EDI膜堆的清洗方案

EDIEDIEDI設(shè)備的化學(xué)清洗及再生雖然EDI膜塊的進(jìn)水條件在很大的程度上削減了膜塊內(nèi)部堵塞的時(shí)機(jī)，但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生堵塞，這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶〔硬度超過0.8ppm〕CO2EDI設(shè)備的化學(xué)清洗及再生雖然EDI膜塊的進(jìn)水條件在很大的程度上削減了膜塊內(nèi)部堵塞的時(shí)機(jī)，但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生堵塞，這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶〔硬度超過0.8ppm〕CO2和較高的pH值，將會(huì)加快沉淀的速度。遇到這種狀況，我們可以通過化學(xué)清洗的方法對(duì)EDI膜塊進(jìn)展清洗，使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。修理EDI模塊或者選購EDI模塊就找湖南凱聚達(dá)科技通常推斷EDI膜塊被污染堵塞可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)展評(píng)估判定：1、在進(jìn)水溫度、流量不變的狀況下，進(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)上升45%。245%。3、在進(jìn)水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的狀況下，產(chǎn)水水質(zhì)〔電阻率〕明顯下降。4、在進(jìn)水溫度、流量不變的狀況下，濃水排水流量下降35%。膜塊堵塞的緣由主要有下面幾種形式：顆粒/膠體污堵；無機(jī)物污堵；有機(jī)物污堵；微生物污堵?！睧DI清洗留意：在清洗或消毒之前請(qǐng)先選擇適宜的化學(xué)藥劑并生疏安全操作規(guī)程，切不行在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進(jìn)展化學(xué)清洗?！尘唧w如下：1、顆粒/膠體污堵進(jìn)水顆粒度≥5μm時(shí)會(huì)造成進(jìn)水流道堵塞，引起膜塊內(nèi)部水流分布不均勻，從而導(dǎo)致膜塊整體性能降低。假設(shè)EDI膜塊的進(jìn)水不是直接由RO產(chǎn)水端進(jìn)入EDI膜塊，而是通過RO產(chǎn)水箱經(jīng)過增壓泵供水，建議在進(jìn)入EDI膜塊前端增設(shè)保安過濾器〔≤0.2μm〕。在組裝EDI設(shè)備時(shí)，全部的連接收道系統(tǒng)應(yīng)沖洗干凈以預(yù)防管道內(nèi)的顆粒雜質(zhì)進(jìn)入膜塊。2、無機(jī)物污堵假設(shè)假設(shè)EDI進(jìn)水含有較多的溶質(zhì)且超出設(shè)計(jì)值或者回收率超過設(shè)計(jì)值時(shí),將導(dǎo)致濃水室和陰極度結(jié)垢很簡潔通過酸洗去除。依據(jù)方案1中的方法，使用低PH溶液在系統(tǒng)內(nèi)部循環(huán)清洗，可以去除濃水室和陰極室的結(jié)垢。當(dāng)進(jìn)水中的鐵和錳含量高，或者高TDS的水以外進(jìn)入到EDI膜塊時(shí)，也會(huì)使淡水室的離子度結(jié)垢很簡潔通過酸洗去除。依據(jù)方案1中的方法，使用低PH溶液在系統(tǒng)內(nèi)部循環(huán)清洗，可以去除濃水室和陰極室的結(jié)垢。當(dāng)進(jìn)水中的鐵和錳含量高，或者高TDS的水以外進(jìn)入到EDI膜塊時(shí)，也會(huì)使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無幾物污堵?？梢猿惺芊桨?進(jìn)展清洗。3、有機(jī)物污堵當(dāng)進(jìn)水有機(jī)污染物TOC或TEA生有機(jī)污堵?？梢猿惺芊桨?的方法，用高PH值的藥水對(duì)淡水室及濃水室循環(huán)清洗可以將有機(jī)分子去除出離子交換樹脂對(duì)這種污堵進(jìn)展清洗。4、微生物污堵EDI膜塊和系統(tǒng)也會(huì)發(fā)生微生物污堵?？梢猿惺芊桨?、4中的方法用高PH鹽水進(jìn)展清洗。假設(shè)微生物污堵情形比較嚴(yán)峻時(shí)，可以承受方案5進(jìn)展清洗。假設(shè)同時(shí)伴有無機(jī)物污堵，可以依據(jù)方案6參與酸洗步驟。對(duì)于極嚴(yán)峻的微生物污堵，可以承受方案7或8以高PH藥劑清洗。清洗方法時(shí)間：清洗方法酸洗堿洗時(shí)間〔分鐘〕30-5030-50備注鹽水清洗消毒沖洗再生膜塊產(chǎn)水量藥液配用量(L)膜塊產(chǎn)水量藥液配用量(L)0.5T/H501T/H802T/H1103T/H1505T/H200清洗用化學(xué)藥品規(guī)格：藥品名稱HCL氫氧化鈉NaOH氯化鈉NaCL過氧化氫HO22過氧乙酸CHCOOOH3

35-6025-40≥50≥120推舉等級(jí)化學(xué)純或試劑級(jí)化學(xué)純或試劑級(jí)食品級(jí)、化學(xué)純或試劑級(jí)化學(xué)純化學(xué)純

備注1、酸洗溫度15-25℃2、堿洗溫度25-30℃3、配藥液用水必需是RO或高于RO備注液態(tài)：50%w/w食品級(jí)≥99.8%30%安全留意事項(xiàng)安全留意事項(xiàng)：1、在配置清洗藥液時(shí)，必需穿戴好防護(hù)服、防護(hù)眼鏡和防護(hù)手套。2、需要清洗的設(shè)備管路必需是與其他連接設(shè)備的連接收路完全隔離的。31、在配置清洗藥液時(shí)，必需穿戴好防護(hù)服、防護(hù)眼鏡和防護(hù)手套。2、需要清洗的設(shè)備管路必需是與其他連接設(shè)備的連接收路完全隔離的。3、需要清洗的設(shè)備其電源必需是完全切斷并有“正在操作，不得送電”的安全警示。4、整個(gè)清洗過程中清洗的工作壓力不能超過0.15MPa。修理EDI模塊或者選購EDI模塊就找湖南凱聚達(dá)科技清洗設(shè)備組件1、清洗循環(huán)泵〔耐腐蝕泵〕2清洗設(shè)備組件1、清洗循環(huán)泵〔耐腐蝕泵〕2、清洗水箱〔PP〕3、耐腐蝕清洗軟管〔與清洗泵適配〕44、耐腐蝕閥門〔UPVC〕5、耐腐蝕壓力表6、過濾器5、耐腐蝕壓力表6、過濾器≤1m工具：pH試紙〔廣泛〕；溫度計(jì)；計(jì)時(shí)表修理EDI模塊或者選購EDI模塊就找湖南凱聚達(dá)科技一、濃水室結(jié)垢清洗1、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過濃水管路進(jìn)入EDI膜塊再回到清洗水箱，濃水進(jìn)、出水閥開啟，關(guān)閉一、濃水室結(jié)垢清洗1、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過濃水管路進(jìn)入EDI膜塊再回到清洗水箱，濃水進(jìn)、出水閥開啟，關(guān)閉EDI淡水進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)整濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔酸洗步驟〕?！矃⒁姼奖怼?、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、翻開EDI進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥，同時(shí)對(duì)兩個(gè)水室進(jìn)展沖洗。9、檢測濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。10、各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。11、恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。12、開啟PLC把握柜電源，向EDI膜塊送電，轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。修理EDI模塊或者選購EDI模塊就找湖南凱聚達(dá)科技二、二、淡水室結(jié)垢清洗11、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔酸洗步驟〕?！矃⒁姼奖怼?、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。72、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔酸洗步驟〕。〔參見附表〕6、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。10、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。11、開啟PLC把握柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)展再生〔再生步驟〕，直至電阻率到達(dá)出水要求為止。12、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。三、有機(jī)物污堵清洗1、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉〔NaOH〕2%鹽〔NaCl〕的清洗液。55、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔堿洗步驟〕?！矃⒁姼奖怼?、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。10、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。11、開啟PLC表〕6、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。10、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。11、開啟PLC把握柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)展再生〔再生步驟〕，直至電阻率到達(dá)出水要求為止。12、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。四、有機(jī)物污堵和結(jié)垢1、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路分別進(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室，再回到清洗水箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔酸洗步驟〕。參見附表〕6、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉〔NaOH〕2%鹽〔NaCl〕的清洗液。1010、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔堿洗步驟〕〔參見附表〕11、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。12、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。14、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。15、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。16、開啟PLC把握柜電源，向表〕11、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。12、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。14、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。15、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。16、開啟PLC把握柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)展再生〔再生步驟〕，直至電阻率到達(dá)出水要求為止。17、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。微生物污堵可承受方案34進(jìn)展。五、嚴(yán)峻的微生物污堵1、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽〔NaCl〕清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔鹽洗步驟〕。〔參見附表〕6、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。88、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH)0.2%的過氧化氫〔H2O2〕清洗液。10、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔消毒步驟〕〔參見附表〕11、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。12、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO9、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH)0.2%的過氧化氫〔H2O2〕清洗液。10、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔消毒步驟〕〔參見附表〕11、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。12、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。14、在清洗水箱配置2%濃度的鹽〔NaCl〕清洗液。15、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔鹽洗步驟〕〔參見附表〕16、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。17、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。18、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。19、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。20、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。21、開啟PLC把握柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)展再生〔再生步驟〕，直至電阻率到達(dá)出水要求為止。22、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。六、嚴(yán)峻的微生物污堵和結(jié)垢1、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路33、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔酸洗步驟〕?！矃⒁姼奖怼?、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽〔箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔酸洗步驟〕?！矃⒁姼奖怼?、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽〔NaCl〕清洗液。10、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔鹽洗步驟〕〔參見附表〕11、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。12、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。140.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH)0.2%〔H2O2〕清洗液。15、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔消毒步驟〕。16、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。17、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。18、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。19、在清洗水箱配置2%濃度的鹽〔NaCl〕清洗液。20、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔鹽洗步驟〕。21、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。2222、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。23、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。24、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。25、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。26、開啟PLC把握柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)展再生〔再生步驟〕，直至電阻率到達(dá)出水要求為止。27、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。七、極嚴(yán)峻的微生物污堵23、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。24、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。25、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。26、開啟PLC把握柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)展再生〔再生步驟〕，直至電阻率到達(dá)出水要求為止。27、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。七、極嚴(yán)峻的微生物污堵1、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽〔NaCl〕清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔鹽洗步驟〕。6、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、在清洗水箱配置0.04%濃度的過氧乙酸(CH3COOOH)0.2%的過氧化氫〔H2O2〕清洗液。10、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔消毒步驟〕。11、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。12、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。1414、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉〔NaOH〕2%鹽〔NaCl〕的清洗液。15、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔堿洗步驟〕。16、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。17、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。18、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。19、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。20、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。21、開啟PLC15、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔堿洗步驟〕。16、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。17、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。18、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。19、調(diào)整各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)計(jì)流量數(shù)據(jù)。20、停機(jī)，恢復(fù)EDI各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。21、開啟PLC把握柜電源，向EDI膜塊送電，進(jìn)展再生〔再生步驟〕，直至電阻率到達(dá)出水要求為止。22、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行，并作好初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。八、極嚴(yán)峻的微生物污堵和結(jié)垢1、記錄清洗前全部數(shù)據(jù)。2、分別EDI設(shè)備與其他設(shè)備的連接收路3、連接清洗裝置，使清洗泵通過進(jìn)水管路進(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室，再回到清洗水箱，開啟全部的進(jìn)出水閥門。4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。5、啟動(dòng)清洗泵，分別調(diào)整濃水、進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔酸洗步驟〕。6、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別濃水排水閥至地溝。7、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。8、分別檢測淡水、濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽〔NaCl〕清洗液。10、啟動(dòng)清洗泵，調(diào)整淡水、濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗〔鹽洗步驟〕。1111、停頓清洗泵，排空清洗水箱清洗廢液，分別產(chǎn)水、濃水排水閥至地溝。12、向清洗水箱連續(xù)注入清水〔RO產(chǎn)水〕，啟動(dòng)清洗泵連續(xù)清洗〔沖洗步驟〕。13、分別檢測產(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水