醇水混合溶劑論文醇水混合溶劑 納米二氧化硅 形貌 疏水改性

1、醇水混合溶劑論文：多晶硅產(chǎn)業(yè)副產(chǎn)物四氯化硅的綜合利用【中文摘要】近幾年來(lái),由于受到太陽(yáng)能光伏電池行業(yè)的強(qiáng)力推動(dòng),我國(guó)多晶硅產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速,現(xiàn)已建成數(shù)十家,產(chǎn)能超過(guò)10萬(wàn)噸/年。多晶硅產(chǎn)業(yè)目前的主流生產(chǎn)工藝均為改良西門(mén)子法,該工藝副產(chǎn)大量的低沸點(diǎn)、腐蝕性強(qiáng)、易造成環(huán)境污染的四氯化硅。因而,對(duì)四氯化硅進(jìn)行科學(xué)合理的高效利用,已成為多晶硅行業(yè)亟待解決的問(wèn)題。利用四氯化硅生產(chǎn)二氧化硅,是實(shí)現(xiàn)四氯化硅有效轉(zhuǎn)化的途徑之一。二氧化硅簡(jiǎn)稱(chēng)白炭黑,無(wú)毒無(wú)味,是優(yōu)良的補(bǔ)強(qiáng)填充材料,能廣泛地應(yīng)用于化工、材料、醫(yī)藥、電子通訊等領(lǐng)域。具有特殊形貌以及經(jīng)過(guò)疏水改性的二氧化硅,由于表面結(jié)構(gòu)和外形的特殊性,使其在藥物控釋緩釋、

2、催化劑載體、高聚物溶混填充、傳感器、分離工程等方面不斷獲得新的應(yīng)用。本文主要涉及如下幾個(gè)方面的研究?jī)?nèi)容:以醇水混合溶劑為反應(yīng)體系,首先通過(guò)對(duì)溶液的pH值、反應(yīng)溫度、攪拌速度、醇水溶劑的摩爾比、SiCl_4的加入速度和其在溶液中的濃度等因素加以研究,尋找出納米二氧化硅制備的最佳工藝條件;其次,通過(guò)添加表面活性劑和模板,制備出了棒狀、針狀、中空管狀納米二氧化硅和微米級(jí)空心管狀二氧化硅;最后,利用表面改性劑六甲基二硅胺烷(HMDS)制備出了疏水性納米二氧化硅。借助XRD、FT-IR.【英文摘要】For the past few years, polycrystalline silicon indus

3、try in China has developed rapidly due to the increasing demand for solar photovoltaic cell. Incomplete statistics show that the country has a total of dozens of production enterprise and the capacity over 100000 t/a up to now. The current predominant productive technique employed by most of these p

4、olycrystalline silicon enterprises is so-called“modified Siemens process”, and a mass of by-products, or silicon tetrachloride, give off during the production.【關(guān)鍵詞】醇水混合溶劑 納米二氧化硅 形貌 疏水改性 四氯化硅【英文關(guān)鍵詞】aliphatic alcohol and water mixed solvent nano-silica morphology hydrophobic silicon tetrachloride【索購(gòu)全文

5、】聯(lián)系Q1：138113721 Q2：139938848【目錄】多晶硅產(chǎn)業(yè)副產(chǎn)物四氯化硅的綜合利用摘要2-4ABSTRACT4-5第1章 緒論9-241.1 前言9-101.2 四氯化硅的綜合利用10-121.2.1 氫化還原為三氯氫硅101.2.2 生成氣相法白炭黑10-111.2.3 生成硅酸酯111.2.4 生成光纖級(jí)四氯化硅11-121.3 納米二氧化硅的一般制備方法12-141.3.1 氣相法121.3.2 沉淀法12-131.3.3 醇水溶液水解法131.3.4 超重力沉淀法13-141.3.5 溶膠-凝膠法141.3.6 反相膠束微乳液法141.4 納米二氧化硅的應(yīng)用14-151

6、.5 多形貌納米二氧化硅的合成15-191.6 納米二氧化硅的疏水改性19-221.6.1 改性劑201.6.2 改性方法20-221.6.3 改性納米二氧化硅的應(yīng)用221.7 本課題研究的主要內(nèi)容與創(chuàng)新點(diǎn)22-24第2章 醇水混合溶劑中 SiCl_4水解制備納米二氧化硅24-372.1 實(shí)驗(yàn)部分24-252.1.1 實(shí)驗(yàn)原理242.1.2 實(shí)驗(yàn)原料242.1.3 實(shí)驗(yàn)步驟24-252.2 制備工藝條件對(duì)產(chǎn)物性能的影響25-292.2.1 pH 值的影響25-262.2.2 溫度的影響26-272.2.3 醇水摩爾比的影響272.2.4 SiCl_4 濃度及加入速度的影響27-292.2.5

7、攪拌速度的影響292.3 產(chǎn)物的表征及其分析29-362.3.1 X-射線粉末衍射（XRD）分析30-312.3.2 傅立葉變換紅外光譜（FT-IR）分析31-332.3.3 透射電鏡（TEM）分析33-342.3.4 掃描電鏡（SEM）分析34-352.3.5 （BET）比表面積測(cè)試35-362.4 本章小結(jié)36-37第3章 特殊形貌二氧化硅的制備及表征37-523.1 棒狀和中空管狀納米二氧化硅的制備及其表征37-413.1.1 實(shí)驗(yàn)部分37-383.1.2 結(jié)果與討論38-413.2 針狀納米二氧化硅的制備及其表征41-443.2.1 實(shí)驗(yàn)部分41-423.2.2 結(jié)果與討論42-443

8、.3 微米級(jí)空心管狀二氧化硅的制備及其表征44-493.3.1 實(shí)驗(yàn)部分443.3.2 結(jié)果與討論44-493.4 多形貌納米二氧化硅生成機(jī)理的探討49-513.5 本章小結(jié)51-52第4章 疏水納米二氧化硅的制備及表征52-614.1 實(shí)驗(yàn)部分52-534.1.1 實(shí)驗(yàn)原料524.1.2 實(shí)驗(yàn)步驟524.1.3 產(chǎn)物的測(cè)試與表征52-534.2 結(jié)果與討論53-604.2.1 產(chǎn)物的X-射線衍射（XRD）分析53-544.2.2 產(chǎn)物的傅立葉紅外（FT-IR）分析54-554.2.3 產(chǎn)物的疏水性效果測(cè)試55-564.2.4 表面羥基數(shù)定性化學(xué)測(cè)定分析56-594.2.5 產(chǎn)物的氮?dú)馕剑˙ET）分析59-604.3 本章小結(jié)60