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真空鍍膜設(shè)備及鍍膜加工真空鍍膜工藝簡介：真空鍍膜學(xué)名物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)，表示在真空條件下，采用物理方法，將材料源固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。 物理氣相沉積的主要方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等。發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術(shù)不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導(dǎo)體、聚合物膜等。九大類鍍膜產(chǎn)品，包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、中頻磁控真空鍍膜設(shè)備、蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、光學(xué)真空鍍膜設(shè)備、卷繞式真空鍍膜設(shè)備、DLC真空鍍膜機+工模具鍍膜系列，AZO透明導(dǎo)電膜鍍膜生產(chǎn)線和連續(xù)式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線等。

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