基于matlab干涉系統(tǒng)仿真

.專(zhuān)業(yè)資料成績(jī)：《工程光學(xué)》綜合性練習(xí)一題目：基于matlab的干涉系統(tǒng)仿真學(xué)院精密儀器與光電子工程學(xué)院專(zhuān)業(yè)測(cè)控技術(shù)與儀器年級(jí)20**級(jí)班級(jí)*班姓名**學(xué)號(hào)20**年**月綜合練習(xí)大作業(yè)一一、要求3-4人組成小組，對(duì)下面給出的各題目利用Matlab等工具進(jìn)行仿真。二、仿真題目1、對(duì)于氏雙縫干涉，改變雙縫的縫寬和縫間距，觀察干涉圖樣變化①原理圖圖中參數(shù)光線(xiàn)波長(zhǎng)：lam=500納米；雙縫距離：d=0.1毫米；（可調(diào)）雙縫距接收屏距離：D=1米；接收屏圍：xs：-0.005~0.005 ys：-0.005~0.005光源振幅：AI=A2=1;（單位振幅，可調(diào)）②matlab代碼： clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）d=0.5e-3;%設(shè)定兩縫之間距離d（0.5毫米）D=1;%雙縫到接收屏距離D（1米）A1=1;%初始兩光源均為單位振幅A2=1;xm=0.005;ym=xm;%接受屏的圍ym，xm(0.01*0.01矩形)n=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys%（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);L1=sqrt((xs-d/2).^2+ys.^2+D^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1L2=sqrt((xs+d/2).^2+ys.^2+D^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源2距離r2E1=A1./sqrt(L1).*exp(1i*L1*2*pi/lam);%光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2./sqrt(L2).*exp(1i*L2*2*pi/lam);%光源2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加為合成振幅EI=abs(E).^2;%和振幅光強(qiáng)nc=255;%灰度br=(I/4)*nc;%灰度強(qiáng)度image(xs,ys,br);%生成干涉圖樣colormap(gray(nc));③初始干涉仿真圖樣④改變參數(shù)后的仿真圖樣（縫寬即光振幅A1、A2，縫間距d）A1=1.2、A2=1A1=1.5、A2=1（注：改變雙縫寬度，等效為改變光源強(qiáng)度。如寬度增加一倍，光強(qiáng)增加兩倍）d=0.8毫米d=1.2毫米⑤變化分析及曲線(xiàn)：改變雙縫寬度：此處仿真忽視衍射影響，改變雙縫寬度簡(jiǎn)單等效為改變光源光強(qiáng)。由上述仿真圖片可以看出，當(dāng)增加其中一個(gè)縫寬即增加一個(gè)光源光強(qiáng)時(shí)，亮條紋寬度明顯增加，但條紋間距不改變。通過(guò)仿真發(fā)現(xiàn)，當(dāng)一光源為另一光源2.9倍左右強(qiáng)度時(shí)，接收屏上將出現(xiàn)一片亮，即暗條紋消失。改變雙縫間距：根據(jù)氏雙縫干涉相關(guān)結(jié)論，改變雙縫間距，將改變條紋之間間距e，趨勢(shì)為隨著雙縫間距增加，條紋間距逐漸減小。具體數(shù)學(xué)關(guān)系為：e=lam*D/d；曲線(xiàn)表示為：2、對(duì)于氏雙孔干涉，改變雙孔的直徑和孔間距，觀察干涉圖樣變化①原理圖圖中參數(shù):光線(xiàn)波長(zhǎng):lam=500納米；雙孔距離：d=0.5毫米（可調(diào)）；雙縫距接收屏的距離：D=1(米)；接收屏的圍：xs：-0.005—0.005 ys：-0.005—0.005；光源振幅：AI=A2=1;（單位振幅，可調(diào)）②matlab代碼：clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)為500納米d=0.5e-3;%雙孔的距離為0.5毫米D=1;%雙孔到接收屏的距離為1米A1=1;A2=1; %光源振幅A1=A2=1；xm=0.005;ym=xm;%接收屏的圍是0.005；n=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);ys=linspace(-ym,ym,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys%（n為總點(diǎn)數(shù)）r1=sqrt((xs-d/2).^2+ys.^2+D^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1r2=sqrt((xs+d/2).^2+ys.^2+D^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源2距離r2E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);%光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2./r2.*exp(1i*r2*2*pi/lam);%光源2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%?復(fù)振幅疊加為合成振幅EI=abs(E).^2;%和振幅光強(qiáng)nc=255;%灰度br=(I/4)*nc;%灰度強(qiáng)度image(xs,ys,br);%生成干涉圖樣colormap(gray(nc));③初始干涉仿真圖樣④改變參數(shù)后的仿真圖樣（孔直徑即光振幅A1、A2，縫間距d）A1=1.8、A2=1A1=2.3、A2=1（注：改變孔直徑，等效為改變光源強(qiáng)度。如直徑增加一倍，光強(qiáng)增加四倍）空間距離d=0.8毫米空間距離d=1.2毫米⑤變化分析及曲線(xiàn)：改變孔直徑：基本規(guī)律同氏雙孔干涉，唯一區(qū)別是當(dāng)雙孔直徑增加一倍時(shí)，等效為光源光強(qiáng)增加四倍。改變雙縫間距：根據(jù)氏雙孔干涉相關(guān)結(jié)論，改變雙孔間距，將改變條紋之間間距e，趨勢(shì)為隨著雙縫間距增加，條紋間距逐漸減小。具體數(shù)學(xué)關(guān)系為：e=lam*D/d；曲線(xiàn)表示為：3、改變下列光波場(chǎng)分布，觀察干涉圖樣變化（1）如左圖所示，兩平面光波疊加，改變光波振幅比a、兩光波夾角theta，觀察在接收屏上的干涉圖樣變化；①圖中參數(shù)：光線(xiàn)波長(zhǎng):lam=500納米；雙縫距接收屏的距離：D=1(米)；接收屏的圍：xs：-0.000002—0.000002 ys：-0.000002—0.000002；兩光波夾角：theta=90度（可調(diào)）光源振幅：AI=1;A2=a*A1;（a為光波振幅比，初始為1，可調(diào)）②matlab代碼：clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）theta=pi/2;%設(shè)定兩平面波夾角theta（90度）A1=1;%光源均為單位幅度a=1;%a為振幅比A2=a*A1;%a=A2/A1xm=0.000002;ym=xm;%接受屏的圍xm，ym(0.000004*0.000004矩形)n=1001;xs=linspace(-xm,xm,n); %用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);%生成網(wǎng)格采樣點(diǎn)n*n矩陣E1=A1.*exp(-1i*xs*cos(theta/2)*2*pi/lam);%平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(1i*xs*cos(theta/2)*2*pi/lam);%平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);%生成干涉圖樣shadingflat;colormapgray③初始干涉仿真圖樣：④改變參數(shù)后的仿真圖樣（光波振幅比a、兩光波夾角theta）a=1.6a=2.1theta=60°theta=120°⑤變化分析：改變光波振幅比a：改變光波振幅比a即為改變光源光強(qiáng)。由上述仿真圖片可以看出，當(dāng)增大光波增幅比a時(shí)，亮條紋寬度明顯增加，但條紋間距不改變。通過(guò)仿真發(fā)現(xiàn)，當(dāng)a增加到2.9左右時(shí)，接收屏上將出現(xiàn)一片亮，即暗條紋消失。改變兩光波夾角theta：根據(jù)仿真圖樣可以得知，兩光波夾角theta越大，出現(xiàn)的干涉條紋間距約大。（2）如右圖所示，兩點(diǎn)光源前后放置，改變其間距，觀察在接收屏上的干涉圖樣變化；①圖中參數(shù)：光線(xiàn)波長(zhǎng):lam=500納米；兩點(diǎn)光源間距：d=0.002米；(可調(diào))點(diǎn)光源S2到接收屏距離：Z=0.02米接收屏的圍：xs：-xs—xs； ys：-ys—ys；②matlab代碼clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）d=2e-3;%設(shè)定之間兩點(diǎn)光源間距離d（0.002米）Z=2e-2;%點(diǎn)光源S2到接收屏距離ZA1=1;%兩光源均為單位幅度A2=A1;xm=2e-3;ym=xm;%接受屏的圍xm，ymn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組ys=linspace(-ym,ym,n);%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);%生成網(wǎng)格采樣點(diǎn)n*n矩陣r1=sqrt(xs.^2+ys.^2+(Z+d)^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1r2=sqrt(xs.^2+ys.^2+Z^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源2距離r2E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);%點(diǎn)光源S1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2./r2.*exp(1i*r2*2*pi/lam);%點(diǎn)光源S2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);%生成干涉圖樣shadingflat;colormapgray③初始干涉仿真圖樣：④改變參數(shù)后的仿真圖樣（光源間距d）d=0.003d=0.001⑤變化分析及曲線(xiàn)：改變光源間距d：由仿真圖樣可以得知，改變光源間距，將改變同心圓環(huán)的分布。具體為，d越大，同心圓環(huán)半徑減小，表現(xiàn)為向圓心聚攏，條紋更加密集。（3）如右圖所示，兩點(diǎn)光源并排放置，改變其聚散性（會(huì)聚球面波、發(fā)散球面波）和間距，觀察在接收屏上的干涉圖樣變化。①圖中參數(shù)：圖中參數(shù)：光線(xiàn)波長(zhǎng):lam=500納米；兩點(diǎn)光源間距：d=0.002米；(可調(diào))接收屏的圍：xs：-xs—xs； ys：-ys—ys；②matlab代碼:clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）d=2e-3;%設(shè)定兩點(diǎn)光源之間距離d（0.002米）D=d/2;%雙點(diǎn)光源到接收屏距離（接受屏垂直于兩點(diǎn)光%源連線(xiàn)）A1=1;%兩光源均為單位幅度A2=A1;xm=0.00008;ym=xm;%接受屏的圍ym，xmn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組ys=linspace(-ym,ym,n);%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);%生成網(wǎng)格采樣點(diǎn)n*n矩陣r1=sqrt(xs.^2+ys.^2+D^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1r2=sqrt(xs.^2+ys.^2+D^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源2距離r2E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);%點(diǎn)光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2./r2.*exp(-1i*r2*2*pi/lam);%點(diǎn)光源2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);shadingflat;colormapgray③初始干涉圖樣：兩光源聚散性相反兩光源聚散性相同④改變參數(shù)后的仿真圖樣：d=0.001d=0.003⑤變化分析及曲線(xiàn)：改變聚散性：當(dāng)兩點(diǎn)光源聚散性相反時(shí)，將形成同心圓環(huán)；聚散相同時(shí)，將形成一亮斑；改變光源間距d：由仿真圖樣可以得知，改變光源間距，將改變同心圓環(huán)的分布。具體為：d越小，同心圓環(huán)半徑減小，表現(xiàn)為向圓心聚攏，條紋更加密集。（與上一模型正好相反）4、如圖4-6所示，改變平面光波場(chǎng)分布，觀察干涉圖樣變化1）垂直入射原理圖圖中參數(shù)：光線(xiàn)波長(zhǎng)：lam=500nm；點(diǎn)光源到接收屏距離：D=1m；接收屏圍：xs：-0.002—0.002 ys：-0.002—0.002光源振幅：A1=A2=1；（可調(diào)）②matlab代碼：clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）D=1000e-3;%點(diǎn)光源孔到接收屏距離A1=1;%兩光源均為單位幅度A2=A1;xm=0.002;ym=xm;%接受屏的圍ym，xmn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);%生成網(wǎng)格采樣點(diǎn)n*n矩陣r1=sqrt(xs.^2+ys.^2+D^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);%點(diǎn)光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2;%平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);%生成干涉圖樣shadingflat;colormapgray干涉仿真圖樣：2）斜入射（與接收屏法線(xiàn)方向60°）①模型參數(shù)：光線(xiàn)波長(zhǎng)：lam=500nm；點(diǎn)光源到接收屏距離：D=1mm；接收屏圍：xs：-0.00051—0.00051 ys：-0.00051—0.00051光源振幅：A1=A2=1；（可調(diào)）②matlab代碼：clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）D=10e-3;%點(diǎn)光源孔到接收屏距離A1=1;%兩光源均為單位幅度A2=A1;xm=0.00051;ym=xm;%接受屏的圍ym，xmn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);%生成網(wǎng)格采樣點(diǎn)n*n矩陣r1=sqrt(xs.^2+ys.^2+D^2);%光屏上點(diǎn)（xs,ys）距光源1距離r1E1=A1./r1.*exp(1i*r1*2*pi/lam);%點(diǎn)光源1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2*exp(-1i*xs*cos(pi/3)*2*pi/lam);%平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);%生成干涉圖樣shadingflat;colormapgray干涉仿真圖樣：

改變平面光波入射方向：5、用平行光（點(diǎn)光源+準(zhǔn)直鏡）照射如圖7所示不同形狀楔板，觀察干涉圖樣不同形狀楔板斜面楔板當(dāng)薄膜為空氣時(shí)，其折射率n=1，而且上下表面BB與AA之間的夾角又很小，使光線(xiàn)幾乎垂直入射，則C在BB表面上，光線(xiàn)11'和22'的光程差為：?=2d+λ式中，λ2式（1）只與薄膜的厚度d和光波波長(zhǎng)有關(guān)。當(dāng)光程差：?=2d+λ2=(2k+1)λ2（k=1,2,3當(dāng)光程差：?=2d+λ2=2kλ2從以上亮紋或暗紋公式易導(dǎo)出，從一個(gè)條紋過(guò)渡到另一個(gè)條紋，平板的厚度變化為Δh=λ/2n。對(duì)應(yīng)光程差變化為λ，楔板的楔角α=λ/(2ne)。e為條紋間距，且e≈Δhα又2nΔh=λ①matlab代碼：clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）A1=1;%兩光源均為單位幅度A2=A1;%默認(rèn)為相等theta=pi/90;%楔板傾角thetan=1;%楔板折射率nxm=10e-5;ym=xm;%接受屏的圍xm，ymn=1001;xs=linspace(0,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一維數(shù)組%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(0,ym,n);[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);deta=2*n*xs*tan(theta);%光程差phi=2*pi*deta/lam;%相位差E1=A1;%平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(-1i*phi);%平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);%生成干涉圖樣shadingflat;colormapgray干涉圖樣圓柱形楔板（以下分析簡(jiǎn)單為楔板頂端緊貼下平板，matlab程序中完善為之間存在間距h）由圖中幾何關(guān)系可知，干涉環(huán)半徑r處薄膜的厚度d與圓柱的曲率半徑R之間有如下關(guān)系：R=r2+(R-d)2將式（1）代入光程差公式，并認(rèn)為空氣的折射率n=1，則：r①matlab代碼：clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）A1=1;%兩光源均為單位幅度A2=A1;%默認(rèn)為相等h=0.001;%柱面透鏡頂端距離接收屏距離hR=0.1;%柱面透鏡半徑Rn=1;%楔板折射率nxm=10e-4;ym=xm;%接受屏的圍xm，ymn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);deta=h+R-sqrt(R^2-xs.^2)+lam/2;%光程差phi=2*pi*deta/lam;%相位差E1=A1;%平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(-1i*phi);%平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);%生成干涉圖樣shadingflat;colormapgray干涉圖樣：3）球形楔板（牛頓環(huán)干涉系統(tǒng)）（牛頓環(huán)系統(tǒng)與2）中圓柱系統(tǒng)相似，僅將二維推廣到三維，故省略系統(tǒng)分析部分）①matlab代碼：clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）A1=1;%兩光源均為單位幅度A2=A1;%默認(rèn)為相等h=0.001;%凸透鏡頂端距離接收屏距離hR=0.1;%凸透鏡半徑Rn=1;%楔板折射率nxm=5e-4;ym=xm;%接受屏的圍xm，ymn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);deta=h+R-sqrt(R^2-xs.^2-ys.^2)+lam/2;%光程差phi=2*pi*deta/lam;%相位差E1=A1;%平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(-1i*phi);%平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);%生成干涉圖樣shadingflat;colormapgray干涉圖樣：4）不規(guī)則楔板（不規(guī)則楔板即楔板平面距不規(guī)則面的距離為不規(guī)則變化，matlab程序中選用一函數(shù)表示該變化）①matlab代碼：clear;lam=500e-9;%設(shè)定波長(zhǎng)lam（500納米）A1=1;%兩光源均為單位幅度A2=A1;%默認(rèn)為相等h=0.001;%凸透鏡頂端距離接收屏距離hR=0.1;%凸透鏡半徑Rn=1;%楔板折射率nxm=50e-5;ym=xm;%接受屏的圍xm，ymn=1001;xs=linspace(-xm,xm,n);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組%xs，ys（n為總點(diǎn)數(shù)）ys=linspace(-ym,ym,n);[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);deta=h+R-sqrt(R^2-(3*xs+0.0005).^2+(2*ys+0.0003).^2)+lam/2;%光程差phi=2*pi*deta/lam;%相位差E1=A1;%平面波1在接受屏上復(fù)振幅E1E2=A2.*exp(-1i*phi);%平面波2在接受屏上復(fù)振幅E2E=E1+E2;%復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);%生成干涉圖樣shadingflat;colormapgray②干涉圖樣：6、改變平行平板折射率，觀察干涉圖樣①原理圖：

圖中參數(shù)：光線(xiàn)波長(zhǎng):lam=500納米；薄板的折射率：n=1.1（空氣折射率為1）（可調(diào)）薄板的厚度：h=0.01凸透鏡的焦距f=0.3入射角圍：5*pi/;接收屏的圍：xs：-0.001—0.001 ys：-0.001—0.001；光源振幅：A1=A2=1；②matlab代碼：clear;lam=500e-9;%波長(zhǎng)為500納米A1=1;A2=A1;%光源振幅A1=A2=1；h=0.01;%薄板的厚度：h=0.01n=1.1;%薄板的折射率：n=1.1（空氣折射率為1）f=0.3;%凸透鏡的焦距f=0.3xm=10e-3;ym=xm;%接收屏的圍：xs：-0.001—0.001 ys：-0.001—0.001；tm=5*pi/;%入射角圍N=1001;xs=linspace(-xm,xm,N);ys=linspace(-ym,ym,N);%用線(xiàn)性采樣法生成兩個(gè)一位數(shù)組xs，ys%（n為總點(diǎn)數(shù)）ts1=linspace(-tm,tm,N);%入射角[xs,ys]=meshgrid(xs,ys);ts1=atan(sqrt(xs.^2+ys.^2)/f);ts2=asin(sin(ts1)/n);%入射角deta=2*n*h*cos(ts2)+lam/2;%光程差phi=2*pi*deta/lam;%相位差E1=A1;E2=A2.*exp(-1i*phi);%光源在接受屏上復(fù)振幅E=E1+E2;%?復(fù)振幅疊加I=abs(E).^2;%光強(qiáng)pcolor(xs,ys,I);shadingflat;colormapgray初始干涉圖樣改變參數(shù)后的仿真圖樣（改變薄板折射率n）n=1.5 n=1.9變化分析及曲線(xiàn)：觀察三