薄膜物理 (4)課件

薄膜物理

ThinFilmPhysics材料物理與化學系DepartmentofMaterialsPhysicsandChemistry電子郵件：tiezhu-主講教師辛鐵柱緒論薄膜的概念薄膜是薄的物體的總稱現(xiàn)在所說的薄膜是指固體材料，也就是說是固體薄膜薄膜的厚度標準：說法不太統(tǒng)一緒論薄膜技術已經滲透到現(xiàn)代科技和國民經濟的各個領域，如航空航天、醫(yī)藥、能源、交通、通信和信息等。另外，在器件的高速化、高集成化、小型化、輕量化方面，薄膜技術作出了重大的貢獻

薄膜基本制備技術

薄膜物理基礎薄膜制備設備往往涉及真空系統(tǒng)目前，人們所廣泛使用的很多表面分析設備都具有真空系統(tǒng)緒論薄膜的制備技術

氣相沉積法

溶液鍍膜法緒論溶液鍍膜法

電沉積法陽極氧化法溶膠-凝膠法LB膜的制備緒論薄膜物理基礎薄膜的形成過程薄膜的結構與缺陷薄膜的性質：電學、磁學、力學及半導體的性質緒論緒論緒論電學薄膜薄膜材料按其功能及應用的領域可分：光學薄膜硬質膜、耐蝕膜、潤滑膜有機分子薄膜裝飾膜緒論第一章緒論第二章真空技術基礎第三章薄膜的物理氣相沉積法9第四章薄膜的化學氣相沉積法3第五章溶液鍍膜法3第六章薄膜的形成與生長1第七章薄膜的結構與缺陷1第八章薄膜分析1第九章薄膜的性質1本課程主要學習的內容與章節(jié)安排：11薄膜物理與技術楊邦朝電子科技大學出版社2薄膜材料制備原理、技術及應用唐偉忠冶金工業(yè)出版社3薄膜材料與薄膜技術鄭偉濤化學工業(yè)出版社4薄膜技術與薄膜材料田民波清華大學出版社5新型電子薄膜材料陳光華化學工業(yè)出版社緒論參考教材

物理氣相沉積法中的真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等是基本的薄膜制備技術。它們均要求沉積薄膜的空間有一定的真空度。

真空技術基礎真空技術是薄膜制備的基礎

一、真空及其單位第一節(jié)真空的基本知識真空的概念？在給定的空間內，氣體的壓強低于一個大氣壓的狀態(tài)，稱為真空真空是什么物質都不存在嗎？真空的基本知識P：壓強（Pa）n：氣體分子密度（個/m3）V：體積（m3）m：氣體質量（kg）M：氣體分子量（kg/mol）T：絕對溫度（K）k：玻爾茲曼常數(shù)（1.3810-23J/K）R：氣體普適常數(shù)（8.314J/K?mol）真空的基本知識怎樣表示真空程度？真空度和壓強是兩個概念，不能混淆。壓強越低真空度越高，反之真空度越低壓強越高真空度壓強氣體分子密度：單位體積中氣體分子數(shù)氣體分子的平均自由程形成一個分子層所需的時間等真空的基本知識壓強的表示方法：國際單位：帕斯卡(Pascal)其它單位：托(Torr)毫米汞柱(mmHg)毫巴(bar)大氣壓(atm)真空的基本知識１托(Torr)＝１毫米汞柱(mmHg)１大氣壓(atm)=760毫米汞柱(mmHg)=1.013×105帕斯卡(Pascal)單位帕/Pa托/Torr毫巴/mba標準大氣壓1Pa17.5×10-3

1×10-2

9.87×10-6

1Torr133.311.3331.316×10-3

1mba1000.7519.87×10-4

1atm1.013×1057601.013×103

1幾種壓強單位的換算關系真空的基本知識中真空：氣體分子密度與大氣時有很大差別，氣體的帶電粒子在電場的作用下，會產生氣體導電現(xiàn)象。這時，氣體的流動也狀態(tài)逐漸從粘稠滯流狀態(tài)過渡到分子狀態(tài)，氣體分子的動力學性質明顯，氣體的對流現(xiàn)象完全消失

高真空：氣體分子密度更加降低，容器中分子數(shù)很少。因此氣體分子在運動過程中相互間的碰撞很少，氣體分子的平均自由程已大于一般真空容器的限度。在高真空下蒸發(fā)的材料，粒子將按直線飛行。另外，容器空間的任何物體與殘余氣體分子的化學作用也十分微弱。這種狀態(tài)下，氣體的熱傳導和內摩擦已變得與壓強無關超高真空：氣體分子間碰撞極少，氣體分子主要與器壁相碰撞緒論緒論真空的基本知識各種物質的臨界溫度物質臨界溫度(℃)物質臨界溫度氮(N2)-267.8氬(Ar)-12.4氫(H2)-241.0氧(O2)-118.0氖(Ne)-228.0氪(Kr)-62.5空氣-140.0氙(Xe)14.7乙醚194.0二氧化碳(CO2)31.0氨(NH3)132.4鐵(Fe)3700.0酒精243.0甲烷(CH4)-82.5水(H2O)374.2氯(Cl2)144汞(Hg)1450.0一氧化碳(CO)-140.2可以看出，氮、氫、氬、氧和空氣等物質的臨界溫度遠低于室溫，所以常溫下它們是氣體；水蒸氣、有機物質和氣態(tài)金屬的臨界溫度遠高于室溫，所以常溫下它們是蒸氣

第二節(jié)

稀薄氣體的基本性質Ideal-GasLaw玻義爾定律蓋?呂薩克定律查理定律玻義爾定律：一定質量的氣體，在恒定溫度下，氣體的壓強與體積的乘積為常數(shù)。

PV=C或P1V1

=P2V2稀薄氣體的基本性質蓋?呂薩克定律：一定質量的氣體，在壓強一定時，氣體的體積與絕對溫度成正比。

V=CT或V1/T1=V2/T2查理定律：一定質量的氣體，如果保持體積不變，則氣體的壓強與絕對溫度成正比。

P=CT或P1/T1=P2/T2

稀薄氣體的基本性質一、氣體分子的運動速度及其分布氣體分子運動論認為：氣體的大量分子每時每刻都處于無規(guī)則的熱運動之中，其平均速度取決于氣體所具有的溫度；同時，在氣體分子之間以及氣體分子與容器壁之間，發(fā)生著不斷的碰撞過程，這種碰撞過程的結果之一是使氣體分子的速度服從一定的統(tǒng)計分布。氣體分子的運動速度υ服從麥克斯韋爾-玻耳茲曼(Maxwell-Boltzmann)分布：稀薄氣體的基本性質M：氣體分子的相對原子質量T：熱力學溫度R：氣體常數(shù)上式表明：氣體分子的速度分布只取決于分子的相對原子質量M與氣體熱力學溫度T的比值。稀薄氣體的基本性質氣體分子的速度具有很大的分布空間。溫度越高、氣體分子的相對原子質量越小，分子的平均運動速度越大

稀薄氣體的基本性質不同種類氣體分子的平均運動速度也只與T/M的平方根成正比在常溫條件下，一般氣體分子的運動速度是很高的。比如在T=300K時，空氣分子的平均運動速度υa≈460m/s氣體分子的平均運動速度稀薄氣體的基本性質最可幾速度——用于討論速度分布平均速度

——用于計算分子運動的平均距離均方根速度——用于計算分子的平均動能稀薄氣體的基本性質二、氣體分子的平均自由程其統(tǒng)計平均值：

每個分子在連續(xù)兩次碰撞之間的路程稱為自由程

稱為平均自由程

平均自由程與分子密度n和分子直徑σ的平方成反比關系

平均自由程與壓強成反比，與溫度成正比

稀薄氣體的基本性質若氣體種類和溫度一定的情況下在25℃的空氣情況下或稀薄氣體的基本性質三、碰撞次數(shù)與余弦定律入射頻率：單位時間內，在單位面積的器壁上發(fā)生碰撞的分子數(shù)，用v表示n：氣體分子的密度va：氣體分子的平均速度

上述公式稱為赫茲-克努森(Hertz-Knudsen)公式，它是描述氣體分子熱運動的重要公式

稀薄氣體的基本性質單位時間碰撞單位固體表面分子數(shù)的另一表達式例如，對于20℃的空氣，則有v20=2.86×1018P

(個／cm2·s)

式中P的單位為帕(Pa)

M40，T293KP10-3Pa則有v20=2.4×1015P(個／cm2·s)

式中P的單位為帕(Pa)

稀薄氣體的基本性質碰撞于固體表面的分子，它們飛離表面的方向與原入射方向無關，并按與表面法線方向所成角度θ的余弦進行分布。則一個分子在離開其表面時，處于立體角dω(與表面法線成θ角)中的幾率是：氣體分子從表面的反射－余弦定律式中1/π是歸一化條件，即位于2π立體角中的幾率為1而出現(xiàn)的稀薄氣體的基本性質余弦定律的重要意義在于：(1)它揭示了固體表面對氣體分子作用的另一個方面，即將分子原有的方向性徹底“消除”，均按余弦定律散射(2)分子在固體表面要停留一定的時間，這是氣體分子能夠與固體進行能量交換和動量交換的先決條件，這一點有重要的實際意義第三節(jié)真空的獲得真空系統(tǒng)應包括：待抽空的容器(真空室)獲得真空的設備(真空泵)

測量真空的器具(真空計)

必要的管道、閥門和其他附屬設備

判斷真空系統(tǒng)能否滿足鍍膜的兩個指標：系統(tǒng)所能達到的最低壓強抽氣的速率

真空的獲得前級泵：能使壓力從一個大氣壓開始變小，進行排氣的泵常稱為“前級泵”次級泵：只能從較低壓力抽到更低壓力的真空泵稱為“次級泵”極限真空：任何一個真空系統(tǒng)，都不可能得到絕對真空，而是具有一定的壓強，稱為極限壓強或極限真空抽氣速率：指在規(guī)定壓強下單位時間所抽出氣體的體積，它決定抽真空所需要的時間真空的獲得真空泵分為：輸運式真空泵捕獲式真空泵

輸運式真空泵采用對氣體的壓縮方式將氣體分子輸送至真空系統(tǒng)之外

捕獲式真空泵依靠在真空系統(tǒng)內凝結或吸附氣體分子的方式將氣體捕獲，排出于真空系統(tǒng)之外

輸運式真空泵：旋轉式機械真空泵、油擴散泵、復合分子泵

捕獲式真空泵：分子篩吸附泵、鈦升華泵、濺射離子泵、低溫泵

真空的獲得至今還沒有一種泵能直接從大氣一直工作到超高真空常常需要把２～３種真空泵組合起來構成復合排氣系統(tǒng)以達到所需要的高真空

旋片泵噪聲小，速度高，原理建立在玻-馬略特定律基礎上:P0V0=P1V1擴散泵是利用被