
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文檔簡(jiǎn)介
材料科學(xué)基礎(chǔ)1.1原子間的鍵合
金屬鍵
離子鍵共價(jià)鍵
氫鍵
范氏鍵1.2晶體學(xué)基礎(chǔ)
1.2.1空間點(diǎn)陣與晶胞
1.2.2晶向指數(shù)和晶面指數(shù)
1、立方晶系中晶系指數(shù)
2、立方晶系中晶面指數(shù)
3、六方晶系中的晶向和晶面指數(shù)
4、晶帶
5、晶面間距
6、晶面夾角(晶向夾角)金屬的晶體結(jié)構(gòu)1.2.3晶體的對(duì)稱(chēng)性
1.2.4極射投影1.3純金屬的晶體結(jié)構(gòu)
1.3.1三種典型的金屬晶體結(jié)構(gòu)
1、面心立方結(jié)構(gòu)
2、體心立方結(jié)構(gòu)
3、密排六方結(jié)構(gòu)
1.3.2金屬的多晶型性1.4合金相結(jié)構(gòu)
1.4.1固溶體
1.4.2中間相材料科學(xué)基礎(chǔ)1.1原子間的鍵合金屬的晶體結(jié)構(gòu)1.2.3晶體當(dāng)兩個(gè)或多個(gè)原子形成分子或固體時(shí),它們是依靠什么樣的結(jié)合力聚集在一起?這就是原子間的鍵合問(wèn)題。結(jié)合鍵化學(xué)鍵(主價(jià)鍵)物理鍵(次價(jià)鍵)金屬鍵離子鍵共價(jià)鍵范氏鍵氫鍵1.1原子間的鍵合材料科學(xué)基礎(chǔ)當(dāng)兩個(gè)或多個(gè)原子形成分子或固體時(shí),它們是依靠什么樣的結(jié)合力聚材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)金屬鍵示意圖(黃色代表金屬原子,白色代表自由電子)材料科學(xué)基礎(chǔ)金屬鍵示意圖(黃色代表金屬原子,白色代表自由電子)材料科學(xué)基材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)Cl與Na形成離子鍵材料科學(xué)基礎(chǔ)Cl與Na形成離子鍵材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)圖1.4-5
由共價(jià)鍵方向性特點(diǎn)決定了的SiO2四面體晶體結(jié)構(gòu)圖1.4-4形成共價(jià)鍵的SiO2,藍(lán)色圓圈代表Si的價(jià)電子,紅色圓圈代表O的價(jià)電子材料科學(xué)基礎(chǔ)圖1.4-5由共價(jià)鍵方向性特點(diǎn)圖1.4-4形成共價(jià)鍵的S材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)實(shí)際材料(金屬和陶瓷)中結(jié)合鍵多為混合鍵金屬中主要是金屬鍵,還有其他鍵如:共價(jià)鍵、離子鍵陶瓷化合物中出現(xiàn)離子鍵和金屬鍵的混合一些氣體分子以共價(jià)鍵結(jié)合,而分子凝聚時(shí)依靠范德華力聚合物的長(zhǎng)鏈分子內(nèi)部以共價(jià)鍵結(jié)合,鏈與鏈之間則為范德華力或氫鍵
表:物質(zhì)的鍵能餓熔融溫度材料科學(xué)基礎(chǔ)實(shí)際材料(金屬和陶瓷)中結(jié)合鍵多為混合鍵表:物質(zhì)的鍵能餓材料鍵的類(lèi)型結(jié)合能kJ/mol熔點(diǎn)℃MgO離子鍵10002800NaCl離子鍵640800C共價(jià)鍵713>3500SiC共價(jià)鍵12302600Al金屬鍵324660Cu金屬鍵3391083Fe金屬鍵4061538材料科學(xué)基礎(chǔ)材料鍵的類(lèi)型結(jié)合能kJ/mol熔點(diǎn)℃MgO離子鍵材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)空間點(diǎn)陣晶胞材料科學(xué)基礎(chǔ)晶胞從晶格中選取一個(gè)能完全反映晶格特征的基本單元作為點(diǎn)陣的組成單元,這種最小的幾何單元稱(chēng)晶胞??臻g點(diǎn)陣晶胞大小和形狀表示方法晶胞大小和形狀表示方法為:晶胞的棱邊長(zhǎng)度a、b、c(稱(chēng)為點(diǎn)陣常數(shù)、晶格常數(shù))棱邊的夾角為α、β、γ(稱(chēng)為晶軸間夾角)。選取晶胞的原則:
1、應(yīng)反映出點(diǎn)陣的高度對(duì)稱(chēng)性2、棱和角相等的數(shù)目最多3、棱邊夾角為直角時(shí),直角數(shù)目最多4、晶胞體積最小材料科學(xué)基礎(chǔ)晶胞大小和形狀表示方法晶胞大小和形狀表示方法為:材料科學(xué)基礎(chǔ)空間點(diǎn)陣類(lèi)型三斜晶系單斜晶系正交晶系四(正)晶系立方晶系六方晶系菱方晶系a=b=c,α=β=γ=90°a=b≠c,α=β=90°,γ=120°a=b≠c,α=β=γ=90°a≠b≠c,α=β=γ=90°a≠b≠c,α=γ=90°≠βa≠b≠c,α≠β≠γ≠90°a=b=c,α=β=γ≠90°材料科學(xué)基礎(chǔ)空間點(diǎn)陣類(lèi)型三斜晶系單斜晶系正交晶系四(正)晶系立方晶系六方按照“每個(gè)陣點(diǎn)的周?chē)h(huán)境相同”的要求,布拉菲用數(shù)學(xué)方法推導(dǎo)出能夠反映空間點(diǎn)陣全部特征的單位平面六面體只有14種,這14種空間點(diǎn)陣也稱(chēng)為布拉菲點(diǎn)陣。材料科學(xué)基礎(chǔ)空間點(diǎn)陣是晶體中質(zhì)點(diǎn)排列的幾何學(xué)抽象,用以描述和分析晶體結(jié)構(gòu)的周期性和對(duì)稱(chēng)性,由于各陣點(diǎn)的周?chē)h(huán)境相同,它只能有14種。晶體結(jié)構(gòu)是指晶體中實(shí)際質(zhì)點(diǎn)(原子、離子或分子)的具體排列情況,它們能組成各種類(lèi)型的排列,因此實(shí)際存在的晶體結(jié)構(gòu)是無(wú)限的??臻g點(diǎn)陣晶體結(jié)構(gòu)注意:晶體結(jié)構(gòu)差異很大,而空間點(diǎn)陣可能相同晶體結(jié)構(gòu)相似,而空間點(diǎn)陣可能不同。按照“每個(gè)陣點(diǎn)的周?chē)h(huán)境相同”的要求,布拉菲用數(shù)學(xué)方法推導(dǎo)出圖1-10具有相同點(diǎn)陣的晶體結(jié)構(gòu)圖1-10具有相同點(diǎn)陣的晶體結(jié)構(gòu)材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)1.2.2晶向指數(shù)和晶面指數(shù)晶面——晶體結(jié)構(gòu)一系列原子所構(gòu)成的平面。晶向——通過(guò)晶體中任意兩個(gè)原子中心連成直線來(lái)表示晶體結(jié)構(gòu)的空間的各個(gè)方向。晶向指數(shù)和晶面指數(shù)是分別表示晶向和晶面的符號(hào),國(guó)際上用Miller指數(shù)來(lái)統(tǒng)一標(biāo)定。材料科學(xué)基礎(chǔ)1.2.2晶向指數(shù)和晶面指數(shù)晶面——晶體結(jié)構(gòu)一系列原子所1.立方晶系中晶向指數(shù)
確定立方晶系晶向指數(shù)[uvw]的步驟如下:1、設(shè)坐標(biāo)2、求坐標(biāo)3、化整數(shù)4、化為最小整數(shù),列括號(hào)[uvw]負(fù)值則在指數(shù)上加一負(fù)號(hào)。材料科學(xué)基礎(chǔ)1.立方晶系中晶向指數(shù)確定立方晶系晶向指數(shù)[uvw]的步驟正交晶系中的部分晶向指數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)正交晶系中的部分晶向指數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)
晶向指數(shù)還有如下規(guī)律:(1)某一晶向指數(shù)代表一組在空間相互平行且方向一致的所有晶向。(2)若晶向所指的方向相反,則晶向數(shù)字相同符號(hào)相反。(3)有些晶向在空間位向不同,但晶向原子排列相同,這些晶向可歸為一個(gè)晶向族,用〈uvw〉表示。如〈111〉晶向族包括[111]、[T11]、[1T1]、[11T]、[TT1]、[1TT]、[T1T]、[TTT];〈100〉晶向族包括[100]、[010]、[001]、[T00]、[0T0]、[00T]。(4)同一晶向族中晶向上原子排列因?qū)ΨQ(chēng)關(guān)系而等同。
材料科學(xué)基礎(chǔ)晶向指數(shù)還有如下規(guī)律:材料科學(xué)基礎(chǔ)2.立方晶系中晶面指數(shù)
確定立方晶系晶面指數(shù)[uvw]的步驟如下:1、設(shè)坐標(biāo)2、求截距3、取倒數(shù)4、將三個(gè)倒數(shù)化為互質(zhì)的整數(shù)比,并加上圓括號(hào),即表示該晶面的晶面指數(shù),記為(hkl)原點(diǎn)設(shè)在待求晶面以外。求晶面在三個(gè)軸上的截距。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.立方晶系中晶面指數(shù)確定立方晶系晶面指數(shù)[uvw]的步驟晶面指數(shù)還有如下規(guī)律:
(1)某一晶面指數(shù)代表了在原點(diǎn)同一側(cè)的一組相互平行且無(wú)限大的晶面。
(2)若晶面指數(shù)相同,但正負(fù)符號(hào)相反,則兩晶面是以點(diǎn)為對(duì)稱(chēng)中心,且相互平行的晶面。如(110)和(TT0)互相平行。
(3)凡晶面間距和晶面上原子分布完全相同,只是空間取向不同的晶面,可歸為同一晶面族,用{hkl}表示。如{100}包括(100)、(010)、(001)、(T00)、(0T0)、(00T)。(4)在立方結(jié)構(gòu)中若晶面指數(shù)和晶向指數(shù)的指數(shù)和符號(hào)相同,則該晶向與晶面必定是互相垂直。如:[111]⊥(111)、[110]⊥(110)、[100]⊥(100)。材料科學(xué)基礎(chǔ)晶面指數(shù)還有如下規(guī)律:材料科學(xué)基礎(chǔ)3.六方晶系的晶向和晶面指數(shù)
六方晶系的晶向指數(shù)和晶面指數(shù)同樣可以應(yīng)用上述方法標(biāo)定,但按這種方法標(biāo)定的晶向指數(shù)和晶面指數(shù),不能顯示六方晶系的對(duì)稱(chēng)性,同類(lèi)型的晶面和晶向,其指數(shù)卻不相似,看不出它們之間的等同關(guān)系。例如,晶胞的六個(gè)柱面是等價(jià)的,但按照三軸坐標(biāo)系確定的晶面指數(shù)卻分別為(100)、(010)、(T10)、(T00)、(0T0)、(1T0)。為了克服這一缺點(diǎn),通常采用另一專(zhuān)用于六方晶系的指數(shù)。材料科學(xué)基礎(chǔ)3.六方晶系的晶向和晶面指數(shù)六方晶系的晶向指數(shù)和晶面
確定步驟和立方晶系一樣,但一般在標(biāo)定六方結(jié)構(gòu)的晶向指數(shù)時(shí)選擇四個(gè)坐標(biāo)軸:a1、a2、a3、c其中a1、a2、a3處于同一底面上,且它們之間夾角為120°、C軸垂直于底面。則有:
晶面指數(shù)(hkil)其中i=-(h+k)
晶向指數(shù)[uvtw]其中t=-(u+v)材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)
六方晶系按兩種晶軸系所得的晶面指數(shù)和晶向指數(shù)可相互轉(zhuǎn)換。對(duì)晶面指數(shù)而言,從(hkil)轉(zhuǎn)換成(hkl)只要去掉i即可,反之,則加上i=(h+k)。對(duì)晶向指數(shù)而言,[UVW]與[uvtw]之間的轉(zhuǎn)換關(guān)系為:材料科學(xué)基礎(chǔ)六方晶系按兩種晶軸系所得的晶面指數(shù)和晶向指數(shù)可六方晶系的晶向(面)指數(shù)示意圖材料科學(xué)基礎(chǔ)六方晶系的晶向(面)指數(shù)示意圖材料科學(xué)基礎(chǔ)六方晶系的一些晶向(面)指數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)六方晶系的一些晶向(面)指數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)4.晶帶晶帶晶帶定律所有平行或相交于同一直線的晶面構(gòu)成一個(gè)晶帶,此直線稱(chēng)為晶帶軸。屬此晶帶的晶面稱(chēng)為共帶面。同一晶帶上晶帶軸[uvw]和晶帶面(hkl)之間存在以下關(guān)系:hu+kv+lw=0材料科學(xué)基礎(chǔ)4.晶帶晶帶晶帶定律所有平行或相交于同一直線的晶面構(gòu)成一個(gè)晶
通過(guò)晶帶定理可以:1、求兩不平行的晶面(h1k1l1)和(h2k2l2)的晶帶軸。2、求兩個(gè)不平行的晶向[u1v1w1]和[u2v2w2]所決定的晶面。3、判斷某一晶向是否在某個(gè)晶面上。4、判斷幾個(gè)晶面是否屬于同一晶帶。材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)5.晶面間距晶面間距晶面指數(shù)為(hkl)的晶面相鄰兩個(gè)晶面之間距離,用dhkl表示。低指數(shù)的晶面面間距較大,高指數(shù)的則較小。面間距最大的面總是原子密排面。晶面間距越小則晶面上的陣點(diǎn)就越稀疏。材料科學(xué)基礎(chǔ)5.晶面間距晶面間距晶面指數(shù)為(hkl)的晶面相鄰兩個(gè)低
上述晶面間距的計(jì)算公式只適應(yīng)簡(jiǎn)單晶胞。復(fù)雜晶胞由于中心型原子的存在而使晶面層數(shù)增加,應(yīng)根據(jù)具體情況對(duì)上述計(jì)算公式進(jìn)行修正。材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)
6、晶面夾角(晶向夾角)除了晶面間距可以通過(guò)上述方法和公式進(jìn)行計(jì)算外,兩個(gè)晶面之間的夾角,同樣也可以通過(guò)類(lèi)似的幾何關(guān)系推出。對(duì)于立方晶系:對(duì)于正交晶系:材料科學(xué)基礎(chǔ)6、晶面夾角(晶向夾角)材料科7晶體的對(duì)稱(chēng)性
1、對(duì)稱(chēng)元(要)素。晶體的對(duì)稱(chēng)性—晶體中存在著或可分割成若干相同部分,這些部分借助于假想的點(diǎn)、線、面而重復(fù)排列。假想的點(diǎn)、線、面稱(chēng)為對(duì)稱(chēng)元(要)素。
1).宏觀對(duì)稱(chēng)元素——反映出晶體外形和其宏觀性質(zhì)的對(duì)稱(chēng)性。回轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)軸:當(dāng)晶體饒某一軸回轉(zhuǎn)而能完全復(fù)原時(shí),此軸即為回轉(zhuǎn)對(duì)稱(chēng)軸,在回轉(zhuǎn)一周的過(guò)程中,晶體能復(fù)原幾次就稱(chēng)為幾次對(duì)稱(chēng)軸。晶體中可能存在的對(duì)稱(chēng)軸有1、2、3、4、6共五種。對(duì)稱(chēng)面:如果通過(guò)晶體作一平面,使晶體的各對(duì)應(yīng)點(diǎn)經(jīng)此平面反映后都能重合一致,猶如鏡面反映一樣,則稱(chēng)此平面為對(duì)稱(chēng)面,用
m
表示。
對(duì)稱(chēng)中心:若晶體中的點(diǎn)在經(jīng)過(guò)某一點(diǎn)反演后能復(fù)原,則該點(diǎn)稱(chēng)為對(duì)稱(chēng)中心,用符號(hào)i表示?;剞D(zhuǎn)—反演軸:若某晶體饒某一軸回轉(zhuǎn)一定角度,再以軸上的一個(gè)中心點(diǎn)作反演之后能復(fù)原時(shí),此軸稱(chēng)為回轉(zhuǎn)—反演軸。用符號(hào)來(lái)表示。
材料科學(xué)基礎(chǔ)7晶體的對(duì)稱(chēng)性1、對(duì)稱(chēng)元(要)素。材料科學(xué)基礎(chǔ)2).微觀對(duì)稱(chēng)元素滑動(dòng)面:它是由一個(gè)對(duì)稱(chēng)面加上沿著此面的平移所組成,晶體結(jié)構(gòu)可借此面的反映并沿此面平移一定距離而復(fù)原?;瑒?dòng)面的表示符號(hào)如下:如平移a/2,b/2,c/2寫(xiě)作a,b,c;若沿對(duì)角線平移1/2距離,則寫(xiě)作n;若沿面對(duì)角線平移1/4,則寫(xiě)作d。螺旋軸:螺旋軸由回轉(zhuǎn)軸和平行于軸的平移所構(gòu)成。晶體結(jié)構(gòu)可借饒螺旋軸回轉(zhuǎn)360/n角度同時(shí)沿軸平移一定距離而得到重合,此螺旋軸稱(chēng)為n次螺旋軸。有2次(21),3次(31、32),4次(41、42、43),6次(61、62、63、64、65)幾種。2.點(diǎn)群及空間群點(diǎn)群是指一個(gè)晶體中所有點(diǎn)對(duì)稱(chēng)元素的集合,點(diǎn)群在宏觀上表現(xiàn)為晶體外形的對(duì)稱(chēng)。有32種點(diǎn)群。空間群是用以描述晶體中原子組合的所有可能的方式,是通過(guò)宏觀和微觀元素在三維空間的組合而得出,有230種空間群。材料科學(xué)基礎(chǔ)2).微觀對(duì)稱(chēng)元素材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)1.3三種典型金屬的晶體結(jié)構(gòu)材料科學(xué)基礎(chǔ)
決定晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)型的內(nèi)在因素是原子(分子、離子)間結(jié)合鍵的類(lèi)型以及鍵的強(qiáng)弱。金屬晶體的結(jié)合鍵是金屬鍵,由于金屬鍵沒(méi)有方向性,使金屬內(nèi)部的原子趨向于緊密排列,構(gòu)成高度對(duì)稱(chēng)性的簡(jiǎn)單晶體結(jié)構(gòu)。1.3三種典型金屬的晶體結(jié)構(gòu)材料科學(xué)基礎(chǔ)金屬在固態(tài)下一般都是晶體。決定晶體結(jié)構(gòu)的內(nèi)在因素是原子,離子,分子間鍵合的類(lèi)型及鍵的強(qiáng)弱。金屬晶體是以金屬鍵結(jié)合,由于金屬鍵具有無(wú)飽和性和無(wú)方向性的特點(diǎn),從而使金屬內(nèi)部的原子趨于緊密排列,構(gòu)成高度對(duì)稱(chēng)性的簡(jiǎn)單晶體結(jié)構(gòu):
三種典型金屬晶體結(jié)構(gòu)材料科學(xué)基礎(chǔ)密排六方結(jié)構(gòu)A3或hcp六方晶系體心立方結(jié)構(gòu)A2或bcc立方晶系面心立方結(jié)構(gòu)A1或fcc立方晶系金屬在固態(tài)下一般都是晶體。決定晶體結(jié)構(gòu)的內(nèi)在因素是原子,離子對(duì)三種典型的晶體結(jié)構(gòu)從以下幾個(gè)方面進(jìn)行分析:材料科學(xué)基礎(chǔ)配位數(shù)和致密度原子半徑R(原子的半徑)(和點(diǎn)陣常數(shù)關(guān)系)晶胞中原子數(shù)點(diǎn)陣參數(shù)(晶格常數(shù)和晶軸間夾角)原子的堆垛方式密排方向和密排面晶體結(jié)構(gòu)中間隙(大小和數(shù)量)晶胞中原子的排列方式(原子所處的位置)對(duì)三種典型的晶體結(jié)構(gòu)從以下幾個(gè)方面進(jìn)行分析:材料科學(xué)基礎(chǔ)配位
三種典型金屬晶體結(jié)構(gòu)剛球模型材料科學(xué)基礎(chǔ)面心(fcc、A1)體心(bcc、A2)(密排六方(hcp、A3)三種典型金屬晶體結(jié)構(gòu)剛球模型材料科學(xué)基礎(chǔ)面心(fcc、A1.面心立方結(jié)構(gòu)(特征)1、晶胞中原子排列:在立方體的八個(gè)頂角和六個(gè)面的面心各有一個(gè)原子。2、晶胞中原子數(shù):n=8×1/8+6×1/2=4個(gè)3、密排面和密排方向:{111}<110>4、點(diǎn)陣常數(shù)與原子半徑的關(guān)系:5、配位數(shù)與致密度配位數(shù)CN=12
致密度k=0.746、原子堆垛方式:ABCABC……7、間隙:八面體間隙、四面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)1.面心立方結(jié)構(gòu)(特征)1、晶胞中原子排列:在立方體的八個(gè)
面心立方晶格原子位置材料科學(xué)基礎(chǔ)fcc面心立方晶格原子位置材料科學(xué)基礎(chǔ)fcc
面心立方晶格晶胞原子數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)n=8×1/8+6×1/2=4個(gè)fcc面心立方晶格晶胞原子數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)n=8×1/8+6×1
面心立方密排面及密排方向材料科學(xué)基礎(chǔ)密排面:{111}密排方向:<110>fcc面心立方密排面及密排方向材料科學(xué)基礎(chǔ)密排面:{111面心立方點(diǎn)陣常數(shù)與原子半徑的關(guān)系材料科學(xué)基礎(chǔ)fcc面心立方點(diǎn)陣常數(shù)與原子半徑的關(guān)系材料科學(xué)基礎(chǔ)fcc
面心立方原子配位數(shù)及配位數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)配位數(shù)為12致密度f(wàn)cc面心立方原子配位數(shù)及配位數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)配位數(shù)為12f面心立方結(jié)構(gòu)中原子密排面的堆垛順序材料科學(xué)基礎(chǔ)ABCABC......fcc面心立方結(jié)構(gòu)中原子密排面的堆垛順序材料科學(xué)基礎(chǔ)ABCABC.面心立方八面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)位于晶胞體中心和每個(gè)棱邊的中點(diǎn),由6個(gè)面心原子所圍成,大小rB=0.414R,rB為間隙半徑,R為原子半徑,間隙數(shù)量為4個(gè)。fcc面心立方八面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)位于晶胞體中心和每個(gè)棱邊的中點(diǎn)面心立方四面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)由一個(gè)頂點(diǎn)原子和三個(gè)面心原子圍成,其大?。簉B=0.225R,間隙數(shù)量為8個(gè)。fcc面心立方四面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)由一個(gè)頂點(diǎn)原子和三個(gè)面心原子圍2.體心立方晶格(特征)1、晶胞中原子排列:在立方體的八個(gè)頂角和體心各有一個(gè)原子。2、晶胞中原子數(shù):n=8×1/8+1=2個(gè)3、密排面和密排方向:{110}<111>4、點(diǎn)陣常數(shù)與原子半徑的關(guān)系:5、配位數(shù)與致密度配位數(shù)CN=8
致密度k=0.686、間隙:八面體間隙、四面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)2.體心立方晶格(特征)1、晶胞中原子排列:在立方體的八個(gè)頂
體心立方晶格原子位置材料科學(xué)基礎(chǔ)bcc體心立方晶格原子位置材料科學(xué)基礎(chǔ)bcc體心立方晶格晶胞中原子數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)n=8×1/8+1=2個(gè)bcc體心立方晶格晶胞中原子數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)n=8×1/8+1=2體心立方晶格密排面及密排方向材料科學(xué)基礎(chǔ)密排面{110}密排方向<111>bcc體心立方晶格密排面及密排方向材料科學(xué)基礎(chǔ)密排面{110}材料科學(xué)基礎(chǔ)體心立方晶格中點(diǎn)陣常數(shù)和原子半徑的關(guān)系bcc材料科學(xué)基礎(chǔ)體心立方晶格中點(diǎn)陣常數(shù)和原子半徑的關(guān)系bcc體心立方結(jié)構(gòu)的配位數(shù)及致密度材料科學(xué)基礎(chǔ)配位數(shù)為8致密度bcc體心立方結(jié)構(gòu)的配位數(shù)及致密度材料科學(xué)基礎(chǔ)配位數(shù)為8bcc體心立方八面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)八面體間隙位于晶胞六面體每個(gè)面的中心和每條棱的中心,由一個(gè)面上四個(gè)角和相鄰兩個(gè)晶胞體心共6個(gè)原子圍成,數(shù)量為6。大小為rB=0.154R(在<100>)或rB=0.633R(在<110>)。bcc體心立方八面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)八面體間隙位于晶胞六面體每個(gè)面材料科學(xué)基礎(chǔ)體心立方四面體間隙四面體間隙由兩個(gè)體心原子和兩個(gè)頂角原子所圍成,大小rB=0.291R,有12個(gè)。bcc材料科學(xué)基礎(chǔ)體心立方四面體間隙四面體間隙由兩個(gè)體心原子和兩個(gè)3.密排六方晶格(特征)材料科學(xué)基礎(chǔ)1、晶胞中原子排列:正六棱柱體12個(gè)頂角和上下底中心各有一個(gè)原子,正六棱柱體中心有三個(gè)原子2、晶胞中原子數(shù):n=12×1/6+2×1/2+3=6個(gè)3、密排面和密排方向:{0001}<110>4、點(diǎn)陣常數(shù)與原子半徑的關(guān)系:a=2R(c/a=1.633)5、配位數(shù)與致密度配位數(shù)CN=12
致密度k=0.746、原子堆垛方式:ABAB……7、間隙:八面體間隙、四面體間隙3.密排六方晶格(特征)材料科學(xué)基礎(chǔ)1、晶胞中原子排列:正六
密排六方晶格原子位置材料科學(xué)基礎(chǔ)hcp密排六方晶格原子位置材料科學(xué)基礎(chǔ)hcp
密排六方晶格晶胞原子數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)n=12×1/6+2×1/2+3=6個(gè)hcp密排六方晶格晶胞原子數(shù)材料科學(xué)基礎(chǔ)n=12×1/6+密排六方晶格密排面及密排方向材料科學(xué)基礎(chǔ)密排面{0001}密排方向<110>hcp密排六方晶格密排面及密排方向材料科學(xué)基礎(chǔ)密排面{0001}密排六方晶格中點(diǎn)陣常數(shù)和原子半徑的關(guān)系材料科學(xué)基礎(chǔ)a=2R(c/a=1.633)hcp密排六方晶格中點(diǎn)陣常數(shù)和原子半徑的關(guān)系材料科學(xué)基礎(chǔ)a=
密排六方晶格原子配位數(shù)及致密度材料科學(xué)基礎(chǔ)配位數(shù)為12致密度hcp密排六方晶格原子配位數(shù)及致密度材料科學(xué)基礎(chǔ)配位數(shù)為12材料科學(xué)基礎(chǔ)密排六方結(jié)構(gòu)中原子密排面的堆垛順序ABAB……h(huán)cp材料科學(xué)基礎(chǔ)密排六方結(jié)構(gòu)中原子密排面的堆垛順序ABAB……h(huán)密排六方晶格八面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)八面體間隙有6個(gè),當(dāng)c/a=1.633時(shí),rB=0.414rAhcp密排六方晶格八面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)八面體間隙有6個(gè),當(dāng)c/a
密排六方晶格四面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)四面體間隙有12個(gè),當(dāng)c/a=1.633時(shí),rB=0.225rAhcp密排六方晶格四面體間隙材料科學(xué)基礎(chǔ)四面體間隙有12個(gè),1.4.2多晶型性
多晶型性指某些金屬在不同溫度和壓力下具有不同的晶體結(jié)構(gòu)。
多晶型性轉(zhuǎn)變指金屬在外部條件(如T和P)改變時(shí),其內(nèi)部從一種晶體結(jié)構(gòu)向另一種晶體結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)變,又稱(chēng)同素異構(gòu)轉(zhuǎn)變。例如純鐵:材料科學(xué)基礎(chǔ)1394°C912°C具有多晶型性的金屬還有Mn、Ti、Sn、Zr等。1.4.2多晶型性多晶型性指某些金屬在不同溫度和壓力下
概述合金:兩種或兩種以上的金屬或金屬與非金屬經(jīng)熔煉或其它方法制成的具有金屬特性的物質(zhì)。組元:組成合金的基本的獨(dú)立的物質(zhì),組元可以是純金屬、非金屬元素、或化合物相:合金中具有同一聚集狀態(tài)、同一晶體結(jié)構(gòu)和性質(zhì)并以界面相互隔開(kāi)的均勻組成部分。單相合金:由一種相組成的合金多相合金:由幾種不同的相組成的合金
材料科學(xué)基礎(chǔ)1.4合金相結(jié)構(gòu)
概述材料科學(xué)基礎(chǔ)1.材料科學(xué)基礎(chǔ)固溶體中間相固溶體是以某一組元為溶劑,在其晶體點(diǎn)陣中溶人其他組元原子(溶質(zhì)原子)所形成的均勻混合的固態(tài)溶體,它保持著溶劑的晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)型兩組元AB組成合金時(shí),除了可形成以A為基或以B為基的固溶體,還可能形成晶體結(jié)構(gòu)與A、B兩組元均不相同的新相。由于它們?cè)诙鄨D上的位置總是位于中間,故通常稱(chēng)為中間相。中間相可以是化合物,也可以是以化合物為基的固溶體。材料科學(xué)基礎(chǔ)固溶體中間相固溶體是以某一組元為溶劑,在其晶體點(diǎn)1.4.1固溶體
(1)按溶質(zhì)原子在點(diǎn)陣中所占位置分為:置換固溶體:溶質(zhì)原子置換了溶劑點(diǎn)陣中部分溶劑原子。間隙固溶體:溶質(zhì)原子分布于溶劑晶格間隙中。(2)按溶質(zhì)原子在溶劑原子中溶解度分類(lèi):有限固溶體:在一定條件下,溶質(zhì)原子在溶劑中的溶解量有一個(gè)上限,起過(guò)這個(gè)限度就形成新相。無(wú)限固溶體:溶質(zhì)原子可以任意比例溶入溶劑晶格中形成的。如:Cu—NiAu—AgTi—Zr····,結(jié)構(gòu)相同。(3)按溶質(zhì)原子在溶劑中的分布特點(diǎn)分類(lèi)
無(wú)序固溶體:溶質(zhì)原子在溶劑中任意分布,無(wú)規(guī)律性。
有序固溶體:溶質(zhì)原子按一定比例和有規(guī)律分布在溶劑晶格的點(diǎn)陣或間隙里。(4)按基體類(lèi)型分類(lèi):
一次固溶體:以純金屬為基形成的固溶體。
二次固溶體:以化合物為基形成的固溶體。材料科學(xué)基礎(chǔ)固溶體的最大特點(diǎn)是保持溶劑的晶體結(jié)構(gòu)。1.4.1固溶體(1)按溶質(zhì)原子在點(diǎn)陣中所占位置分為:固溶體的兩種類(lèi)型(置換和間隙)材料科學(xué)基礎(chǔ)固溶體的兩種類(lèi)型(置換和間隙)材料科學(xué)基礎(chǔ)影響置換固溶體溶解度的因素:材料科學(xué)基礎(chǔ)1、置換固溶體電負(fù)性因素原子尺寸因素晶體結(jié)構(gòu)因素原子價(jià)因素相同可形成無(wú)限固溶體,不同則只能形成有限固溶體原子半徑差小于15%,可形成溶解度較大的固溶體;原子半徑差大于15%時(shí),半徑差越大,溶解度越低;原因:點(diǎn)陣畸變隨原子半徑差增大而增加。溶劑和溶質(zhì)之間的化學(xué)親和力越大,越容易形成化合物;電負(fù)性相近的元素間可能有較大的固溶度當(dāng)原子尺寸因素較為有利時(shí),在某些以一價(jià)金屬為基的固溶體中,溶質(zhì)的原子價(jià)越高,其固溶度越小。影響置換固溶體溶解度的因素:材料科學(xué)基礎(chǔ)1、置換固溶體電負(fù)性置換固溶體大小溶質(zhì)原子引起的點(diǎn)陣畸變材料科學(xué)基礎(chǔ)置換固溶體大小溶質(zhì)原子引起的點(diǎn)陣畸變材料科學(xué)基礎(chǔ)間隙固溶體的的溶質(zhì)原子是一些原子半徑小于0.1nm的非金屬元素(如C、N、O、、H、B)。其形成條件是△r>41%或r質(zhì)/r劑<0.59間隙固溶體只能是有限固溶體,一般溶解度較小。如:碳原子在α-Fe(最大Wt=0.0218%)和γ-Fe(最大Wt=2.11%)中形成的間隙固溶體為有限固溶體。材料科學(xué)基礎(chǔ)間隙固溶體的的溶質(zhì)原子是一些原子半徑小于0.1nm的非金屬元間隙固溶體中的點(diǎn)陣畸變材料科學(xué)基礎(chǔ)間隙固溶體中的點(diǎn)陣畸變材料科學(xué)基礎(chǔ)3.固溶體的微觀不均勻性
固溶體中溶質(zhì)原子的分布并不是完全無(wú)序的。一般認(rèn)為熱力學(xué)上平衡狀態(tài)的無(wú)序固溶體溶質(zhì)原子分布在宏觀上是均勻的,在微觀上是不均勻的。在一定條件下,溶質(zhì)原子和溶劑原子在整個(gè)晶體中按一定的順序排列起來(lái),形成有序固溶體。有序固溶體中溶質(zhì)原子和溶劑原子之比是固定的,可以用化學(xué)分子式來(lái)表示,因此把有序固溶體結(jié)構(gòu)稱(chēng)為超點(diǎn)陣。例如:在Cu-Al合金中,Cu:Al原子比是1:1或3:1時(shí)從液態(tài)緩冷條件下可形成有序的超點(diǎn)陣結(jié)構(gòu),用CuAl或Cu3Al來(lái)表示。材料科學(xué)基礎(chǔ)3.固溶體的微觀不均勻性固溶體中溶質(zhì)原子的分布4、固溶體的性質(zhì)
固溶體中由于含有溶質(zhì)原子會(huì)引起點(diǎn)陣常數(shù)、性能的變化。表現(xiàn)為以下幾個(gè)方面:
(1)點(diǎn)陣常數(shù)改變置換固溶體:r質(zhì)>r劑,a增大;r質(zhì)<r劑,a減小。間隙固溶體:a始終隨溶質(zhì)原子溶入而增大。
(2)固溶強(qiáng)化:溶質(zhì)原子溶入,使其硬度和強(qiáng)度升高。
(3)物理化學(xué)性能改變。材料科學(xué)基礎(chǔ)4、固溶體的性質(zhì)固溶體中由于含有溶質(zhì)原子會(huì)引1.4.2中間相
中間相是合金組元間發(fā)生相互作用而形成的一種新相,它可以是化合物,也可以是以化合物為基的固溶體(二次固溶體),一般可以用化學(xué)分子式來(lái)表示,但不一定符合化合價(jià)規(guī)律。中間相中原子的結(jié)合方式為金屬鍵與其它結(jié)合鍵相混合的方式。它們都具有金屬特性。中間相分類(lèi):正常價(jià)化合物、電子化合物、原子尺寸有關(guān)化的化合物(間隙相、間隙化合物、TCP相)、超結(jié)構(gòu)。材料科學(xué)基礎(chǔ)1.4.2中間相中間相是合金組元間發(fā)生相互作用而形成的一1.正常價(jià)化合物
正常價(jià)化合物是一些金屬與電負(fù)性較強(qiáng)的ⅥA、ⅤA、ⅣA族的一些元素按照化學(xué)上的原子價(jià)規(guī)律所形成的化合物。其特點(diǎn)是符合化合物規(guī)律。具有嚴(yán)格的化合比、成分固定不變,成分可用化學(xué)式表示,一般為AB型、AB2型或A2B型、A3B2型。正常價(jià)化合物的晶體結(jié)構(gòu)通常對(duì)應(yīng)于同類(lèi)分子式的離子化合物結(jié)構(gòu)。例如:A2B型Mg2PbMg2SnMg2GeMg2SiAB型MgSMnSFeS正常價(jià)化合物在常溫時(shí)有很高的硬度和脆性。在工業(yè)合金中,能起到提高材料強(qiáng)度和硬度的作用,稱(chēng)為強(qiáng)化相。如Al-Mg-Si合金中Mg2Si;但有時(shí)也是有害相,如鋼中FeS會(huì)引起鋼的脆性。材料科學(xué)基礎(chǔ)1.正常價(jià)化合物正常價(jià)化合物是一些金屬與電負(fù)性較強(qiáng)的ⅥA、2.電子價(jià)化合物
電子價(jià)化合物是由ⅠB族(Cu、Au、Ag)或過(guò)渡族金屬(Fe、Co、Ni)與ⅡB、ⅢA、ⅣA族元素形成的金屬化合物。電子價(jià)化合物的特點(diǎn)是不遵循原子價(jià)規(guī)律、電子濃度是決定其晶體結(jié)構(gòu)的主要因素。電子濃度相同,相的晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)型相同。
電子濃度=(化合物元素價(jià)電子總數(shù)/化合物原子數(shù))注:計(jì)算時(shí)過(guò)渡族元素時(shí)價(jià)電子數(shù)視為0。電子濃度、相、結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)關(guān)系如下:
C電子==7/4(即21/12)ε密排六方結(jié)構(gòu)
C電子==21/13γ復(fù)雜立方結(jié)構(gòu)
C電子==3/2(即21/14)β體心立方結(jié)構(gòu)
β-Mn復(fù)雜立方或密排六方結(jié)構(gòu)
電子價(jià)化合物具有金屬特性,具有高熔點(diǎn)、高硬度但塑性低,與固溶體適當(dāng)搭配使合金得到強(qiáng)化,作為非Fe合金中重要組成相。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.電子價(jià)化合物電子價(jià)化合物是由ⅠB族(Cu、3.與原子尺寸因素有關(guān)的化合物間隙相和間隙化合物
間隙相和間隙化合物是由過(guò)渡族金屬與原子半徑很小的非金屬元素(C、H、N、B等)組成的。
rx/rm<0.59時(shí)形成簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)的間隙相
rx/rm>0.59時(shí)形成復(fù)雜結(jié)構(gòu)的間隙化合物材料科學(xué)基礎(chǔ)3.與原子尺寸因素有關(guān)的化合物間隙相和間隙化合物材料科學(xué)
間隙相的晶格類(lèi)型比較簡(jiǎn)單且與組元的結(jié)構(gòu)不同。在間隙相晶格中金屬原子占據(jù)正常位置,非金屬原子占據(jù)間隙位置,有如下規(guī)律:
rx/rm<0.414時(shí)進(jìn)入四面體間隙
rx/rm>0.414時(shí)進(jìn)入八面體間隙化學(xué)式:M4XM2XMXMX2。間隙相的化學(xué)式與晶格類(lèi)型有一定的對(duì)應(yīng)關(guān)系。間隙相具有金屬特性如有金屬光澤、良好的導(dǎo)電性、極高的硬度和熔點(diǎn),是合金工具鋼、硬質(zhì)合金和高溫金屬陶瓷材料的重要組成相。材料科學(xué)基礎(chǔ)a、間隙相間隙相的晶格類(lèi)型比較簡(jiǎn)單且與組元的結(jié)構(gòu)不同。在間隙相
間隙化合物的晶體結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜。其表達(dá)式有如下類(lèi)型:M3C、M7C3、M23C6、M6C。間隙化合物中金屬元素M常被其它金屬元素所代替形成化合物為基的固溶體(二次固溶體)。在H、N、C、B等非金屬元素中,由于H和N的原子半徑很小,與所有過(guò)渡族金屬都滿(mǎn)足rx/rm<0.59,所以過(guò)渡族金屬的氫化物、氮化物都為間隙相;而硼原子半徑rB/rm>0.59較大,rB/rm>0.59,硼化物均為間隙化合物;而碳原子半徑處于中間,某些碳化物為間隙相,某些為間隙化合物。間隙化合物的熔點(diǎn)、硬度較高,也是強(qiáng)化相。材料科學(xué)基礎(chǔ)b間隙化合物間隙化合物的晶體結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜。其表達(dá)式有如下類(lèi)材料科學(xué)基礎(chǔ)(2)TCP相TCP相的特點(diǎn):TCP相的類(lèi)型:①由配位數(shù)為12、14、15、16的配位多面體堆垛而成;②呈層狀結(jié)構(gòu)。①Lavs相AB2型鎂合金、不銹鋼中出現(xiàn)。②σ相AB型或AxBx型有害相材料科學(xué)基礎(chǔ)(2)TCP相TCP相的特點(diǎn):TCP相的類(lèi)型4.超結(jié)構(gòu)—有序固溶體材料科學(xué)基礎(chǔ)長(zhǎng)程有序的固溶體在其X射線衍射圖上會(huì)產(chǎn)生外加的衍射線條,稱(chēng)為超結(jié)構(gòu)線,所以有序固溶體通常稱(chēng)為超結(jié)構(gòu)或超點(diǎn)陣。4.超結(jié)構(gòu)—有序固溶體材料科學(xué)基礎(chǔ)長(zhǎng)程有序的固溶體在其X射線材料科學(xué)基礎(chǔ)(全套429張課件)材料科學(xué)基礎(chǔ)晶體缺陷2.1本章綜述2.2點(diǎn)缺陷2.2.1點(diǎn)缺陷的形成2.2.2點(diǎn)缺陷的平衡濃度2.2.3點(diǎn)缺陷的運(yùn)動(dòng)2.2.4點(diǎn)缺陷對(duì)結(jié)構(gòu)和性能的影響2.3位錯(cuò)2.3.1位錯(cuò)的基本類(lèi)型和特征2.3.2柏氏矢量2.3.3位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)2.3.4位錯(cuò)的彈性性質(zhì)2.3.5位錯(cuò)的生成和增殖2.3.6實(shí)際晶體結(jié)構(gòu)中的位錯(cuò)2.4材料中的面缺陷2.4.1外表面2.4.2晶界和亞晶界2.4.3孿晶界2.4.4相界材料科學(xué)基礎(chǔ)晶體缺陷2.1本章綜述2.3位錯(cuò)2.線缺陷面缺陷點(diǎn)缺陷材料科學(xué)基礎(chǔ)在實(shí)際晶體中,由于原子(或離子、分子)的熱運(yùn)動(dòng),以及晶體的形成條件,冷熱加工過(guò)程和其他輻射、雜質(zhì)等因素的影響,實(shí)際晶體中原子的排列不可能那樣規(guī)則、完整,常存在各種偏離理想結(jié)構(gòu)的情況,即晶體缺陷。晶體缺陷對(duì)晶體的性能,特別是對(duì)那些結(jié)構(gòu)敏感的性能,如屈服強(qiáng)度、斷裂強(qiáng)度、塑性、電阻率、磁導(dǎo)率等都有很大影響。另外,晶體缺陷還與擴(kuò)散、相變、塑性變形、再結(jié)晶、氧化、燒結(jié)等都有密切關(guān)系。根據(jù)晶體缺陷的幾何特征,可將它們分為三類(lèi):2.1本章綜述線缺陷面缺陷點(diǎn)缺陷材料科學(xué)基礎(chǔ)在實(shí)際晶體中,由于2.2點(diǎn)缺陷點(diǎn)缺陷是最簡(jiǎn)單的晶體缺陷,它是在結(jié)點(diǎn)上或鄰近的微觀區(qū)域內(nèi)偏離晶體結(jié)構(gòu)正常排列的一種缺陷。晶體點(diǎn)缺陷包括:空位置換原子雜質(zhì)間隙原子材料科學(xué)基礎(chǔ)2.2點(diǎn)缺陷點(diǎn)缺陷是最簡(jiǎn)單的晶體缺陷,它2.2.1點(diǎn)缺陷的形成在晶體中,位于點(diǎn)陣結(jié)點(diǎn)上的原子并非是靜止的,而是以其平衡位置為中心作熱振動(dòng)。當(dāng)溫度一定時(shí),原子熱振動(dòng)的平均能量是一定的,但是各個(gè)原子的熱振動(dòng)能量并不相同,而且每個(gè)原子的熱振動(dòng)能量在不同的瞬間也不同,即存在能量起伏。當(dāng)某一原子的熱振動(dòng)能量高到足以克服周?chē)拥氖`時(shí),它就可能跳離原來(lái)的位置,離開(kāi)平衡位置的原子有三個(gè)去處:(1)形成Schottky空位(2)形成Frankely缺陷(3)跑到其它空位上使空位消失或移位。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.2.1點(diǎn)缺陷的形成在晶體中,位于點(diǎn)陣結(jié)點(diǎn)上2.2.2點(diǎn)缺陷的平衡濃度
晶體中點(diǎn)缺陷的存在一方面造成點(diǎn)陣畸變,使晶體的內(nèi)能升高,降低了晶體的熱力學(xué)穩(wěn)定性,另一方面由于增大了原子排列的混亂程度,并改變了其周?chē)拥恼駝?dòng)頻率,引起組態(tài)熵和振動(dòng)熵的改變,使晶體熵值增大,增加了晶體的熱力學(xué)穩(wěn)定性。這兩個(gè)相互矛盾的因素使得晶體中的點(diǎn)缺陷在一定的溫度下有一定的平衡濃度。這個(gè)濃度稱(chēng)為該溫度下晶體中點(diǎn)缺陷的平衡濃度。經(jīng)熱力學(xué)推導(dǎo):材料科學(xué)基礎(chǔ)2.2.2點(diǎn)缺陷的平衡濃度晶體中點(diǎn)缺陷的存在一
在一般的晶體中間隙原子的形成能△E′v較大(約為空位形成能△Ev的3~4倍)。因此,在同一溫度下,晶體中間隙原子的平衡濃度C要比空位的平衡濃度C′低得多。因此,在通常情況下,相對(duì)于空位,間隙原子可以忽略不計(jì);但是在高能粒子輻照后,產(chǎn)生大量的弗蘭克爾缺陷,間隙原子數(shù)就不能忽略了。對(duì)離子晶體,和純金屬相比,點(diǎn)缺陷形成能都很大,故一般離子晶體中,在平衡狀態(tài)下存在的點(diǎn)缺陷濃度是極小的。金屬種類(lèi)
Pb
Al
Mg
Au
Cu
Pt
W△Ev×10-8J0.080.120.140.150.170.240.56C9.2×10-62.8×10-81.5×10-93.6×10-102.0×10-117.8×10-165.7×10-36△Ev對(duì)C的影響材料科學(xué)基礎(chǔ)在一般的晶體中間隙原子的形成能△E′v較大(約為空位在一定溫度下,晶體中達(dá)到統(tǒng)計(jì)平衡的空位和間隙原子的數(shù)目是一定的,但是晶體中的點(diǎn)缺陷并不是固定不動(dòng)的,而是處于不斷的運(yùn)動(dòng)過(guò)程中。點(diǎn)缺陷的運(yùn)動(dòng)方式:(1)空位運(yùn)動(dòng)。(2)間隙原子遷移。(3)空位和間隙原子相遇,兩缺陷同時(shí)消失。(4)逸出晶體到表面,或移到晶界,點(diǎn)缺陷消失。2.2.3點(diǎn)缺陷的運(yùn)動(dòng)材料科學(xué)基礎(chǔ)在一定溫度下,晶體中達(dá)到統(tǒng)計(jì)平衡的空位和間隙原子的點(diǎn)缺陷引起晶格畸變,能量升高,結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定,易發(fā)生轉(zhuǎn)變。點(diǎn)缺陷的存在會(huì)引起性能的變化:(1)物理性質(zhì)、如R、V、ρ等;(2)力學(xué)性能:采用高溫急冷(如淬火,大量的冷變形),高能粒子輻照等方法可獲得過(guò)飽和點(diǎn)缺陷,如使σS提高;(3)影響固態(tài)相變,化學(xué)熱處理等。2.2.4點(diǎn)缺陷對(duì)結(jié)構(gòu)和性能的影響材料科學(xué)基礎(chǔ)2.2.4點(diǎn)缺陷對(duì)結(jié)構(gòu)和性能的影響材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3位錯(cuò)位錯(cuò)的起源:位錯(cuò)的概念最早是在研究晶體滑移過(guò)程時(shí)提出來(lái)的。剛性相對(duì)滑動(dòng)模型:
τm=G/30純鐵:G≈100GPa純鐵的理論臨界切應(yīng)力:約3000MPa純鐵的實(shí)際屈服強(qiáng)度:10MPa
1934年Taylor、Orowan、Polanyi提出位錯(cuò)模型,滑移是通過(guò)稱(chēng)為位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)而進(jìn)行的1950年代位錯(cuò)模型為試驗(yàn)所驗(yàn)證現(xiàn)在,位錯(cuò)是晶體的性能研究中最重要的概念。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3位錯(cuò)位錯(cuò)的起源:材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.1位錯(cuò)的基本類(lèi)型和特征1、刃型位錯(cuò)刃型位錯(cuò)形成過(guò)程原子排列具體模型多余的半原子面與滑移面的交線就稱(chēng)為刃型位錯(cuò)線刃型位錯(cuò)線也可理解為晶體中已滑移區(qū)與未滑移區(qū)的邊界線材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.1位錯(cuò)的基本類(lèi)型和特征1、刃型位錯(cuò)刃型位錯(cuò)形成過(guò)①刃型位錯(cuò)有一個(gè)額外的(多余)半原子面。正刃型位錯(cuò)用“⊥”表示,負(fù)刃型位錯(cuò)用“┬”表示;其正負(fù)只是相對(duì)而言。判斷用右手定則:食指指向位錯(cuò)線方向,中指指向柏氏矢量方向,拇指指向多余半原子面方向。②刃型位錯(cuò)可以是直線、折線或曲線。它與滑移方向、柏氏矢量垂直。③滑移面必須是同時(shí)包含有位錯(cuò)線和滑移矢量的平面。位錯(cuò)線與滑移矢量互相垂直,它們構(gòu)成平面只有一個(gè)。④晶體中存在刃位錯(cuò)后,位錯(cuò)周?chē)狞c(diǎn)陣發(fā)生彈性畸變,既有正應(yīng)變,也有負(fù)應(yīng)變。點(diǎn)陣畸變相對(duì)于多余半原子面是左右對(duì)稱(chēng)的,其程度隨距位錯(cuò)線距離增大而減小。就正刃型位錯(cuò)而言,上方受壓,下方受拉。⑤在位錯(cuò)線周?chē)幕儏^(qū)每個(gè)原子具有較大的平均能量。畸變區(qū)是一個(gè)狹長(zhǎng)的管道。刃型位錯(cuò)的特征材料科學(xué)基礎(chǔ)①刃型位錯(cuò)有一個(gè)額外的(多余)半原子面。正刃型位錯(cuò)用“⊥”2、螺型位錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)2、螺型位錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)1).螺型位錯(cuò)無(wú)額外半原子面,原子錯(cuò)排是呈軸對(duì)稱(chēng)的。2).根據(jù)位錯(cuò)線附近呈螺旋形排列的原子的旋轉(zhuǎn)方向不同,螺型位錯(cuò)可分為右旋和左旋螺型位錯(cuò)。3).螺型位錯(cuò)線與滑移矢量平行,因此一定是直線,而且位錯(cuò)線的移動(dòng)方向與晶體滑移方向互相垂直。4).純螺型位錯(cuò)的滑移面不是唯一的。凡是包含螺型位錯(cuò)線的平面都可以作為它的滑移面。但實(shí)際上,滑移通常是在那些原子密排面上進(jìn)行。5).螺型位錯(cuò)線周?chē)狞c(diǎn)陣也發(fā)生了彈性畸變,但是,只有平行于位錯(cuò)線的切應(yīng)變而無(wú)正應(yīng)變,即不會(huì)引起體積膨脹和收縮,且在垂直于位錯(cuò)線的平面投影上,看不到原子的位移,看不出有缺陷。6).螺型位錯(cuò)周?chē)狞c(diǎn)陣畸變隨離位錯(cuò)線距離的增加而急劇減少,故它也是包含幾個(gè)原子寬度的線缺陷。螺型位錯(cuò)的特征:材料科學(xué)基礎(chǔ)1).螺型位錯(cuò)無(wú)額外半原子面,原子錯(cuò)排是呈軸對(duì)稱(chēng)的。螺型位3、混合位錯(cuò)除了上面介紹的兩種基本型位錯(cuò)外,還有一種形式更為普遍的位錯(cuò),其滑移矢量既不平行也不垂直于位錯(cuò)線,而是與位錯(cuò)線相交成任意角度,這種位錯(cuò)稱(chēng)為混合位錯(cuò)。插入混合位錯(cuò)的形成過(guò)程動(dòng)畫(huà)材料科學(xué)基礎(chǔ)3、混合位錯(cuò)除了上面介紹的兩種基本型位錯(cuò)外,還有2.3.2柏氏矢量1.柏氏矢量的確定:(1)
選定位錯(cuò)線的正方向(ξ)一般選定出紙面的方向?yàn)槲诲e(cuò)線的正向。(2)在實(shí)際晶體中作柏氏回路(3)
在完整晶體中按(2)中相同方向和步數(shù)作回路?;芈凡环忾],由終點(diǎn)向起點(diǎn)作矢量,即為柏氏矢量。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.2柏氏矢量1.柏氏矢量的確定:材料科學(xué)基礎(chǔ)2.用柏氏矢量判斷位錯(cuò)類(lèi)型(1)
刃型位錯(cuò)ξ⊥b
右手法則:食指指向位錯(cuò)線方向,中指指向柏氏矢量方向,拇指指向代表多余半面子面位向,向上為正,向下為負(fù)。(2)
螺型位錯(cuò)ξ∥b
正向(方向相同)為右螺旋位錯(cuò),負(fù)向(方向相反)為左螺旋位錯(cuò)。(3)
混合位錯(cuò)柏氏矢量與位錯(cuò)線方向成夾角φ材料科學(xué)基礎(chǔ)2.用柏氏矢量判斷位錯(cuò)類(lèi)型(1)
刃型位錯(cuò)ξ⊥b材料3.柏氏矢量的物理意義及特性
柏氏矢量特性:(1)
用柏氏矢量可以表示位錯(cuò)區(qū)域晶格畸變總量的大小。柏氏矢量可表示位錯(cuò)性質(zhì)和取向,即晶體滑移方向。柏氏矢量越大,位錯(cuò)周?chē)w畸變?cè)絿?yán)重。(2)
柏氏矢量具有守恒性。即一條位錯(cuò)線的柏氏矢量恒定不變。(柏氏矢量與回路起點(diǎn)及其具體途徑無(wú)關(guān))(3)
柏氏矢量的唯一性。即一根位錯(cuò)線具有唯一的柏氏矢量。(4)
柏氏矢量守恒定律。①位錯(cuò)分解②位錯(cuò)交于一點(diǎn)柏氏矢量的物理意義是一個(gè)反映位錯(cuò)性質(zhì)以及由位錯(cuò)引起的晶格畸變大小的物理量。材料科學(xué)基礎(chǔ)3.柏氏矢量的物理意義及特性柏氏矢量特性:柏氏矢量的物理3.柏氏矢量的特性
(5)
位錯(cuò)的連續(xù)性:可以形成位錯(cuò)環(huán)、連接于其他位錯(cuò)、終止于晶界或露頭于表面,但不能中斷于晶體內(nèi).(6)
可用柏氏矢量判斷位錯(cuò)類(lèi)型刃型位錯(cuò):ξe⊥be,右手法則判斷正負(fù)螺型位錯(cuò):ξs∥bs,二者同向右旋,反向左旋(7)柏氏矢量表示晶體滑移方向和大小.大小|b|,方向?yàn)榘厥鲜噶糠较颉?8)
刃型位錯(cuò)滑移面為ξ與柏氏矢量所構(gòu)成的平面,只有一個(gè);螺型位錯(cuò)滑移面不定,多個(gè)。材料科學(xué)基礎(chǔ)3.柏氏矢量的特性(5)
位錯(cuò)的連續(xù)性:可以形成位錯(cuò)環(huán)、4.
柏氏矢量表示法:柏氏矢量的大小和方向可用它在晶軸上的分量,即用點(diǎn)陣矢量abc來(lái)表示。一般立方晶系中柏氏矢量可表示為:b=a/n<uvw>,其中n為正整數(shù)。通常還用︱b︱=a/n√ ̄ ̄ ̄ ̄來(lái)表示位錯(cuò)的強(qiáng)度,稱(chēng)為柏氏矢量的大小或模,即位錯(cuò)的強(qiáng)度。同一晶體中,柏氏矢量越大,表明該位錯(cuò)導(dǎo)致點(diǎn)陣畸變?cè)絿?yán)重,它所處的能量也越高,能量較高的位錯(cuò)傾向于分解為兩個(gè)或多個(gè)能量較低的位錯(cuò),以使系統(tǒng)的自由能下降。u2+v2+w2材料科學(xué)基礎(chǔ)4.
柏氏矢量表示法:柏氏矢量的大小和方向可用它在晶軸2.3.3位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)方式有兩種最基本形式:位錯(cuò)最重要的性質(zhì)之一是它可在晶體中運(yùn)動(dòng),而晶體宏觀的塑性變形是通過(guò)位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。晶體的力學(xué)性能如強(qiáng)度、塑性和斷裂等均與位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)有關(guān)。滑移攀移除滑移和攀移外還有交割和扭折材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.3位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)方式有兩種最基本形式:位錯(cuò)1.位錯(cuò)的滑移
任何類(lèi)型的位錯(cuò)均可進(jìn)行滑移.
(1)刃位錯(cuò)的滑移過(guò)程∥b、b⊥、滑移方向⊥、滑移方向∥b,單一滑移面。(2)螺型位錯(cuò)的滑移過(guò)程∥b、b∥、滑移方向⊥
、滑移方向⊥
b,非單一滑移面??砂l(fā)生交滑移。(3)混合位錯(cuò)的滑移過(guò)程沿位錯(cuò)線各點(diǎn)的法線方向在滑移面上擴(kuò)展,滑動(dòng)方向垂直于位錯(cuò)線方向。但滑動(dòng)方向與柏氏矢量有夾角。材料科學(xué)基礎(chǔ)1.位錯(cuò)的滑移任何類(lèi)型的位錯(cuò)均可進(jìn)行滑移.材料科學(xué)基礎(chǔ)僅當(dāng)有切應(yīng)力作用在一個(gè)位錯(cuò)的滑移面上,并且平行于它的柏氏矢量時(shí),這個(gè)位錯(cuò)才會(huì)運(yùn)動(dòng)或趨于運(yùn)動(dòng)。刃位錯(cuò)螺位錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)僅當(dāng)有切應(yīng)力作用在一個(gè)位錯(cuò)的滑移面上,并且平行于它的2.位錯(cuò)的攀移
位錯(cuò)的攀移:在垂直于滑移面方向上運(yùn)動(dòng)攀移的實(shí)質(zhì):刃位錯(cuò)多余半原子面的擴(kuò)大和縮小.刃位錯(cuò)的攀移過(guò)程:正攀移,向上運(yùn)動(dòng);負(fù)攀移,向下運(yùn)動(dòng)注意:只有刃型位錯(cuò)才能發(fā)生攀移;滑移不涉及原子擴(kuò)散,而攀移必須借助原子擴(kuò)散;外加應(yīng)力對(duì)攀移起促進(jìn)作用,壓(拉)促進(jìn)正(負(fù))攀移;高溫影響位錯(cuò)的攀移攀移力:化學(xué)攀移力,彈性攀移驅(qū)動(dòng)力(作用在多余半原子面的正應(yīng)力)。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.位錯(cuò)的攀移位錯(cuò)的攀移:在垂直于滑移面方向上運(yùn)動(dòng)材料3.位錯(cuò)的交割①刃型位錯(cuò)的割階仍為刃型位錯(cuò),扭折為螺型位錯(cuò)。螺型位錯(cuò)的割階和扭折均為刃型位錯(cuò)。②刃型位錯(cuò)的扭折是一可動(dòng)螺位錯(cuò),割階也是一可動(dòng)的刃位錯(cuò)。螺型位錯(cuò)的扭折是可動(dòng)的刃型位錯(cuò),割階是不可動(dòng)的刃型位錯(cuò)。割階扭折曲折段垂直于位錯(cuò)的滑移面曲折段在位錯(cuò)的滑移面注意材料科學(xué)基礎(chǔ)3.位錯(cuò)的交割①刃型位錯(cuò)的割階仍為刃型位錯(cuò),扭折為螺型位錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)材料科學(xué)基礎(chǔ)
結(jié)論:①運(yùn)動(dòng)位錯(cuò)交割后,可以產(chǎn)生扭折或割階,其大小和方向取決與另一位錯(cuò)的柏氏矢量,其方向平行,大小為其模,但具原位錯(cuò)的柏氏矢量。如果另一位錯(cuò)的柏氏矢量與該位錯(cuò)線平行,則交割后該位錯(cuò)線不出現(xiàn)曲折。②所有割階都是刃位錯(cuò),而扭折可以是刃位錯(cuò),也可以是螺位錯(cuò)。交割后曲折段的方向取決與位錯(cuò)相對(duì)滑移過(guò)后引起晶體的相對(duì)位移情況。相對(duì)位移可通過(guò)右手定則來(lái)判斷。③扭折與原位錯(cuò)在同一滑面上,可隨主位錯(cuò)線一起運(yùn)動(dòng),幾乎不產(chǎn)生阻力,且扭折在線張力作用下易與消失。割階與原位錯(cuò)線在同一滑移面上,除攀移外割階一般不能隨主位錯(cuò)一起運(yùn)動(dòng),成為位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的障礙。材料科學(xué)基礎(chǔ)結(jié)論:材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.4位錯(cuò)的彈性性質(zhì)(1)內(nèi)應(yīng)力的表示法內(nèi)應(yīng)力用9個(gè)分量表示(a)直角坐標(biāo)系(xyz)3個(gè)正應(yīng)力分量(σxxσyyσzz)和6個(gè)切應(yīng)力分量(τxy=τyxτyz=τzyτxz=τzx);下標(biāo)中第1個(gè)字母表示應(yīng)力作用面的外法線方向,第2字母表示應(yīng)力的指向。1.
位錯(cuò)的應(yīng)力場(chǎng)
采用彈性連續(xù)介質(zhì)模型;三個(gè)假說(shuō):完全彈性體由連續(xù)介質(zhì)組成各向同性材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.4位錯(cuò)的彈性性質(zhì)(1)內(nèi)應(yīng)力的表示法1.
(b)圓柱坐標(biāo)系(rθz)3個(gè)正應(yīng)力分量(σθθ、σzz、σrr)和六個(gè)切應(yīng)力分量(τzr=τrz、τrθ=τθr、τzθ=τθz)
注:(1)單元六面體中各面上的切應(yīng)力都是成雙出現(xiàn)的,表示力的方向時(shí)規(guī)定以作用在體積元的上、前、右面上的力為判斷標(biāo)準(zhǔn)。(2)圓柱θ以逆時(shí)針?lè)较驗(yàn)檎?3)
二者換算:x=rcosθy=rsinθ、z=z材料科學(xué)基礎(chǔ)(b)圓柱坐標(biāo)系(rθz)材料科學(xué)基礎(chǔ)(2)螺型位錯(cuò)應(yīng)力場(chǎng)
螺位錯(cuò)的應(yīng)力場(chǎng)為純的切應(yīng)力場(chǎng),大小與螺位錯(cuò)柏氏矢量成正比,與r成反比。只有一個(gè)切應(yīng)變。所以
τzθ=τθz=Gb/2лrσrr=σθθ=σzz=τθr=τrθ=τrz=τzr=0
也可用直角坐標(biāo)系表示,但需要注意上式和3.10式為右螺旋位錯(cuò)周?chē)膽?yīng)力場(chǎng);如果是左螺旋位錯(cuò),則符號(hào)相反。螺位錯(cuò)應(yīng)力場(chǎng)特點(diǎn):①只有切應(yīng)力分量,沒(méi)有正應(yīng)力分量。②應(yīng)力場(chǎng)是呈軸對(duì)稱(chēng)分布大。即在同一半徑上,無(wú)論值大小,切應(yīng)力值都相等。③上式不適用于位錯(cuò)中心的嚴(yán)重畸變區(qū)。材料科學(xué)基礎(chǔ)(2)螺型位錯(cuò)應(yīng)力場(chǎng)螺位錯(cuò)的應(yīng)力場(chǎng)為純的切應(yīng)力場(chǎng),大σzz=ν(σxx+σyy)
τxz=τzx=τyz=τzy=0
(3)刃型位錯(cuò)應(yīng)力場(chǎng)材料科學(xué)基礎(chǔ)σzz=ν(σxx+σyy)τxz=τzx=τy①正應(yīng)力分量和切應(yīng)力分量同時(shí)存在。②各應(yīng)力分量都是x、y的函數(shù),而與z無(wú)關(guān)。③應(yīng)力場(chǎng)以多余半原子面對(duì)稱(chēng)。④y=0時(shí),σ=0只有切應(yīng)力而無(wú)正應(yīng)力,切應(yīng)力最大值Gb/[2л(1-υ)x]⑤y>0時(shí),σxx<0;y<0時(shí),σyy>0。說(shuō)時(shí)正刃位錯(cuò)滑移面上部受壓,下部分受拉。⑥應(yīng)力場(chǎng)中任意一點(diǎn)位置,|σxx|>|σyy|⑦x=±y時(shí)及y軸上σyy=0,τxy=0,說(shuō)明在直角坐標(biāo)系中的對(duì)角線處只有σxx,而且在每條對(duì)角線的兩側(cè),τxy及σyy
的符號(hào)相反。⑧
上述公式不能適用于刃位錯(cuò)的中心區(qū)。刃位錯(cuò)應(yīng)力場(chǎng)特點(diǎn):材料科學(xué)基礎(chǔ)①正應(yīng)力分量和切應(yīng)力分量同時(shí)存在。刃位錯(cuò)應(yīng)力場(chǎng)特點(diǎn):材料科2位錯(cuò)的應(yīng)變能位錯(cuò)周?chē)c(diǎn)陣畸變引起彈性應(yīng)力場(chǎng)導(dǎo)致的晶體能量的增加——位錯(cuò)的能量。位錯(cuò)的能量位錯(cuò)中心畸變能(大約為總應(yīng)變能的1/10-1/15)位錯(cuò)應(yīng)力場(chǎng)引起的彈性應(yīng)變能(主要
)單位長(zhǎng)度刃型位錯(cuò)的應(yīng)變能:
單位長(zhǎng)度螺型位錯(cuò)的應(yīng)變能:
簡(jiǎn)化的單位長(zhǎng)度位錯(cuò)的總應(yīng)變能:E=αGb2
α約為0.5-1
材料科學(xué)基礎(chǔ)2位錯(cuò)的應(yīng)變能位錯(cuò)的能量位錯(cuò)中心畸變能(大約為總應(yīng)變能的1基本結(jié)論:1)位錯(cuò)的應(yīng)變能與b2成正比,大位錯(cuò)可能分解為小位錯(cuò),以降低系統(tǒng)能量;2)Ees/Eee=1-ν,故螺位錯(cuò)的彈性應(yīng)變能約為刃位錯(cuò)的2/3;3)位錯(cuò)的能量是以單位長(zhǎng)度的能量來(lái)定義的,從系統(tǒng)能量的角度,位錯(cuò)線有盡量變直和縮短其長(zhǎng)度的趨勢(shì);4)位錯(cuò)的存在使晶體處于高能的不穩(wěn)定狀態(tài)。
材料科學(xué)基礎(chǔ)基本結(jié)論:材料科學(xué)基礎(chǔ)3.位錯(cuò)的線張力
線張力可以理解為使位錯(cuò)增加單位長(zhǎng)度所需的能量,故:T=kGb2,k約為0.5-1若位錯(cuò)長(zhǎng)度為ds,單位長(zhǎng)度位錯(cuò)線所受的力為τb則:τb?ds=2Tsin(dθ/2)由于ds=rdθ,當(dāng)dθ很小時(shí),sin(dθ/2)≈(dθ/2)τb=T/r≈Gb2/2r兩端固定的位錯(cuò)在切應(yīng)力τ作用下與位錯(cuò)線彎曲度r的關(guān)系
τ=Gb/2r材料科學(xué)基礎(chǔ)3.位錯(cuò)的線張力材料科學(xué)基礎(chǔ)4.作用于位錯(cuò)上的力
利用虛功原理,可求出Fd=τbFd為作用在單位長(zhǎng)度位錯(cuò)線上的力,其方向與位錯(cuò)垂直并指向滑移面未滑移部分。注意:(1)Fd是一個(gè)假想力(2)Fd被看成是引起位錯(cuò)運(yùn)動(dòng)的原因。Fd必然與位錯(cuò)線運(yùn)動(dòng)方向一致,永遠(yuǎn)垂直于位錯(cuò)線。(3)引起位錯(cuò)線運(yùn)動(dòng)的外切應(yīng)力τ必須作用在滑移面上。在純?nèi)形诲e(cuò)中τ∥Fd,螺位錯(cuò)中τ⊥Fd
上述為滑移力情況引起位錯(cuò)攀移的力:dy=-σb材料科學(xué)基礎(chǔ)4.作用于位錯(cuò)上的力利用虛功原理,可求出Fd=位錯(cuò)與點(diǎn)缺陷的交互作用位錯(cuò)與點(diǎn)缺陷的交互作用5.位錯(cuò)間的交互作用力(1)兩平行螺位錯(cuò)間的交互作用(3)相互平行的刃位錯(cuò)和螺位錯(cuò)間不發(fā)生交互作用,即交互作用力為0。(2)兩平行刃位錯(cuò)間交互作用材料科學(xué)基礎(chǔ)5.位錯(cuò)間的交互作用力(1)兩平行螺位錯(cuò)間的交互作用(3兩平行螺位錯(cuò)的交互作用力兩平行螺型位錯(cuò)間的作用力,其大小與兩位錯(cuò)強(qiáng)度的乘積成正比,而與兩位錯(cuò)間距成反比,其方向則沿徑向r垂直于所作用的位錯(cuò)線,當(dāng)bl與b2同向時(shí),fr>0,即兩同號(hào)平行螺型位錯(cuò)相互排斥;而當(dāng)bl與b2反向時(shí),fr<0,即兩異號(hào)平行螺型位錯(cuò)相互吸引。材料科學(xué)基礎(chǔ)兩平行螺位錯(cuò)的交互作用力兩平行螺型位錯(cuò)兩刃型位錯(cuò)在x軸方向的交互作用材料科學(xué)基礎(chǔ)兩刃型位錯(cuò)在x軸方向的交互作用材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.5位錯(cuò)的生成和增殖
1.位錯(cuò)的密度表達(dá)式:ρ=l/v或ρ=n/A
單位:1/㎡2.位錯(cuò)的生成晶體中位錯(cuò)來(lái)源:(1)晶體生長(zhǎng)過(guò)程中產(chǎn)生。(2)晶體中過(guò)飽和空位的聚集。(3)應(yīng)力集中,產(chǎn)生局部區(qū)域滑移產(chǎn)生位錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.5位錯(cuò)的生成和增殖1.位錯(cuò)的密度材料科學(xué)基礎(chǔ)3.位錯(cuò)的增殖:為使F—R源動(dòng)作,外應(yīng)力需克服位錯(cuò)線彎曲時(shí)線張力所引起的阻力,計(jì)算可知其臨界切應(yīng)力為:材料科學(xué)基礎(chǔ)3.位錯(cuò)的增殖:為使F—R源動(dòng)作,外應(yīng)力需克服位錯(cuò)線彎曲4.位錯(cuò)的塞積晶體塑性變形時(shí)往往發(fā)生這樣的情況,即在一個(gè)滑移面上有許多位錯(cuò)被迫堆積在某種障礙物前,形成位錯(cuò)群的塞積。這些位錯(cuò)來(lái)自于同一位錯(cuò)源,所以具有相同的柏氏矢量。從理論上分析位錯(cuò)塞積群的分布,發(fā)現(xiàn)塞積群在垂直于位錯(cuò)線方向的長(zhǎng)度,對(duì)于刃型位錯(cuò)為Nμb/πτ(1-υ),對(duì)于螺型位錯(cuò)為Nμb/πτ,其中N為塞積群的位錯(cuò)總數(shù),τ為外加切應(yīng)力(實(shí)際上應(yīng)為減掉晶格阻力之后的有效切應(yīng)力)??梢?jiàn)塞積群的長(zhǎng)度正比于N,反比于τ。位錯(cuò)塞積群的一個(gè)重要效應(yīng)是在它的前端引起應(yīng)力集中。當(dāng)有n個(gè)位錯(cuò)被外加切應(yīng)力τ推向障礙物時(shí),在塞積群的前端將產(chǎn)生n倍于外力的應(yīng)力集中。材料科學(xué)基礎(chǔ)4.位錯(cuò)的塞積晶體塑性變形時(shí)往往發(fā)生這樣的情況,即在一個(gè)2.3.6實(shí)際晶體結(jié)構(gòu)中的位錯(cuò)1.實(shí)際晶體中位錯(cuò)的柏氏矢量實(shí)際晶體中位錯(cuò)的柏氏矢量不是任意的,必須符合晶體的結(jié)構(gòu)條件和能量條件結(jié)構(gòu)條件:柏氏矢量大小與方向,必須連接一個(gè)原子平衡位置到另一個(gè)原子平衡位置能量條件:位錯(cuò)能量E∝b2,柏氏矢量越小越穩(wěn)定基本概念:?jiǎn)挝晃诲e(cuò)(
dislocation):
全位錯(cuò)(perfectdislocation):
不全位錯(cuò)(部分位錯(cuò)partialdislocation)材料科學(xué)基礎(chǔ)2.3.6實(shí)際晶體結(jié)構(gòu)中的位錯(cuò)1.實(shí)際晶體中位錯(cuò)的柏氏矢量正常堆垛順序fcc:ABCABC······hcp:ABABAB······堆垛層錯(cuò)(stackingfault):上述正常堆垛順序遭到破壞或錯(cuò)排,有兩類(lèi):
堆垛層錯(cuò)能:為產(chǎn)生單位面積層錯(cuò)所需的能量。
2.
堆垛層錯(cuò)抽出型層錯(cuò)插入型層錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)2.
堆垛層錯(cuò)抽出型層錯(cuò)插入型層錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)
3.不全位錯(cuò)――完整晶體和層錯(cuò)的邊界●Shockley不全位錯(cuò):b=a/6<112>特點(diǎn):1)滑移型層錯(cuò)的邊界
2)只能滑移,刃型不能攀移,螺型不能交滑移材料科學(xué)基礎(chǔ)3.不全位錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)●Frank不全位錯(cuò)b=a/3<111>
特點(diǎn):1)插入型或抽出型層錯(cuò)與完整晶體的邊界
2)只能攀移不能滑移材料科學(xué)基礎(chǔ)●Frank不全位錯(cuò)b=a/3<111>
位錯(cuò)線之間可以合并或分解,但需滿(mǎn)足以下條件:幾何條件:能量條件:
4位錯(cuò)反應(yīng)能量條件幾何條件反應(yīng)前后諸位錯(cuò)的柏氏矢量之和相等b→b1+b2;反應(yīng)后位錯(cuò)的總能量小于反應(yīng)前位錯(cuò)的總能量b2>b12+b22材料科學(xué)基礎(chǔ)位錯(cuò)線之間可以合并或分解,但需滿(mǎn)足以下條件:幾何條件:能量條(1)Thompson四面體利用Thompson四面體可確定fcc結(jié)構(gòu)中的位錯(cuò)反應(yīng)。(2)擴(kuò)展位錯(cuò):
兩個(gè)不全位錯(cuò)加上中間一片堆垛層錯(cuò)區(qū)的組態(tài)。fcc中的擴(kuò)展位錯(cuò)為兩個(gè)Shockley不全位錯(cuò)加上中間的堆垛層錯(cuò)
擴(kuò)展位錯(cuò)的束集:外力作用下收縮為原來(lái)全位錯(cuò)的過(guò)程。擴(kuò)展位錯(cuò)的交滑移:擴(kuò)展位錯(cuò)(原滑移面)→束集→全螺位錯(cuò)→轉(zhuǎn)移分解→擴(kuò)展位錯(cuò)(另一滑移面)5.fcc晶體中的位錯(cuò)材料科學(xué)基礎(chǔ)(1)Thompson四面體5.fcc晶體中的位錯(cuò)材料科(3)位錯(cuò)網(wǎng)絡(luò):實(shí)際晶體中存在幾個(gè)b位錯(cuò)時(shí)會(huì)組成二維或三維的位錯(cuò)網(wǎng)絡(luò)(4)面角位錯(cuò):兩全位錯(cuò),在外力作用下滑移后:[1]在兩個(gè)面交線發(fā)生反應(yīng)進(jìn)行洛瑪反應(yīng)[2]在各自面分解
形成擴(kuò)展位錯(cuò)[3]兩擴(kuò)展位錯(cuò)移動(dòng)反應(yīng)形成壓桿位錯(cuò)。
結(jié)果在兩個(gè){111}面之間的面角上,形成由三個(gè)不全位錯(cuò)和兩個(gè)層錯(cuò)所構(gòu)成的組態(tài),稱(chēng)為L(zhǎng)omer—Cottrel位錯(cuò),又稱(chēng)面角位錯(cuò)。材料科學(xué)基礎(chǔ)(3)位錯(cuò)網(wǎng)絡(luò):實(shí)際晶體中存在幾個(gè)b位錯(cuò)時(shí)會(huì)組成二維或三維的2.4材料中面缺陷
嚴(yán)格來(lái)說(shuō),界面包括外表面(自由表面)和內(nèi)界面。表面是指固體材料與氣體或液體的分界面,它與摩擦、磨損、氧化、腐蝕、偏析、催化、吸附現(xiàn)象,以及光學(xué)、微電子學(xué)等均密切相關(guān);而內(nèi)界面可分為晶粒邊界和晶內(nèi)的亞晶界、孿晶界、層錯(cuò)及相界面等。
界面通常包含幾個(gè)原子層厚的區(qū)域,該區(qū)域內(nèi)的原子排列甚至化學(xué)成分往往不同于晶體內(nèi)部,又因它系二維結(jié)構(gòu)分布,故也稱(chēng)為晶體的面缺陷。界面的存在對(duì)晶體的力學(xué)、物理和化學(xué)等性能產(chǎn)生重要的影響。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.4材料中面缺陷嚴(yán)格來(lái)說(shuō),界面包括外表面
2.4.1外表面
在晶體表面上,原子排列情況與晶內(nèi)不同,表面原子會(huì)偏離其正常的平衡位置,并影響到鄰近的幾層原子,造成表層的點(diǎn)陣畸變,使它們的能量比內(nèi)部原子高,這幾層高能量的原子層稱(chēng)為表面。晶體表面單位面積自由能的增加稱(chēng)為表面能(J/m2)。表面能也可理解為產(chǎn)生單位面積新表面所作的功:
式中dW為產(chǎn)生dS表面所作的功。表面能也可以單位長(zhǎng)度上的表面張力(N/m)表示。
表面能與晶體表面原子排列致密程度有關(guān),原子密排的表面具有最小的表面能。所以自由晶體暴露在外的表面通常是低表面能的原子密排晶面。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.4.1外表面在晶體表面上,原子排列情況與2.4.2晶界和亞晶界
晶界亞晶界確定晶界位置用:(1)兩晶粒的位向差θ(2)晶界相對(duì)于一個(gè)點(diǎn)陣某一平面的夾角φ。
按θ的大小分類(lèi):小角度晶界θ<10o
大角度晶界θ>10o材料科學(xué)基礎(chǔ)2.4.2晶界和亞晶界晶界材料科學(xué)基礎(chǔ)1.小角度晶界
小角度晶界:由一系列相隔一定距離的刃型位錯(cuò)所組成。分類(lèi):(1)對(duì)稱(chēng)傾斜界面:晶界平面為兩個(gè)相鄰晶粒的對(duì)稱(chēng)面。是由一列平行的刃型位錯(cuò)所組成。相鄰位錯(cuò)距離D與b、θ之間關(guān)系:3.39式(2)不對(duì)稱(chēng)傾斜界面:兩晶粒不以二者晶界為對(duì)稱(chēng)的晶界看成兩組互相垂直的刃型位錯(cuò)排列而成的。兩位錯(cuò)各自的間距為D⊥和D├,則有3.40式。(3)扭轉(zhuǎn)晶界:將一塊晶體沿橫斷面切開(kāi),并使上下部分晶體繞軸轉(zhuǎn)動(dòng)θ角,再與下部分驚天動(dòng)晶體粘在一起形成。可看成是由互相交叉的螺位錯(cuò)所組成。材料科學(xué)基礎(chǔ)1.小角度晶界小角度晶界:由一系列相隔一定距離
對(duì)稱(chēng)傾側(cè)晶界材料科學(xué)基礎(chǔ)對(duì)稱(chēng)傾側(cè)晶界材料科學(xué)基礎(chǔ)2.大角度晶界
大角度晶界為原子呈不規(guī)則排列的一過(guò)渡層。大多數(shù)晶粒之間的晶界都屬于大角度晶界。重合位置點(diǎn)陣模型:該模型說(shuō)明,在大角度晶界結(jié)構(gòu)中將存在一定數(shù)量重合點(diǎn)陣原子。材料科學(xué)基礎(chǔ)2.大角度晶界大角度晶界為原子呈不規(guī)則排列的一過(guò)渡層3.晶界能
晶界能:形成單位面時(shí),系統(tǒng)的自由能變化。J/㎡。小角度晶界能量與θ有關(guān):γ=γ0θ(A-lnθ),式中γ0=Gb/4п(1-ν)大角度晶界能量與θ無(wú)關(guān),基本上為一恒定值,0.25—1.0J/㎡在平衡狀態(tài)時(shí),三叉晶界的各面角均趨與穩(wěn)定狀態(tài),此時(shí)φ1=φ2=φ3=120o。材料科學(xué)基礎(chǔ)3.晶界能晶界能:形成單位面時(shí),系統(tǒng)的自由能變化。J/㎡4.晶界特征
(1)晶界處點(diǎn)畸變大,存在晶界能。(2)常溫下晶界的存在會(huì)對(duì)位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)起阻礙運(yùn)動(dòng),使塑型變形抗力提高,使晶體(材料)的硬度和強(qiáng)度提高。(3)晶界處原子具有較高的動(dòng)能,且晶界處存在大量缺陷。原子在晶界處擴(kuò)散比晶內(nèi)快得多。(4)固態(tài)相變時(shí)易在晶界處形成新核。(5)晶界上富集雜質(zhì)原子多,熔點(diǎn)低,加熱時(shí)容易過(guò)燒。(6)晶界腐蝕速度比晶內(nèi)快。(7)晶界具有不同與晶內(nèi)的物理性質(zhì)。亞晶界屬與小角度晶界,為各種亞結(jié)構(gòu)的交界,大小和尺寸與熱加工條件有關(guān)。材料科學(xué)基礎(chǔ)4.晶界特征(1)晶界處點(diǎn)畸變大,存在晶界能。材料科學(xué)基2.4.3孿晶界
孿晶的定義:孿晶分類(lèi):①共格孿晶面:②非共格孿晶面:
孿晶的形成常常與晶體中的堆垛層錯(cuò)有密切關(guān)系,γ高不易形成孿晶。
fcc結(jié)構(gòu)孿晶面為{111}
bcc結(jié)構(gòu)孿晶面為{112}。依照形成原因不同分為:變形孿晶、生長(zhǎng)孿晶、退火孿晶材料科學(xué)基礎(chǔ)2.4.3孿晶界孿晶的定義:材料科學(xué)基礎(chǔ)2.4.4相界
相界:按相界面上原子間匹配程度分為:共格界面、半共格界面、非共格界面1.共格界面
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