GB/T 43088-2023微束分析分析電子顯微術金屬薄晶體試樣中位錯密度的測定方法

ICS7104050

CCSG.04.

中華人民共和國國家標準

GB/T43088—2023

微束分析分析電子顯微術金屬薄晶體

試樣中位錯密度的測定方法

Microbeamanalysis—Analyticalelectronmicroscopy—Measurement

ofthedislocationdensityinthinmetals

2023-09-07發(fā)布2024-04-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標準化管理委員會

GB/T43088—2023

目次

前言

…………………………Ⅲ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術語和定義

3………………1

符號

4………………………2

方法概述

5…………………3

設備

6………………………3

試樣

7………………………4

測定方法

8…………………4

數據處理

9…………………6

測定結果的不確定度

10……………………7

試驗報告

11…………………8

附錄資料性小變形退火鋼中位錯密度的測量示例

A()IF……………9

附錄資料性變形鋁合金中位錯密度的測量示例

B()…………………17

參考文獻

……………………21

Ⅰ

GB/T43088—2023

前言

本文件按照標準化工作導則第部分標準化文件的結構和起草規(guī)則的規(guī)

GB/T1.1—2020《1:》

定起草

。

請注意本文件的某些內容可能涉及專利本文件的發(fā)布機構不承擔識別專利的責任

。。

本文件由全國微束分析標準化技術委員會提出并歸口

(SAC/TC38)。

本文件起草單位首鋼集團有限公司國標北京檢驗認證有限公司

:、()。

本文件主要起草人孟楊鞠新華朱國森付新馬通達崔桂彬史學星閆賀王澤鵬王雅晴

:、、、、、、、、、、

嚴春蓮

。

Ⅲ

GB/T43088—2023

微束分析分析電子顯微術金屬薄晶體

試樣中位錯密度的測定方法

1范圍

本文件規(guī)定了利用透射電子顯微鏡測量金屬薄晶體中位錯密度的設備試樣測定方法數

(TEM)、、、

據處理測定結果的不確定度和試驗報告

、。

本文件適用于測定晶粒內不高于15-2的位錯密度也適用于測量幾十納米至幾百納米厚

1×10m。

度金屬薄晶體試樣中單個晶粒內的位錯密度

。

注1試樣在制備時位錯會從表面逸出當薄晶體試樣厚度較小時逸出的位錯占比相對較大對測量準確性影響

:,,,

較大

。

注2位錯塞積無法辨識時塞積的位錯占比較大晶粒內的位錯密度可能會遠低于試樣中的實際位錯密度

:,,。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內容通過文中的規(guī)范性引用而構成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對應的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

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微束分析分析電子顯微學術語

GB/T40300

3術語和定義

和界定的以及下列術語和定義適用于本文件

GB/T20724GB/T40300。

31

.

位錯密度dislocationdensity

ρ

單位體積薄晶體試樣中所含位錯線的總長度

。

32