- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2016-10-13 頒布
- 2017-09-01 實(shí)施
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文檔簡(jiǎn)介
ICS7104040
G04..
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T32999—2016/ISO/TR223352007
:
表面化學(xué)分析深度剖析用機(jī)械輪
廓儀柵網(wǎng)復(fù)型法測(cè)量濺射速率
Surfacechemicalanalsis—Dethrofilin—Measurementofsutterinrate
yppgpg:
mesh-replicamethodusingamechanicalstylusprofilometer
(ISO/TR22335:2007,IDT)
2016-10-13發(fā)布2017-09-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T32999—2016/ISO/TR223352007
:
目次
前言
…………………………Ⅲ
引言
…………………………Ⅳ
范圍
1………………………1
術(shù)語和定義
2………………1
符號(hào)和縮略語
3……………1
原理
4………………………2
方法
5………………………2
獲取柵網(wǎng)復(fù)型圖形
5.1…………………2
用輪廓儀測(cè)量濺射坑深度
5.2…………7
計(jì)算濺射速率
5.3………………………9
實(shí)驗(yàn)室間聯(lián)合比對(duì)結(jié)果總結(jié)
6……………9
附錄資料性附錄試樣表面和離子槍的幾何結(jié)構(gòu)配置
A()……………10
附錄資料性附錄柵網(wǎng)復(fù)型圖形與網(wǎng)孔尺寸的關(guān)系
B()………………13
參考文獻(xiàn)
……………………16
Ⅰ
GB/T32999—2016/ISO/TR223352007
:
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用表面化學(xué)分析深度剖析用機(jī)械輪廓儀柵網(wǎng)
ISO/TR22335:2007《
復(fù)型法測(cè)量濺射速率
》。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口
(SAC/TC38)。
本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位北京師范大學(xué)分析測(cè)試中心清華大學(xué)分析中心
:、。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人吳正龍姚文清
:、。
Ⅲ
GB/T32999—2016/ISO/TR223352007
:
引言
本標(biāo)準(zhǔn)給出了利用俄歇電子能譜和射線光電子能譜測(cè)定深度剖析離子濺射速率的
(AES)X(XPS)
方法試樣的離子濺射面積范圍為22首先在試樣上放置一個(gè)合適大小并和試樣表
,0.4mm~3.0mm。
面接觸的柵網(wǎng)通過離子濺射在試樣表面上復(fù)制一個(gè)柵網(wǎng)圖形然后通過機(jī)械輪廓儀測(cè)量出濺射深度
,。,
假設(shè)離子濺射速率恒定則濺射速率等于濺射深度除以濺射時(shí)間本標(biāo)準(zhǔn)提供了一種將深度剖析中離
,。
子濺射時(shí)間轉(zhuǎn)換為濺射深度的方法
。
Ⅳ
GB/T32999—2016/ISO/TR223352007
:
表面化學(xué)分析深度剖析用機(jī)械輪
廓儀柵網(wǎng)復(fù)型法測(cè)量濺射速率
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用俄歇電子能譜和射線光電子能譜測(cè)定深度剖析離子濺射速率的
(AES)X(XPS)
方法試樣的離子濺射面積范圍為22本標(biāo)準(zhǔn)只適用于橫向均勻的體相材料或單層
,0.4mm~3.0mm。
材料其離子濺射速率由濺射深度與濺射時(shí)間確定濺射深度通過機(jī)械探針輪廓儀測(cè)得
,,。
本標(biāo)準(zhǔn)提供了一種將深度剖析中的離子濺射時(shí)間轉(zhuǎn)換為濺射深度的方法并假設(shè)濺射速率恒定
,。
本方法不是為掃描探針顯微系統(tǒng)設(shè)計(jì)的因此不能用掃描探針顯微系統(tǒng)評(píng)價(jià)該方法本方法不適用于
,。
濺射面積小于2的情況也不適用于濺射誘導(dǎo)的表面粗糙度與被測(cè)區(qū)域的濺射深度相比較明顯
0.4mm,
的情況
。
2術(shù)語和定義
下列術(shù)語和定義適用于本文件
。
21
.
濺射時(shí)間sputteringtime
離子轟擊試樣表面的時(shí)間
。
22
.
濺射深度sputtereddepth
被分析試樣原始表面與經(jīng)深度剖析剝離一定量物質(zhì)后的表面之間的垂直距離[1]
。
23
.
濺射速率sputteringrate
濺射深度與濺射時(shí)間的比值
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