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UV/H2O2高級氧化法(AOPs)降解2,4,6-三氯酚一、簡介二、UV/H2O2高級氧化法反應(yīng)機(jī)理三、UV/H2O2降解2,4,6-三氯酚四、反應(yīng)過程的影響因素五、結(jié)論與展望高級氧化法(AOPs)
高級氧化法(AOPs)是一種新型環(huán)境修復(fù)技術(shù),始于19世紀(jì)70年代,廣泛用于地下水、市政水、工業(yè)廢水以及污泥中低/高濃度有機(jī)物的去除。在處理含有穩(wěn)定的、有毒的以及難生物降解物質(zhì)的廢水方面有著絕對的優(yōu)勢。在AOPs中,有機(jī)物大部分被HO.完全礦化為CO2和H2O。HO.可由下面任一方法或幾種組合方法中獲得:a.化學(xué)氧化劑法如H2O2、O3、H2O2/O3、Fenton試劑;b.輻射法如紫外輻射(UV)、?輻射、電子束、超聲等;c.a中的任意一種與b中的任意一種結(jié)合;d.TiO2的UV光催化法。簡介表一列出了幾種重要氧化劑的氧化能力,可見HO.的氧化能力僅次于氟,最適合用于有機(jī)物的氧化。簡介HO.參與的反應(yīng)有:
簡介AOP法的優(yōu)勢有:(1)能使一些有機(jī)物完全礦化;(2)能去除難降解有機(jī)物;(3)易與生物方法聯(lián)合使用。大量的有機(jī)污染物像鹵化碳/鹵代烴以及它們的衍生物、芳香烴、有機(jī)氮/磷/硫、TNT、腐植酸和等都能用AOP法破壞。簡介H2O2是氧化能力最強(qiáng)的氧化劑之一,能夠氧化各種化學(xué)物質(zhì),像醛、醇、胺、偶氮化合物、酚、氰化物、硫化物等。H2O2在Fe2+催化劑存在條件下能產(chǎn)生大量的HO.,這就是廣泛使用的Fenton試劑。Fenton試劑可用于處理酚、苯、甲苯、乙苯、二甲苯以及殺蟲劑污染的廢水。反應(yīng)如下:Fe2++H2O2Fe3++HO.+OH-Fe3++H2O2FeOOH2++H+FeOOH2+Fe2++HO2.化學(xué)氧化劑H2O2簡介紫外光輻射(UV)法紫外光是波長在100-380nm的電磁波,根據(jù)其波長及功能的不同,又分為4個(gè)波段,即UV-A(315-380nm),UV-B(280-315nm),UV-C(200-280nm)和UV—V(100-200nm)。使用UV法能加速HO.的產(chǎn)生或者使污染物的鍵斷裂,從而加快有機(jī)物的降解。反應(yīng)程度取決于有機(jī)物的類型和濃度、光的波長以及體系中是否有O3和H2O2等氧化劑的存在。簡介2,4,6-三氯酚2,4,6-三氯酚(2,4,6-T)是一種很難生物降解的多取代基酚類物質(zhì),通常存在于工業(yè)廢水中,在目前的研究中經(jīng)常被當(dāng)做模型化合物,美國環(huán)保署(US-EPA)把其列為人體致癌物,常用于配制殺蟲劑和木材防腐劑,也用作聚酯纖維的溶劑。是無色針狀結(jié)晶或黃色固體,有強(qiáng)烈的苯酚氣味。簡介UV/H2O2高級氧化法反應(yīng)機(jī)理一般認(rèn)為,UV/H2O2
的反應(yīng)機(jī)理是:(1)UV通過有效光子直接激發(fā)有機(jī)物分子進(jìn)行光降解;(2)H2O2直接氧化降解;(3)HO.間接氧化降解,即1分子的H2O2首先在紫外光照射下產(chǎn)生2分子的HO.
,然后HO.與污染物發(fā)生氧化還原反應(yīng)。HO.氧化一般占主導(dǎo)作用。其基本反應(yīng)步驟如下:1.反應(yīng)裝置及過程實(shí)驗(yàn)是在1.0升的光反應(yīng)器(直徑12cm,高13.3cm)中進(jìn)行的,反應(yīng)器內(nèi)裝有16W的低壓水銀弧光燈(最大輻射為270nm)。水銀弧光燈放在石英管的軸線位置,以防與石英管外面的水溶液直接接觸。反應(yīng)器是敞口的,底部放置表面由聚四氟乙烯包裹的磁力攪拌子。汞燈浸沒在含有2,4,6-T的溶液中。用氣密注射器從反應(yīng)器的樣品口定時(shí)取樣。UV/H2O2法降解2,4,6-三氯酚2.結(jié)果與討論2.1H2O2濃度的確定H2O2初始濃度對2,4,6-T降解的影響見下圖,H2O2濃度為25–500ppm:2.2pH的確定另外,本研究還對UV/H2O2法和UV法對2,4,6-T的降解率和礦化率進(jìn)行了對比。結(jié)果發(fā)現(xiàn),與直接光解相比,H2O2能顯著提高2,4,6-T的光解效率,當(dāng)其與UV聯(lián)合使用時(shí),2,4,6-T的降解率提高了近50%。在TOC的減少實(shí)驗(yàn)中,僅用UV法處理只能使TOC減少16%,但如果與H2O2同時(shí)處理減少量就增加到38%。3.2,4,6-T的脫氯過程
1、UV光強(qiáng)度的影響我們知道,H2O2在一定波長紫外光照射下可釋放出HO.。因此,通常情況下,提高紫外光照射強(qiáng)度有利于光化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行。李若愚等采用UV/H2O2/微曝氣對水中4-叔丁基苯酚(BP)的降解進(jìn)行研究,結(jié)果表明,隨著光強(qiáng)的增大,BP的降解速率呈線性增長。反應(yīng)過程的影響因素2.UV波長的影響由能量方程可知,一個(gè)光子能量大小可由下式求得:E=h=hc/λ
Parkinson等研究分析了不同波長紫外燈對自然水中無機(jī)物組分的降解效果,研究表明,UV-A與UV-B對自然水污染物的降解產(chǎn)物中不含有毒成分,但UV-C及UV-C/H2O2
工藝在反應(yīng)完成后,溶液中卻產(chǎn)生了有毒中間體。由此表明,不同波長紫外光引發(fā)的光化學(xué)反應(yīng)機(jī)理可能有較大差異。3.H2O2
投加量的影響Chang等用UV/H2O2
對活性偶氮染料降解動力學(xué)進(jìn)行研究,結(jié)果表明,當(dāng)H2O2
濃度較低時(shí),增加H2O2
的濃度有利于污染物的降解,但當(dāng)H2O2
濃度達(dá)到一定值時(shí),繼續(xù)增加H2O2則降低了污染物的反應(yīng)速率。H2O2投加量影響一般可通過以下機(jī)理過程進(jìn)行解釋:a)當(dāng)H2O2
濃度較低時(shí),溶液中主要發(fā)生如下反應(yīng):H2O2+hv2HO.因此,一定范圍內(nèi),H2O2濃度增加有利于促進(jìn)HO.的生成率,進(jìn)而提高污染物的礦化效率與降解效率。b)當(dāng)H2O2濃度繼續(xù)增加并超過極大值后,溶液中開始發(fā)生如下副反應(yīng)過程:H2O2+HO.
HO2.+H2OHO.+HO2.
H2O+O2HO.+HO.2H2O2由此可見,H2O2
在作為自由基釋放劑的同時(shí)還是一種自由基侵蝕劑,
產(chǎn)生的HO2.的氧化能力遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于HO.,抑制了反應(yīng)過程。
4.初始pH值的影響Muruganandham等進(jìn)行了UV/H2O2
活性偶氮染料降解實(shí)驗(yàn),首先考察了溶液初始pH值影響。結(jié)果表明,pH值在1.0~8.0范圍內(nèi),當(dāng)pH值從1.0增加到3.0時(shí),污染物的降解效率從10.32%上升到88.68%;當(dāng)pH值從3.0進(jìn)一步增加到8.0時(shí),污染物的脫除效率從88.68%下降到10.22%。相關(guān)研究認(rèn)為,在堿性條件下容易發(fā)生如下反應(yīng):H2O2HO2-+H+H2O2+HO2-H2O+O2+OH-HO.+HO2-OH-+HO2.
HO.+HO2-H2O+O2-5.污染物初始濃度的影響關(guān)于高濃度污染物對光化學(xué)反應(yīng)的影響,許多研究人員所得結(jié)論具有較高的一致性,即降解效率一般隨著污染物初始濃度的增加而下降。光學(xué)定律方程表示如下:Ia=I0exp(-klCB)式中:Ia——
透射光強(qiáng)度;I0——入射光強(qiáng)度;
k——光吸收系數(shù);l——光通過的介質(zhì)層厚度;
CB——光吸收介質(zhì)的濃度。6.無機(jī)陰離子對反應(yīng)過程的影響無機(jī)陰離子,如HCO3-
,CO32-
,Cl-,
NO3-
,SO42-
廣泛存在于自然水體中,在一般的有機(jī)廢水以及氣體污染物中,無機(jī)陰離子含量較大,不少有機(jī)物在降解過程中也會釋放出大量的無機(jī)陰離子。因此,考察無機(jī)陰離子對反應(yīng)過程的影響是必要的。很多研究結(jié)果表明,無機(jī)陰離子的存在對降解反應(yīng)均顯示出不同程度的抑制作用,其中CO32-,HCO3-
的抑制作用較為明顯,而SO42-
,NO3-
,Cl-
則相對較弱。在自由基鏈反應(yīng)中,由于CO32-
,HCO3-與HO.之間具有很高的反應(yīng)速率而常常被認(rèn)為是一類有效的HO.侵蝕劑,生成的CO3-.具有很低的氧化還原電位,顯著降低了光化學(xué)反應(yīng)過程,相關(guān)基元反應(yīng)機(jī)理可作如下表示:HO
.+CO32-
OH-+CO3-.
HO
.+HCO3-
H2O+CO3-.
Cl-
與HO.
雖然具有更高的反應(yīng)速率常數(shù),
但反應(yīng)生成的中間體很不穩(wěn)定,絕大部分又通過逆向反應(yīng)分解成自由基,因此對反應(yīng)的整體影響并不顯著。HO.+Cl-
HOCl-.HOCl-.+H+Cl-+H2Oa)自然水體中廣泛存在無機(jī)陰離子,不少無機(jī)陰離子,如碳酸根、碳酸氫根等,對反應(yīng)過程影響非常大,因此,許多文獻(xiàn)在對模擬溶液做研究時(shí)得出的結(jié)論與實(shí)際情況偏差可能非常大,用到生產(chǎn)實(shí)踐中極有可能是不適合的,因而在研究UV/H2O2
反應(yīng)時(shí),使各種工況接近
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