液分析周期:1次/2h穩(wěn)定劑根
26、據(jù)反應(yīng)的穩(wěn)定性情況加入四、化學(xué)鍍鎳液的影響因素1 次磷酸鹽濃度 次磷酸鹽濃度過高,使鍍液的化學(xué)性能得到提 高(高能狀態(tài)),就會加速鍍液內(nèi)部的還原作用,促進(jìn)液相組分向 固相、氣相轉(zhuǎn)化。若鍍液局部溫度過高或存在微粒,則很易誘發(fā) 鍍液自發(fā)分解, 如果同時(shí)出現(xiàn)鍍液 pH 值偏高,便會明顯降低鍍液 中亞磷酸鎳的沉淀點(diǎn),鍍液提前出現(xiàn)亞磷酸鎳沉淀。2鎳鹽濃度 當(dāng)溶液 pH 值偏高時(shí),提高鎳鹽濃度,易生成亞磷 酸鎳和氫氧鎳沉淀,從而使鍍液渾濁,觸發(fā)自分解。3絡(luò)合劑濃度 絡(luò)合劑的重要作用之一是能提高鍍液中亞磷酸鎳的沉淀點(diǎn),鍍液中絡(luò)合劑含量不足,隨著化學(xué)鍍的進(jìn)行,亞磷酸 根也不斷地增大,會很快地達(dá)到亞磷酸鎳的沉淀
27、點(diǎn),鍍液出現(xiàn)混 濁,自發(fā)分解。4 pH 值的調(diào)整 常用氨水溶液進(jìn)行調(diào)整,所用濃度不易大,應(yīng) 將氨水稀釋 10 倍加入, pH 值也不能太高,否則次磷酸鹽轉(zhuǎn)化為 亞磷酸鹽或氫氧化鎳沉淀,引起自發(fā)分解。5. 配制方法不當(dāng) 次磷酸鹽溶液加入過快, 使鍍液局部次磷酸鹽濃 度過高,促使生成亞磷酸鎳沉淀,堿液加入過快,使溶液局部 pH 值過高,易生成亞磷酸鎳和氫氧化鎳沉淀,配制鍍液時(shí)嚴(yán)格按配 制順序加入藥品, 如不能將 pH 值調(diào)整劑氨水溶液加入到不含絡(luò)合 劑的鎳鹽溶液中。6. 鍍前處理不當(dāng), 被鍍制件在進(jìn)入槽前, 必須清洗干凈, 防止油污、 灰塵及酸、堿溶液帶入鍍液中;對于非金屬制件,還要防止活化 金屬
28、鹽帶入鍍液中,否則,由于這些有害物質(zhì)進(jìn)入鍍液,便會增 大溶液的不穩(wěn)定性,觸發(fā)鍍液自發(fā)分解。7. 操作方法 局部過熱, 很易引起鍍液自發(fā)分解, 鍍液負(fù)荷過低或 過高,都會直接影響沉淀速度,特別是沉積速度快時(shí),鍍層比較 疏松,鎳顆??赡軓腻儗由厦撀涞藉円褐?,形成催化中心,促進(jìn) 鍍液分解,對使用的掛具要很好的進(jìn)行防蝕保護(hù),防止在鍍液中 產(chǎn)生腐蝕,增加鍍液中的雜質(zhì)。8. 鍍液維護(hù)和管理 按配制方法配制鍍液, 生產(chǎn)中要嚴(yán)格控制工作條件。加熱要均勻,鍍液負(fù)荷不應(yīng)超過 1dm2/L ,鍍液溫度達(dá)到要 求后應(yīng)盡快地進(jìn)行化學(xué)鍍,不要空載時(shí)間過長,按需要量適時(shí)補(bǔ) 加藥品和調(diào)整 pH 值,補(bǔ)加藥品時(shí)要配制成溶液,
29、并將鍍液溫度降 低至40C以下,加強(qiáng)零件鍍前處理并清洗干凈使用后的鍍液要加 蓋,鍍槽、加熱管、掛具、循環(huán)系統(tǒng)如有鎳層,應(yīng)及時(shí)退除、洗 凈,鍍液要經(jīng)常過濾,清除其中的固體顆粒。五、化學(xué)鍍鎳后效果判別1. 外觀:銀灰色均勻分布、無花斑、漏鍍現(xiàn)象;2. 電阻值:橫向電20Q以下;3. 鍍層均勻性:上鎳均勻、電阻值在范圍值之內(nèi);4. 上鎳量: 58g/m2;六、化學(xué)鍍鎳后水洗效果判別1. 表面干凈、無臟物;2. 泡沫清洗后不得沾有化學(xué)鍍液;3. 清洗后泡沫上水份 pH 值應(yīng)為中性。第八節(jié) 拉網(wǎng)電鍍、電鍍一、拉 網(wǎng)電鍍目的: 增強(qiáng)半成品的導(dǎo)電性和存放時(shí)間 。二、泡沫鍍鎳?yán)児に嚲肺臋n精品文檔拉網(wǎng)電鍍電
30、鍍NiS04 7H2O250300g/L250300g/LNiCl2 6H2O3060g/L3060g/LH3BO43540g/L3540g/L添加劑0.050.1g/L0.050.1g/LpH3434溫度4560°C4560C電流密度12.5A/dm2235A/dm攪拌陰極移動(dòng)、泵循環(huán)陰極移動(dòng)、泵循環(huán)三、電鍍目的:增加泡沫鍍層厚度,以達(dá)到產(chǎn)品使用要求四、對鍍層質(zhì)量的影響因素1. pH值:鍍鎳溶液的pH值對鍍層質(zhì)量影響很大,在 Ni的沉積過 程中,由于同時(shí)析出氫,使用陰極區(qū)附近的 pH值升高。在pH值 大于6時(shí),陰極區(qū)中將會生成氫氧化鎳和堿式硫酸鎳沉淀,夾雜 在鍍層中使鍍層變脆、孔隙
31、率增加、產(chǎn)生麻點(diǎn)。如果pH值過低,氫的析出量將增加,鍍層產(chǎn)生較多的針孔。一般來說,pH值過高, 鍍液的分散能力較好,陰極電流效率高,但為防止析氫而造成的 陰極區(qū)堿化,只能使用較小的陰極電流密度。pH值較低,可以提高鍍液的導(dǎo)電性,促進(jìn)陽極溶解,可以使用較高的陰極電流密度。2溫度:溫度對鍍層的內(nèi)應(yīng)力有較大的影響。溫度升高,內(nèi)應(yīng)力 顯著降低,鍍層柔軟而有延展性,提高鍍液的溫度,可以增加鹽 類的溶解度,增大鍍液的電導(dǎo),降低陰陽極的極化,從而可以使 用較高的陰極電流密度。但升高溫度也有一些不利之處,如鹽類精品文檔精品文檔 的水解及生成氫氧化物沉淀的傾向增加,特別是鐵雜質(zhì)的水解可 能形成針孔故障,鍍層易鈍
32、化,鍍液的分散能力降低。3. 陰極電流密度:如前所述,鍍鎳所用的電流密度與 pH 值、溫度、 主鹽濃度等有密切關(guān)系。這些因素又是互相影響和制約的。一般 地,隨著濃度和溫度的升高、攪拌強(qiáng)度加大以及 pH 值的降低, 可以采用較高的陰極電流密度,在正常的電流密度范圍內(nèi),隨著 電流密度的升高,電流效率略有增加。4. 攪拌:攪拌可以提高陰極電流密度,加速氫氣泡逸出,縮短其 滯留在陰極表面的時(shí)間,有效地減少鍍層的針孔和麻點(diǎn)。攪拌的 方式有壓縮空氣攪拌、陰極移動(dòng)、鍍液循環(huán)過濾等。5. 陽極:純度很高的電解鎳陽極在電鍍時(shí)很容易鈍化,而且在含 氯化物的鍍液中,約有 0.5%左右的鎳陽極成為疏松的鎳渣,使鍍 層
33、容易產(chǎn)生毛刺。精品文檔精品文檔第三章 溶液的配制與維護(hù)第一節(jié) 溶液的配制一、堿液的配制:1、將計(jì)量的 NaOH、Na2CO3、 Na3PO4、OP-10 乳化劑依次用純水溶解。2、將以上溶液混合后過濾,稀釋至體積,升溫方可使用。3、取樣分析。二、粗化液的配制1、將計(jì)量的 KMnO 4 用去離子水溶解2、緩慢加 HAC 稀釋液稀釋至體積3、用 H2SO4 調(diào) pH 值為 2.53.04、取樣分析三、浸酸液的配制1、稱取計(jì)量的 H2C2O4 用 2/3(溶液總體積 )的去離子水溶解過濾2、稀釋至體積3、取樣分析四、敏化液的配制1、稱取準(zhǔn)確量的 SnCl2 在密封器內(nèi)用 HCl 全部溶解2、均勻緩慢
34、加入去離子水中,攪拌不能太過厲害3、稀釋至體積,過濾,加入錫條,錫條加入量要足且均勻分布4、取樣分析五、活化液的配制1、稱取適量的PdCb置于容量瓶中,用HCI溶解完全2、緩慢加入水中,不停攪拌3、取樣分析六、化學(xué)鍍液的配制1 、 將計(jì)量的 NiSO4 、 Na2H2PO2、 Na3C6H5O7、 HAC 分別用適量水溶解2、先將 Na3C6H5O7 和 HAC 混合(如采用乳酸需預(yù)先用NaHC03和至pH=5左右)3、然后將 NiSO4 溶液緩慢加入上述混合液中,不停攪拌4、最后在快速攪拌下加入 Na2H2PO25、循環(huán)過濾,稀釋至體積6、取樣分析七、電鍍液的配制1 、 將計(jì)量的 NiSO4
35、、 NiCI 2、 H3BO3 分別溶解2、將上述溶液混合在一個(gè)容器里3、過濾,循環(huán)引入鍍槽4、再加入已溶解的糖精5、攪拌均勻,取樣分析第二節(jié) 溶液的維護(hù)除油液的維護(hù)1. 使用前后加蓋,防止雜物帶入2. 使用中應(yīng)連續(xù)過濾以除去生產(chǎn)中的雜物3. 嚴(yán)格控制固體和其它有害物質(zhì)的帶入4. 連續(xù)滴加5. 使用后應(yīng)過濾、降溫、貯存于高位槽二、粗化液的維護(hù)1使用前后應(yīng)加蓋2使用中應(yīng)連續(xù)過濾3連續(xù)滴加,滴加濃度和滴加量由主管下達(dá)工藝文件4嚴(yán)防雜物帶入和沉淀物產(chǎn)生(注:易產(chǎn)生 MnO2 沉淀物)5使用后過濾貯存于高位槽,密封三、浸酸液的維護(hù)1使用前后應(yīng)在室溫條件下密封2使用中應(yīng)連續(xù)過濾3連續(xù)滴加,滴加量和濃度由
36、主管下達(dá)工藝文件4嚴(yán)防雜物帶入5盡量避免與空氣接觸6使用后降溫過濾,密封貯存四、敏化液的維護(hù)1使用前后應(yīng)在室溫條件下密封2使用中就連續(xù)過濾3連續(xù)滴加,滴加量和濃度由主管下達(dá)工藝文件4嚴(yán)防雜物帶入5盡量避免與空氣接觸6使用后降溫過濾,密封貯存五、活化液的維護(hù)1使用前后加蓋2生產(chǎn)中可定期過濾3連續(xù)滴加,滴加量和濃度由主管下達(dá)工藝文件4嚴(yán)防雜物帶入和敏化液帶入,以免影響溶液壽命5使用后降溫、過濾、密封貯存六、還原液的維護(hù)1連續(xù)滴加2避免雜物帶入七、化鍍液的維護(hù)1控制鎳鹽和次鈉的濃度,檸鈉和醋酸的變化2穩(wěn)定劑添加量要適中,在適當(dāng)時(shí)間加入3.嚴(yán)格控制溶液溫度(43C 士 1C) pH值(8.28.5)4
37、避免溶液局部過熱5. 鍍液負(fù)荷不能太大 (0.3dm2/L)6. 溶液應(yīng)連續(xù)滴加,盡量避免外來雜質(zhì)帶入(灰塵、自來水、其 它溶液)7. 后應(yīng)降溫,連續(xù)過濾、加蓋8. 槽中應(yīng)無任何固體雜質(zhì),如槽體鍍鎳上去,必須洗干凈9. 鍍液達(dá)溫后,空載時(shí)間不能過長八、電鍍液的維護(hù)1 .硫酸鎳經(jīng)過濾加入工作母槽2. 氯化鎳經(jīng)前處理后加入工作母槽3. 硼酸經(jīng)過濾后加入工作母槽4. pH 值調(diào)整以 100mL/L 的硫酸加入,防止過量引起 pH 值過低5. 定期測定并調(diào)整溶液的 pH 值6溶液應(yīng)連續(xù)或定期處理, 雙氧水、活性碳或用瓦楞片電解 理7 劑可用安時(shí)計(jì)控制或 10CA 補(bǔ)加新配制槽時(shí)用量的 1/4第四章 操
38、作規(guī)程二、應(yīng)用范圍: 本工藝文件適用于泡沫鎳導(dǎo)電化處理各工序崗位 操作規(guī)程三、目的: 為了穩(wěn)定生產(chǎn),使生產(chǎn)連續(xù)化,各崗位必須嚴(yán)格按照操作規(guī)程,積極、主動(dòng)、認(rèn)真對待本崗位,并相互配合四、中試線操作規(guī)程:1、 啟動(dòng)生產(chǎn)線之前1) 準(zhǔn)備好收卷架、收卷筒、原材料泡沫2) 準(zhǔn)備生產(chǎn)中必須使用的工具3) 檢查所有管道、閥門是否完好4) 槽子、輥?zhàn)?、泵使用之前必須清洗干?) 有詳細(xì)的生產(chǎn)計(jì)劃和相應(yīng)的工藝方案6) 由化驗(yàn)員、工藝員提供具體的溶液狀況表及小試報(bào)告7) 維修班檢查并確定主輔設(shè)備可正常工作(傳動(dòng)系統(tǒng)、電器 設(shè)備)8) 崗位工必須認(rèn)真閱讀相關(guān)資料,并嚴(yán)格執(zhí)行2、啟動(dòng)生產(chǎn)線1) 上述準(zhǔn)備工作后,開啟變
39、頻調(diào)速器2) 將壓輥調(diào)至工作狀態(tài),開啟循環(huán)過濾泵,穿引帶時(shí)兩對壓 輥中的泡沫帶不能繃得太緊或太松 (太緊會使泡沫變形或拉斷; 太松會引起泡沫積壓,甚至?xí)古菽S傳動(dòng)滾反轉(zhuǎn)而造成壓輥 卷帶、斷帶現(xiàn)象)3) 穿引帶時(shí)不得用手直接觸摸泡沫、壓輥、溶液4) 當(dāng)泡沫進(jìn)入某工序時(shí),提前啟動(dòng)后一個(gè)工序的清洗管閥,若需通電流,則開啟整流電源5) 泡沫引帶進(jìn)入某工序,由該工序崗位工將引帶穿到另一工序6) 穿引帶時(shí)必須注意,以免手被帶入壓輥中3、生產(chǎn)過程中1) 檢查各工藝參數(shù)是否在工藝范圍值之內(nèi), 檢查管道、 閥門、清洗槽水位是否正常2) 泡沫運(yùn)行開卷是否正常(注:泡沫不跑偏、不積壓,收卷 整齊、緊湊為正常)3)
40、 槽液中嚴(yán)禁帶入任何雜質(zhì)(如油漆、自來水和其它有害物質(zhì))4) 生產(chǎn)工具專用,不得跨工序使用5) 每個(gè)工序的生產(chǎn)情況應(yīng)有詳細(xì)記錄 (走帶速度、 水洗效果、設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)情況、溶液變化情況、工藝狀態(tài))6) 生產(chǎn)中出現(xiàn)任何工藝問題,必須及時(shí)呈報(bào)技術(shù)員7) 穩(wěn)定生產(chǎn)后,取化鍍半成品作質(zhì)量性能檢測,并做好記錄8) 巡視各工序工作狀況及工作條件, 監(jiān)控各工藝參數(shù)及鍍層外觀4、生產(chǎn)線停止工作1) 當(dāng)泡沫尾部經(jīng)過某工序時(shí),相應(yīng)停止該工序,停清洗泵、加熱裝置、電流等,并將溶液全部過濾、降溫、儲備、加蓋2) 化鍍半成品應(yīng)妥善保管,盡量避免與空氣接觸3) 將所有壓輥全部回位并清洗干凈4) 關(guān)閉所有電器設(shè)備、水閥5) 整理
41、相關(guān)記錄,交由技術(shù)員處理6) 打掃衛(wèi)生,物品歸位化學(xué)鍍鎳常見故障及糾正方法故障現(xiàn)象產(chǎn)生的原因及糾正方法反應(yīng)慢沉積速度低(1)pH值低,用NH4OH或NaOH調(diào)整。(2)溫度過低。(3)次磷酸鈉含量不足,分析補(bǔ)充。鍍液反應(yīng)激烈,呈沸騰狀出 現(xiàn)深灰色鎳粉(鍍液自 然分解的象征)(1)溶液負(fù)荷太大;(2)溫度過高或局部過熱;(3)鍍液掉入金屬雜質(zhì)或固體微粒;(4)次磷酸鹽含量過高;(5)pH值太高。槽壁槽底,沉積有金屬Ni(1)局部溫度過高;(2)槽子破損,顯露基體金屬,更換槽或用酸洗 去金屬。錫層剝落(1)鍍前處理不徹底;(2)溫度波動(dòng)太大。鍍層花斑泡沫化學(xué)鍍前處理不好泡沫鍍不上鎳敏化液失去作用或
42、鍍液有問題,或其它溶液出現(xiàn) 問題。泡沫跑偏調(diào)節(jié)壓輥,開卷是否正常泡沫積壓將積壓泡沫,依次往下逆工序傳送。鍍液分解(1)鍍液全部分解,將泡沫剪斷,開啟電機(jī)將槽內(nèi)泡沫全取出;(2)將其它溶液全部過濾,交貯存于高位槽;(3)清洗槽子,查找原因。傳動(dòng)電器原因及時(shí)通知維修班組電鍍常見故障及糾正方法精品文檔精故文檔現(xiàn)象產(chǎn)生原因及糾正方法鍍層起皮起泡(1)鍍前前處理不良;(2)pH值不正常,加以調(diào)整;(3)陰極電流密度過高而溫度太低;(4)金屬雜質(zhì)或有機(jī)雜質(zhì)影響。鍍層有針孔(1)pH值不正常;(2)雜質(zhì)影響,防針孔劑適量補(bǔ)加。鍍層粗糙毛刺(1)鍍液中有陽極泥或其它懸浮物方法過濾;(2)泡沫進(jìn)行槽前附著固體污物。鍍層色暗(1)金屬雜
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