2021年全球光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀與競爭格局分析

2021年全球光刻膠行業(yè)現(xiàn)狀與競爭格局分析一、光刻膠行業(yè)發(fā)展概述起源于美國，柯達KTFR光刻膠為光刻膠工業(yè)的開創(chuàng)者，光刻膠跟隨摩爾定律不斷演進。1950s貝爾實驗室嘗試開發(fā)首塊集成電路，半導(dǎo)體光刻膠由此誕生，并成為六七十年代半導(dǎo)體工業(yè)的主力體系，為半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)展立下汗馬功勞。邏輯支撐跟隨摩爾定律，光刻膠不斷推進產(chǎn)業(yè)演進。i線/g線光刻膠的產(chǎn)業(yè)化始于上世紀70年代，KrF光刻膠的產(chǎn)業(yè)化也早在上世紀80年代就由IBM完成。光刻膠行業(yè)發(fā)展歷程新材料在線，光刻膠是半導(dǎo)體，面板，PCB等領(lǐng)域加工制造中的關(guān)鍵材料。光刻膠是由樹脂，感光劑，溶劑，光引發(fā)劑等組成的混合液態(tài)感光材料。光刻膠應(yīng)用的原理是利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)光刻工藝將所需要的微細圖形轉(zhuǎn)移到加工襯底上，來達到在晶圓上刻蝕出所需的圖形或抗離子注入的目的。光刻膠行業(yè)分類二、光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀光刻膠領(lǐng)域全球具有百億市場。2021年全球光刻膠市場規(guī)模約為19億美元，預(yù)計2022年將達到21。34億美元，同比增長12。32%。2021-2022年全球光刻膠市場規(guī)模及預(yù)測情況光刻膠是集成電路制造必不可少的關(guān)鍵原材料。2021年中國集成電路產(chǎn)業(yè)首次突破萬億元。中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會統(tǒng)計，2021年中國集成電路產(chǎn)業(yè)銷售額達到10458。3億元，同比增長18。2%。2017-2021年中國集成電路產(chǎn)業(yè)銷售額及增速三、光刻膠行業(yè)發(fā)展政策政策頻出，為浪潮推波助瀾：光刻膠是集成電路領(lǐng)域微加工的關(guān)鍵性材料，為推動光刻膠等半導(dǎo)體材料行業(yè)的發(fā)展，國家、地方層面政策先后出臺。其中，既有國家層面印發(fā)的戰(zhàn)略性、鼓勵性、支持性政策等，也有各個省市進一步落實國家政策發(fā)布的規(guī)劃、意見、指導(dǎo)目錄等。尤其在中美貿(mào)易沖突的影響下，產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈安全和自主可控成為重中之重，迫在眉睫，乃行業(yè)發(fā)展的大勢所趨。2014-2021年中國光刻膠行業(yè)相關(guān)政策四、光刻膠行業(yè)競爭格局目前全球的光刻膠生產(chǎn)企業(yè)主要集中在日本與美國，在最為尖端的ArF干法光刻膠、ArF浸沒式光刻膠和EUV光刻膠產(chǎn)品領(lǐng)域，日本與美國廠商擁有絕對的壟斷地位，而中國在這些尖端半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品上雖有一定的技術(shù)儲備和產(chǎn)品驗證，但是在量產(chǎn)層面完全處于空白。2021年全球主要企業(yè)半導(dǎo)體光刻膠發(fā)展情況從全球市場來看，2021年行業(yè)CR6約為88%，市場集中度高。東京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)、富士膠片四大日本企業(yè)分別占據(jù)27%、13%、12%、8%的市場份額，陶氏化學(xué)占據(jù)17%的市場份額，韓國東進占據(jù)11%的市場份額。2021年全球光刻膠市場份額在ArF光刻膠方面，2021年行業(yè)CR6達94%，市場高度集中。JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué)、富士膠片、陶氏化學(xué)分別占據(jù)24%、23%、20%、15%、8%、4%的市場份額。2021年ArF光刻膠市場份額中國大陸晶圓產(chǎn)能近年將明顯提升。截至2021年，中國內(nèi)地12英寸、8英寸和6英寸及以下的晶圓制造線共有210條，已經(jīng)投產(chǎn)的12英寸晶圓制造線有29條，合計裝機月產(chǎn)能約131萬片。截至2021年，中國大陸在全球晶圓產(chǎn)能中的份額達到16%，僅次于韓國和中國臺灣地區(qū)。隨著下游產(chǎn)能的快速增長，預(yù)計光刻膠市場亦將持續(xù)擴容。2021年全球IC晶圓產(chǎn)能地區(qū)分布ICInsights，中國大陸晶圓廠光刻機以進口為主，多購入壁壘相對較低、價格相對便宜的i線光刻機。目前國內(nèi)頭部光刻膠生產(chǎn)企業(yè)中，已有3家成功購入ASML光刻機二手設(shè)備，用于研發(fā)ArF高端光刻膠，有望實現(xiàn)先進制程的突破。國內(nèi)部分光刻膠生產(chǎn)企業(yè)購入高端光刻機情況各公司公告，五、光刻膠行業(yè)發(fā)展建議為加快光刻膠國產(chǎn)化進程，實現(xiàn)自主可控，針對國內(nèi)光刻膠研發(fā)、生產(chǎn)現(xiàn)狀提出幾點發(fā)展建議：1、政府主導(dǎo)整合上游、中游、下游相關(guān)企業(yè)，給予稅收、資金等優(yōu)惠政策，鼓勵企業(yè)加大研發(fā)投入；政府設(shè)立半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈研發(fā)中心，加速各環(huán)節(jié)卡脖子技術(shù)研發(fā)進度；政府機構(gòu)簡化企業(yè)技術(shù)中試審批流程，優(yōu)先推廣有潛力產(chǎn)品，做到產(chǎn)品在產(chǎn)線上使，在產(chǎn)線上優(yōu)化。2、加強校企聯(lián)合研發(fā)，在高校中設(shè)立獎學(xué)金獎勵大學(xué)生參與光刻膠相關(guān)研發(fā)項目，調(diào)整授課內(nèi)容，積極培育專門人才。3、提高電子化學(xué)品領(lǐng)域研發(fā)、生產(chǎn)人員工資待遇，解決人員