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半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場分析板塊深度調(diào)整具備配置價值,中報業(yè)績持續(xù)高速增長2023年板塊超額收益明顯,前道環(huán)節(jié)表現(xiàn)優(yōu)于后道封裝截止2023年9月28日,半導(dǎo)體設(shè)備(長江)年初以來累計漲幅19.14%,具有明顯超額收益,復(fù)盤2023年半導(dǎo)體設(shè)備板塊行情走勢,大致經(jīng)歷三個階段。1)2023.2-2023.4,日本和荷蘭半導(dǎo)體制裁官宣,本土晶圓廠擴產(chǎn)預(yù)期上修,以及先進制程擴產(chǎn)預(yù)期落地,板塊迎來明顯上漲。2)2023.5-2023.7,以AI為代表的科技股調(diào)整,市場對美國后續(xù)制裁升級擔(dān)憂,板塊出現(xiàn)深度調(diào)整。3)2023.8-至今,華為Mate60Pro手機回歸,疊加ASML2000i以及后續(xù)光刻機獲得出口許可等利好,帶動板塊迎來較為明顯反彈。就不同環(huán)節(jié)2023年初至今股價漲幅表現(xiàn)看,前道設(shè)備優(yōu)于后道測試設(shè)備:主要系后道封裝行業(yè)景氣度較差,持續(xù)承壓,前道受益于晶圓廠逆周期擴張且國產(chǎn)替代邏輯,前道設(shè)備環(huán)節(jié)國產(chǎn)化率較低的量/檢測、薄膜沉積環(huán)節(jié)漲幅靠前,測試機龍頭年初至今甚至出現(xiàn)下跌。營收端持續(xù)兌現(xiàn)快速增長,利潤端實現(xiàn)翻倍增長利潤端:2023H1十四家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)合計實現(xiàn)歸母凈利潤44.57億元,同比+79.55%,歸母凈利潤增速顯著高于營收入端增速,除了部分公司投資收益等影響,規(guī)模效應(yīng)對板塊盈利水平提升起到積極作用。規(guī)模效應(yīng)下費用率出現(xiàn)下滑,凈利率提升明顯2023H1十四家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)銷售凈利率21.64%,同比+4.33pct,盈利水平提升明顯:1)毛利端,2023H1十四家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)毛利率45.06%,同比-2.24pct,同比出現(xiàn)一定下滑,其中最主要的原因系半導(dǎo)體設(shè)備龍頭北方華創(chuàng)高毛利電子元器件收入占比下降所致,此外封測行業(yè)景氣度承壓,相關(guān)公司毛利率出現(xiàn)下滑。2)費用端,2023H1十四家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)期間費用率為27.86%,同比-1.88pct,主要系規(guī)模效應(yīng),費用率下降對盈利水平提升起到積極作用,此外報告期內(nèi)部分半導(dǎo)體設(shè)備公司投資收益大幅增長,對凈利率也起到正向作用。美、荷、日制裁塵埃落地,國產(chǎn)替代邏輯持續(xù)強化美國:制裁升級至先進制程,后續(xù)制裁或好于市場擔(dān)憂2022年10月7日,美國對向中國半導(dǎo)體制裁升級,主要針對先進制程芯片制造設(shè)備,對128層及以上3DNAND芯片、18nm半間距及以下DRAM內(nèi)存芯片、16nm或14nm或以下非平面晶體管結(jié)構(gòu)(即FinFET或GAAFET)邏輯芯片相關(guān)設(shè)備進一步管控。此外在沒有獲得美國政府許可的情況下,美國國籍公民禁止在中國從事芯片開發(fā)或制造工作。擔(dān)心持續(xù)的制裁升級,是板塊出現(xiàn)調(diào)整的重要因素,此前市場擔(dān)心美國或?qū)⒃诮衲晗奶焱ㄟ^進一步限制芯片制造設(shè)備的銷售,但最終并未落地。近期華為Mate60系列手機上市,引起市場強烈反響,加劇了市場對美國加大制裁管控的擔(dān)憂。參考2018年以來美國對華半導(dǎo)體制裁,步步為營,半導(dǎo)體是中美重要的博弈,我們預(yù)計后續(xù)制裁倘若升級,大概率不會一步到位,有望好于市場擔(dān)憂。日本:全球半導(dǎo)體設(shè)備重要構(gòu)成,眾多細分領(lǐng)域全球領(lǐng)先日本在涂膠顯影、清洗領(lǐng)域具備全球主導(dǎo)地位,并在薄膜沉積、刻蝕等領(lǐng)域全球領(lǐng)先。日本半導(dǎo)體設(shè)備產(chǎn)業(yè)已涌現(xiàn)出TEL、DNS、Hitachi等全球龍頭,其中TEL為世界第三大半導(dǎo)體設(shè)備廠商,業(yè)務(wù)涵蓋涂膠顯影、CVD、ALD、刻蝕、清洗等,尤其在涂膠顯影設(shè)備領(lǐng)域占據(jù)主導(dǎo)地位,我們預(yù)計全球市場份額近90%。此外,清洗設(shè)備也是日本半導(dǎo)體設(shè)備優(yōu)勢領(lǐng)域,2019年DNS和TEL兩家合計全球占比達到77%。日本:中國大陸進口金額加速增長,制裁短期影響不大隨著日本出口芯片設(shè)備的禁令于7月23日正式生效臨近,中國大陸進口日本半導(dǎo)體設(shè)備金額呈明顯增長態(tài)勢:2023年6月和7月進口金額分別為5.50億美元、8.23億美元,分別同比+16.96%、+64.80%,提升明顯,7月更是創(chuàng)造了中國進口日本半導(dǎo)體設(shè)備金額單月新高。2023年1-7月中國大陸累計進口日本半導(dǎo)體設(shè)備金額達到37.98億美元,同比+10.80%,在全球行業(yè)下行的背景下仍實現(xiàn)了穩(wěn)步增長。進一步分析,CVD、干法刻蝕設(shè)備、熱處理、光刻機等日本有一定優(yōu)勢的半導(dǎo)體設(shè)備細分環(huán)節(jié),其中CVD、干法刻蝕設(shè)備、光刻機中國大陸7月進口金額提升明顯,熱處理設(shè)備同比持續(xù)下降,我們判斷主要與北方華創(chuàng)本土企業(yè)實現(xiàn)進口替代有一定關(guān)系。我們認為在日本出口管制生效前,中國大陸加速拉貨,短期看日本制裁生效對國內(nèi)晶圓廠擴產(chǎn)影響不大,中長期看本土設(shè)備突破以及國產(chǎn)替代的進度。荷蘭:出口管制生效,2000i以及后續(xù)型號短期獲得許可2023年3月8日,荷蘭政府以“國家安全”為由,宣布將對包括“最先進的”深紫外光刻機(DUV)在內(nèi)的特定半導(dǎo)體制造設(shè)備實施新的出口管制,并加入美國對華芯片出口管制的陣營。2023年6月30日,荷蘭政府公布了有關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的新規(guī)定,新的出口管制側(cè)重于先進的芯片制造技術(shù),包括最先進的沉積和浸沒光刻系統(tǒng),將于2023年9月1日生效,體現(xiàn)在以下兩方面:1)對DUV設(shè)備(光源波長大于等于193nm)的限制門檻是同時滿足兩個條件:光源波長×K/數(shù)值孔徑<=45nm;套刻精度<=1.5nm。根據(jù)ASML官網(wǎng)聲明,對外出口其最先進的浸沒式DUV光刻系統(tǒng)(TWINSCANNXT:2000i和后續(xù)的浸沒式系統(tǒng)),需要向荷蘭政府申請出口許可證,而1980Di浸潤式光刻系統(tǒng)(套刻精度1.6nm),以及更低端的光刻設(shè)備的出口未受荷蘭政府管控。2)新規(guī)還對用于金屬原子層沉積(ALD)的設(shè)備、進行無空隙等離子體放大沉積的設(shè)備等進行限制。近期,根據(jù)中國日報報道,ASML已向荷蘭政府提出TWINSCANNXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)的出口許可證申請,荷蘭政府也已經(jīng)頒發(fā)了截至9月1日所需的許可證,允許ASML2023年繼續(xù)發(fā)運TWINSCANNXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。自2024年1月1日起,ASML將基本不會獲得向中國客戶發(fā)運這些設(shè)備的出口許可證。美、日、荷制裁落地,設(shè)備進口替代邏輯持續(xù)強化整體來看,半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化率仍處于低位。收入口徑下,2022年11家半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)合計實現(xiàn)營收378億元,同比+54%,對應(yīng)半導(dǎo)體設(shè)備市場整體國產(chǎn)化率仍不足20%。細分領(lǐng)域來看,國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)在清洗、熱處理、CMP、刻蝕設(shè)備等領(lǐng)域已取得一定市場份額。然而,對于光刻、量/檢測、涂膠顯影、離子注入設(shè)備等領(lǐng)域,我們判斷2022年國產(chǎn)化率仍低于10%,國產(chǎn)替代空間較大。大陸逆周期擴產(chǎn)加速趨勢明顯,半導(dǎo)體復(fù)蘇拐點信號出現(xiàn)逆周期擴產(chǎn)加速推進,中芯國際資本開支維持高位相較IC設(shè)計、封測環(huán)節(jié),晶圓制造是中國大陸當(dāng)前半導(dǎo)體行業(yè)短板,自主可控驅(qū)動本土晶圓廠逆周期大規(guī)模擴產(chǎn)。中國大陸市場晶圓產(chǎn)能缺口較大,2021年底晶圓全球產(chǎn)能占比僅為16%(包含臺積電、海力士等外資企業(yè)在本土的產(chǎn)能),遠低于半導(dǎo)體銷售額全球占比。外部制裁事件頻發(fā)的背景下,晶圓環(huán)節(jié)自主可控需求越發(fā)強烈,本土晶圓廠逆周期擴產(chǎn)訴求持續(xù)放大。中國大陸營收占比提升,海外龍頭對大陸擴產(chǎn)指引樂觀SEMI數(shù)據(jù)顯示,2023Q2中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備出貨金額75.5億美金,占比29.25%,是唯一同環(huán)比均實現(xiàn)增長地區(qū),進一步驗證國內(nèi)晶圓廠逆周期擴產(chǎn)。下面從全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭可以得出同樣結(jié)論:ASML2023Q2實現(xiàn)營業(yè)收入69億歐元,同比+27.8%,中國大陸地區(qū)收入占比24%,環(huán)比大幅提升16pct;2023Q2浸沒式DUV銷售39臺,環(huán)比增加14臺。根據(jù)ASML業(yè)績說明會,中國對Fab建設(shè)的戰(zhàn)略投資,使得未來幾年內(nèi)這些需求是非??沙掷m(xù)的,對中國大陸晶圓廠擴產(chǎn)保持樂觀態(tài)度。半導(dǎo)體行業(yè)逐步回暖,景氣度拐點信號已經(jīng)出現(xiàn)根據(jù)SIA數(shù)據(jù),2023年2月全球半導(dǎo)體單月銷售額觸底,為3970億美元,同比-20.70%,此后連續(xù)5個月出現(xiàn)環(huán)比改善,3-7月環(huán)比增長幅度分別為0.33%、0.53%、1.75%、3.66%、2.34%,拐點信號明顯,可見全球半導(dǎo)體整體復(fù)蘇呈現(xiàn)加速態(tài)勢,后續(xù)伴隨下游需求市場回暖以及去庫存結(jié)束,全球半導(dǎo)體行業(yè)有望進入新一輪上升周期。中國半導(dǎo)體行業(yè)同樣出現(xiàn)復(fù)蘇跡象,2023年3月以來,連續(xù)4個月環(huán)比為正,環(huán)比增幅分別為1.19%、3.15%、3.93%、4.37%、2.58%,環(huán)比增速均高于全球市場,考慮到中國市場下游新能源等領(lǐng)域發(fā)展較快,更看好中國半導(dǎo)體市場復(fù)蘇彈性。自主可控&下游景氣復(fù)蘇,看好2024年半導(dǎo)體設(shè)備需求放量歷史數(shù)據(jù)表明,全球半導(dǎo)體設(shè)備銷售額與半導(dǎo)體銷售額同比增速呈現(xiàn)高度聯(lián)動效應(yīng),同時在行業(yè)上行周期時,半導(dǎo)體設(shè)備可以表現(xiàn)出更高的同比增速,具備更強增長彈性。展望2024年,全球范圍內(nèi)來看,在終端消費持續(xù)復(fù)蘇的背景下,SEMI預(yù)計2024年全球晶圓廠設(shè)備支出約1000億美元,同比增長14%,2024年半導(dǎo)體設(shè)備需求有望明顯反彈,進入下一輪上行周期。對于中國大陸市場,疊加自主可控需求,我們看好2024年半導(dǎo)體設(shè)備需求加速放量。華為Mate60系列手機回歸,利好半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化受美國制裁影響,華為智能手機出貨量下滑明顯IDC數(shù)據(jù)顯示,2018-2020年,華為智能手機出貨量穩(wěn)居世界前三,2019年智能手機出貨量達到2.41億部,全球市占率17.6%。根據(jù)Canalys數(shù)據(jù),2020Q2華為更是在全球智能手機同比大幅下滑的背景下,實現(xiàn)出貨近5580萬臺,超過三星,登頂全球智能手機出貨榜首。但隨著美國對華為制裁升級以及芯片出口限制,華為智能手機銷量大幅下降,遇到了前所未有的困境,2020年11月華為宣布出售旗下榮耀手機,2020年智能手機出貨量降至1.89億部,同比-21.45%,全球市占率同比-3.0pct。Couterpoint數(shù)據(jù)顯示,2021和2022年華為智能手機出貨量繼續(xù)大幅下滑,在中國智能手機市場市占率僅為10.0%和7.9%,跌出國內(nèi)市場前五,美國制裁下,華為智能手機業(yè)務(wù)短期受到重創(chuàng)。Mate60系列回歸,搭載國產(chǎn)麒麟芯片引爆市場2023年華為恢復(fù)了高端旗艦機發(fā)布節(jié)奏,2023年3月發(fā)布了P60系列手機,智能手機銷量恢復(fù)快速增長。IDC數(shù)據(jù)顯示,2023Q2中國智能手機市場出貨量約6570萬臺,同比下降2.1%,在行業(yè)持續(xù)低迷的背景下,華為智能手機逆勢增長,2023Q2出貨量同比大幅增長76.1%,國內(nèi)市占率達到13.0%,同比+5.7pct。研發(fā)與產(chǎn)業(yè)投資并舉,華為大力布局半導(dǎo)體領(lǐng)域在美國制裁管控下,華為始終走在國產(chǎn)替代的前列,并取得積極成果,最直觀的體現(xiàn):①華為持續(xù)加大研發(fā)投入,研發(fā)費用率逐年提升,2022年華為研發(fā)費用高達1615億元,研發(fā)費用率為2

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