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文檔簡介
半導(dǎo)體廠務(wù)工作吳世全國家奈米元件實驗室一、前近年體晶圓廠已進(jìn)展到8"晶圓的量產(chǎn)規(guī)模,同時,也著手規(guī)劃12"晶圓的建廠與生產(chǎn),準(zhǔn)備迎接另一世代的產(chǎn)業(yè)規(guī)各廠不斷地擴(kuò)增其產(chǎn)能與擴(kuò)充其廠區(qū)規(guī)稍一停頓即會從此競爭中敗下陣著製程技術(shù)不斷地往前邁進(jìn),從0.25μm設(shè)計規(guī)格的64Mb(百萬位元)(動態(tài)隨機(jī)記憶元件)記憶體密度的此際技術(shù)起,又加速地往0.18μ規(guī)格的256M發(fā)展;甚至0.13μm的1Gb(十億位元)集積度的DRAM元件設(shè)計也屢見不鮮。亦即整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正陷入尖端技術(shù)更迭的追逐戰(zhàn),在競爭中,除了更新製程設(shè)備外,最重要的是維持廠區(qū)正常運作的廠務(wù)工作之配合,而這兩方面的支出乃佔資本財?shù)淖畲笞?。特別是多次的工安事故及環(huán)保意識抬頭之後,廠務(wù)工作更是倍顯其重要及殷切。事實上,半導(dǎo)體廠的廠務(wù)工作為多援屬性的任務(wù),也是後勤配合與收攤(廢棄物)處理的工作;平時很難察覺其重要性,但狀況一出,即會令整廠雞飛狗跳,人仰馬翻,以致關(guān)廠停機(jī)的地步。所以,藉此針對廠務(wù)工作的內(nèi)容做一概略性的描述,說明其重要性並供作參考與了解。文章分為三部份:首先為廠務(wù)工作的種類,其次是廠務(wù)工作的未來方向,最後是本文的結(jié)語。二、廠工作的種類目前在本實驗室所代表的半導(dǎo)體製程的廠務(wù)工作,約可分為下列數(shù)項:1.一般氣體及特殊氣體的供應(yīng)及監(jiān)控。2.超純水之供應(yīng)。精選資料,歡迎下載
3.中央化學(xué)品的供4.潔淨(jìng)室之溫的維持。5.廢水及廢氣的處理系統(tǒng)。6.電力,照明及冷卻水的配合。7.潔淨(jìng)隔間,及相關(guān)系統(tǒng)的營繕支援工作。8.監(jiān)控,輔佐事故應(yīng)變的機(jī)動工作等數(shù)項。下述將就各項工作內(nèi)容予以概略性說明:1.一般氣體及特殊氣體的供應(yīng)及監(jiān)控[1]精選資料,歡迎下載
一座半導(dǎo)體廠所可能使用的氣體約為30種上下,其氣體的規(guī)格會隨製程要求而有不同;但通??煞譃橛昧枯^大的一般氣(Bulk,用量較小的特殊氣體(SpecialGsa)二大類。在一般氣體方面,包括有,O,Ar,H。另在特殊222氣體上,可略分為下述三大類:(1)惰性氣體(InertGas)的He,SF,CO,CF,CF,CHCHF等。62426483(2)燃燒性氣體(FlammableGas)的SiH,Si,BH,PH,SiHCl,,CH及42626322322CO等。(3)腐蝕性氣體(Corrosive的Cl,HCl,WF,NH,,,2263234AsH,ClF,NO,SiCl,AsClSbCl等332435實際上,有些氣體是兼具燃燒及腐蝕性的。其中除惰性氣體外,剩下的均歸類為毒性氣體。SiH,BH,PH均屬自燃性氣體(Pyrophoricity),即在很低的濃度4263觸大氣會產(chǎn)生燃燒的現(xiàn)些僅是一般晶圓廠的氣源而已,若是實驗型的氣源種類,則將更為多樣性。精選資料,歡迎下載
其在供氣的流程上,N採行的方式,有1.由遠(yuǎn)方的N生器配管輸送,2使22用液氣槽填充供應(yīng)3利N近廠產(chǎn)生器等三種。目前園區(qū)都1式為主,但2新建廠房的N量增鉅,有傾向以近廠生器來更替;而本實驗室則以液槽22供應(yīng)O體亦多採用液槽方式,不H體在國內(nèi)則以氣態(tài)高壓鋼瓶為主。圖22一乃氣體供應(yīng)之圖示。純化器方面,NO般均採用觸煤吸附雙塔式,Ar則22以Getter(吸附抓?。┦綖橹?,H可有Getter,Pd膜擴(kuò)散式和觸媒加超低2溫吸附式等三項選擇。精選資料,歡迎下載
至於危險特殊氣體的供應(yīng)氣源,大都置於具抽風(fēng)裝置的氣瓶櫃內(nèi),且瓶或3瓶裝方式以利用罄時切換;切換時,須以N體來沖淨(jìng)數(shù)十次以確定安全,櫃2上亦有ESO(EmergenceShutOffValve)閥,即緊急遮斷閥,做為洩漏時的遮斷之用。目前對氣體的不純物要求已達(dá)1ppb(即10
91)的程度,(無塵(((最精選資料,歡迎下載
(無操作Free(無觸化現(xiàn)件的如表二所BrightAnneal則Electro-Polish,(精選資料,歡迎下載
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2
2H一般SO6.024~9.0回收有機(jī)精選資料,歡迎下載
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