浙江里陽(yáng)半導(dǎo)體有限公司年產(chǎn)60萬(wàn)片功率半導(dǎo)體芯片及分立器件制造生產(chǎn)線技改項(xiàng)目環(huán)境影響報(bào)告

浙江里陽(yáng)半導(dǎo)體有限公司年產(chǎn)60萬(wàn)片功率半導(dǎo)體芯片及分立器件制造生產(chǎn)線技改項(xiàng)目環(huán)境影響報(bào)告書(shū)(報(bào)批稿)二○一八年十一月I 11.1項(xiàng)目背景 11.2評(píng)價(jià)目的和原則 21.2.1評(píng)價(jià)目的 21.2.2評(píng)價(jià)原則 21.3環(huán)境影響評(píng)價(jià)的工作程序 31.4建設(shè)項(xiàng)目特點(diǎn) 41.5環(huán)評(píng)關(guān)注的主要環(huán)境問(wèn)題 41.6相關(guān)情況判定 41.7環(huán)評(píng)主要結(jié)論 5 62.1編制依據(jù) 62.1.1國(guó)家有關(guān)法律法規(guī)及部門(mén)規(guī)章 62.1.2地方有關(guān)法規(guī)和環(huán)境保護(hù)文件 82.1.3有關(guān)技術(shù)技術(shù)規(guī)范 92.1.4項(xiàng)目技術(shù)文件及其他依據(jù) 102.2環(huán)境影響因素識(shí)別 112.3評(píng)價(jià)因子與評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn) 112.3.1評(píng)價(jià)因子 112.3.2環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn) 122.3.3污染物排放標(biāo)準(zhǔn) 172.4評(píng)價(jià)工作等級(jí) 202.5評(píng)價(jià)范圍及環(huán)境保護(hù)目標(biāo) 212.5.1評(píng)價(jià)范圍 212.5.2環(huán)境保護(hù)目標(biāo) 222.6相關(guān)規(guī)劃及環(huán)境功能區(qū)劃 262.6.1《玉環(huán)縣域總體規(guī)劃（2006-2020）》 262.6.2環(huán)境功能區(qū)劃 262.7環(huán)境基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)情況 282.7.1玉環(huán)市污水處理廠 282.7.2浙江省臺(tái)州市危險(xiǎn)廢物處置中心 30 323.1建設(shè)項(xiàng)目概況 323.2產(chǎn)品方案、產(chǎn)能匹配性分析及平面布置 333.3主要設(shè)備與原輔料消耗 353.4生產(chǎn)工藝 403.5設(shè)備工藝先進(jìn)性分析 643.6物料平衡 653.7項(xiàng)目污染因素分析 673.8污染源強(qiáng)估算 683.8.1廢水污染源分析 683.8.2廢氣污染源分析 82II3.8.3固廢污染源分析 933.8.4噪聲污染源分析 1003.9項(xiàng)目污染源強(qiáng)匯總 1023.10非正常工況污染源強(qiáng) 103 1044.1自然環(huán)境概況 1044.1.1地理位置 1044.1.2地質(zhì)地貌 1044.1.3氣象氣候 1044.1.4地表水文特征 1054.2環(huán)境空氣質(zhì)量現(xiàn)狀評(píng)價(jià) 1074.3水環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀評(píng)價(jià) 1104.3.1地表水環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀評(píng)價(jià) 1104.3.2地下水環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀評(píng)價(jià) 1124.4聲環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀評(píng)價(jià) 1154.5土壤環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀評(píng)價(jià) 115 1185.1施工期環(huán)境影響分析 1185.2營(yíng)運(yùn)期環(huán)境影響分析 1185.2.1環(huán)境空氣影響分析 1185.2.2地表水環(huán)境影響分析 1345.2.3地下水環(huán)境影響分析 1355.2.4固廢影響分析 1405.2.5聲環(huán)境影響分析 1435.3環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià) 1465.3.1風(fēng)險(xiǎn)識(shí)別 1465.3.2源項(xiàng)及影響分析 1495.3.3風(fēng)險(xiǎn)防范措施 1545.4退役期環(huán)境影響分析 159 1616.1廢水防治對(duì)策 1616.2地下水污染防治措施 1706.3廢氣防治措施 1716.4固廢防治對(duì)策 1736.5噪聲防治對(duì)策 1756.6污染防治措施清單 1756.7行業(yè)相關(guān)規(guī)范符合性分析 1776.7.1與《浙江省電鍍產(chǎn)業(yè)環(huán)境準(zhǔn)入指導(dǎo)意見(jiàn)（修訂）》符合性分析 1776.7.2與《電鍍行業(yè)規(guī)范條件》相符性分析 179 1827.1項(xiàng)目投資估算和分析 1827.2環(huán)保投資及運(yùn)行費(fèi)用 1827.3環(huán)境經(jīng)濟(jì)損益分析 1827.3.1環(huán)境經(jīng)濟(jì)損益分析的目的和方法 182III7.3.2基礎(chǔ)數(shù)據(jù) 1837.3.3環(huán)境經(jīng)濟(jì)指標(biāo)確定 1837.4環(huán)保經(jīng)濟(jì)損益分析 1847.4.1環(huán)保經(jīng)濟(jì)效益指標(biāo)計(jì)算 1847.4.2環(huán)境經(jīng)濟(jì)的靜態(tài)分析 1857.5小結(jié) 185 1868.1環(huán)境管理 1868.1.1管理機(jī)構(gòu) 1868.1.2管理職責(zé) 1868.1.3管理制度 1878.2環(huán)境監(jiān)測(cè)計(jì)劃 1888.2.1監(jiān)測(cè)機(jī)構(gòu) 1888.2.2監(jiān)測(cè)職責(zé) 1888.2.3監(jiān)測(cè)計(jì)劃 1888.2.4竣工驗(yàn)收監(jiān)測(cè) 1898.3污染物排放清單 1928.3.1總量控制 1928.3.2污染物排放清單 194 1979.1結(jié)論 1979.1.1環(huán)境質(zhì)量現(xiàn)狀結(jié)論 1979.1.2工程分析結(jié)論 1989.1.3環(huán)境影響結(jié)論 1999.1.4污染防治結(jié)論 2009.2建設(shè)項(xiàng)目環(huán)評(píng)審批符合性分析 2029.2.1環(huán)評(píng)審批原則符合性分析 2029.2.2“三線一單”控制要求符合性 2039.2.3其他要求符合性分析 2049.3總結(jié)論 2051.1項(xiàng)目背景電力電子器件是采用半導(dǎo)體材料制造、用于實(shí)現(xiàn)電能高效轉(zhuǎn)換的開(kāi)關(guān)控制電子器浙江里陽(yáng)半導(dǎo)體有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事功率半導(dǎo)體芯片及分立器件生產(chǎn)的電子激光劃片機(jī)、氧化清洗機(jī)等設(shè)備，采用清洗、熱氧光刻、刻蝕、金屬沉積、封裝、電鍍錫等，項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)后可形成年產(chǎn)60萬(wàn)片功率半導(dǎo)體芯片及分立器件的生產(chǎn)能力，實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售24000萬(wàn)元，利稅3120萬(wàn)電力電子元器件制造）和C397電子器件制造（C3972半導(dǎo)體分立器件制造、C3973集根據(jù)《中華人民共和國(guó)環(huán)境影響評(píng)價(jià)法》和《浙江省分類(lèi)管理名錄》（原國(guó)家環(huán)保部令第44號(hào)）和《關(guān)于修改《建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)分類(lèi)管理名錄》部分內(nèi)容的決定》（生態(tài)環(huán)境部令部令第1號(hào)），本報(bào)告書(shū)，其他（僅組裝的除外）做報(bào)告表，僅組裝的做登記表”，也涉及《名錄》項(xiàng)目做登記表?！保?，），1.2評(píng)價(jià)目的和原則（1）通過(guò)對(duì)項(xiàng)目所在地周?chē)鐣?huì)、經(jīng)濟(jì)和環(huán)境現(xiàn)狀的調(diào)查與有關(guān)資料收集，掌握（2）通過(guò)對(duì)本項(xiàng)目的分析，分析項(xiàng)目污染源強(qiáng)、污染因子，弄清項(xiàng)目的“三廢”排（3）通過(guò)對(duì)整個(gè)項(xiàng)目環(huán)境制約因素分析，結(jié)合經(jīng)濟(jì)發(fā)展與環(huán)境保護(hù)相互協(xié)調(diào)、相律和法規(guī)，形成環(huán)境影響分析結(jié)論，為項(xiàng)目主管部門(mén)提1.3環(huán)境影響評(píng)價(jià)的工作程序1.4建設(shè)項(xiàng)目特點(diǎn)1.5環(huán)評(píng)關(guān)注的主要環(huán)境問(wèn)題1.6相關(guān)情況判定地性質(zhì)為工業(yè)用地，企業(yè)選址符合《玉環(huán)縣域總體規(guī)劃（2006-2020）》。年本2016年修正）》，本項(xiàng)目屬于鼓勵(lì)類(lèi)中的“二十八、信息產(chǎn)業(yè)第21小點(diǎn)新型敏感元器件及傳感器、新型機(jī)電元件、高密度印刷電路板和柔性電路板等）制造”，不備案（項(xiàng)目代碼2018-331021-39-03-061563-000）。因此本項(xiàng)目符合國(guó)家和省有關(guān)產(chǎn)業(yè)1.7環(huán)評(píng)主要結(jié)論本項(xiàng)目符合環(huán)境功能區(qū)劃要求；排放污染物符合國(guó)家、省規(guī)定的污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，2.1編制依據(jù)19、《國(guó)務(wù)院關(guān)于印發(fā)“十三五”生態(tài)環(huán)境保護(hù)規(guī)劃的通知》，國(guó)發(fā)[2016]65號(hào)，），23、國(guó)土資源部、國(guó)家發(fā)改委《關(guān)于發(fā)布實(shí)施<限制用地項(xiàng)目目錄（2012年本）>24、原環(huán)境保護(hù)部、衛(wèi)生部《關(guān)于進(jìn)一步加強(qiáng)危險(xiǎn)廢物和醫(yī)療廢物監(jiān)管工作的意27、原環(huán)境保護(hù)部辦公廳《關(guān)于印發(fā)<建設(shè)項(xiàng)目主要污染物排放總量指標(biāo)審核及管），32、原環(huán)境保護(hù)部《關(guān)于發(fā)布<一般工業(yè)固體廢物貯存、處置場(chǎng)污染控制標(biāo)準(zhǔn)>），），），），6、浙江省人民政府辦公廳《關(guān)于印發(fā)浙江省建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)文件分級(jí)審批），8、《關(guān)于印發(fā)浙江省大氣污染防治“十三五”規(guī)劃的通知》，浙發(fā)改規(guī)劃〔2017〕9、原浙江省環(huán)境保護(hù)廳《關(guān)于做好揮發(fā)性有機(jī)物總量控制工作的通知》，浙環(huán)發(fā)），12、原浙江省環(huán)保廳《關(guān)于發(fā)布<省環(huán)境保護(hù)主管部門(mén)負(fù)責(zé)審批環(huán)境影響的建設(shè)項(xiàng)目清單（2015年本）>及<設(shè)區(qū)市環(huán)境保護(hù)主管部門(mén)負(fù)責(zé)審批環(huán)境影響評(píng)價(jià)文15、《浙江省環(huán)境保護(hù)廳關(guān)于印發(fā)建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)信息公開(kāi)相關(guān)法律法規(guī)21、臺(tái)州市人民政府辦公室《關(guān)于印發(fā)臺(tái)州市大氣污染防治工作計(jì)劃（2014-201722、臺(tái)州市人民政府《關(guān)于印發(fā)臺(tái)州市水污染防治行動(dòng)計(jì)劃的通知》，臺(tái)政發(fā)23、《關(guān)于印發(fā)<臺(tái)州市2018年度土壤污染綜合防治先行區(qū)建設(shè)實(shí)施方案>的通），25、《臺(tái)州市人民政府關(guān)于玉環(huán)市浙江環(huán)力煙機(jī)有限公司地塊誤劃為生態(tài)功能保），1、原環(huán)境保護(hù)部《建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)導(dǎo)則－總綱》（HJ2.1-2016），），7、原國(guó)家環(huán)境保護(hù)總局《建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià)技術(shù)導(dǎo)則》（HJ/T169-2004），13、生態(tài)環(huán)境部《建設(shè)項(xiàng)目竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收技術(shù)指南污染影響類(lèi)》（生態(tài)環(huán)境），），16、原浙江省環(huán)保局《浙江省建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)要點(diǎn)（修訂版）》，2018-331021-39-03-0612.2環(huán)境影響因素識(shí)別實(shí)施階段環(huán)境因素大氣環(huán)境地表水環(huán)境地下水環(huán)境聲環(huán)境土壤環(huán)境環(huán)境建設(shè)階段設(shè)備安裝///--DZ//環(huán)保設(shè)施建設(shè)-DZ-DJ-DZ--DZ-DZ/生產(chǎn)運(yùn)行生產(chǎn)車(chē)間--CZ--CJ-CJ-CZ-CJ/固廢貯存//-CJ/-CJ/廢水處理/++CZ+CJ/+CJ/廢氣處理++CZ/////++、+”表示“很有利、較有利、略有利”；“Z/J”表示“直接/間接”；“/”表示無(wú)相關(guān)關(guān)系。2.3評(píng)價(jià)因子與評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)評(píng)價(jià)要素影響評(píng)價(jià)因子地表水pH值、溶解氧、高錳酸鹽指數(shù)、懸浮物、氟化物氨氮、總磷、石油類(lèi)總錫、總銅、總鎳、總磷、總氮、SS地下水水位、pH值、氨氮、硝酸鹽、亞硝氟化物、溶解性總固體、高錳酸鹽指數(shù)、硫酸鹽、氰化物、總大腸菌群、砷、汞、鎘、鐵、鉛、錳、Na+、Mg2+、Ca2+、K+、Cl-、SO42-、CO32-、HCO3-環(huán)境空氣PM10、PM2.5、CO、O3、二氧化硫、二氧化氮、乙酸丁酯、二甲苯、氟化物、氯化氫、氨、臭氣濃度、非甲烷總烴鹽酸霧、硫酸霧、醋酸、氮氧化物、甲基磺酸、氨氣、氫氟酸、二甲苯、乙酸丁酯、甲醇、異丙醇、非甲烷總烴聲環(huán)境等效連續(xù)A聲級(jí)等效連續(xù)A聲級(jí)土壤環(huán)境①重金屬和無(wú)機(jī)物（7個(gè)）：砷、鎘、鉻（六價(jià)）、銅、鉛、汞、鎳②揮發(fā)性有機(jī)物（27個(gè)）：四氯化碳、氯仿、氯甲烷、1,1-二氯乙烷、1,2-二氯乙烷、1,1-二氯乙烯、順-1,2-二氯乙烯、反-1,2-二氯乙烯、二氯甲烷、1,2-二氯丙四氯乙烯、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、三氯乙烯、1,2,3-三氯丙烷、氯乙烯、苯、氯苯、1,2-二氯苯、1,4-二氯苯、乙苯、苯乙烯、甲苯、間二甲苯+對(duì)二甲苯、③半揮發(fā)性有機(jī)物（11個(gè)）：硝基苯、苯胺、2-氯酚、苯并[a]蒽、苯并[a]芘、苯并[b]熒蒽、苯并[k]熒蒽、?、二苯并[a,h]蒽、茚并[1,2,3-cd]芘、萘-表2.3-2《地表水環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB3838-2002）單位：除pH外，mg/L項(xiàng)目Ⅳ類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)pH值(無(wú)量綱)溶解氧≥3高錳酸鹽指數(shù)≤化學(xué)需氧量≤30五日生化需氧量≤6氨氮(NH3-N)≤總磷（以P計(jì)）≤0.3石油類(lèi)≤0.5LAS≤0.3..序號(hào)指標(biāo)III類(lèi)Ⅳ類(lèi)感官性狀及一般化學(xué)指標(biāo)1色（鉑鈷色度單位）≤5≤5≤15≤25>252pH值6.5≤pH≤8.55.5≤pH≤6.58.5≤pH≤9.0pH<5.5或pH>9.03總硬度（以CaCO3計(jì)）/（mg/L）≤150≤300≤450≤650>6504溶解性總固體/（mg/L）≤300≤500≤1000≤2000>20005硫酸鹽/（mg/L）≤50≤150≤250≤350>3506氯化物/（mg/L）≤50≤150≤250≤350>3507鐵/（mg/L）≤0.1≤0.2≤0.3≤2.0>2.08錳/（mg/L）≤0.05≤0.05≤0.10≤1.50>1.509銅/（mg/L）≤0.01≤0.05≤1.00≤1.50>1.50鋅/（mg/L）≤0.05≤0.5≤1.00≤5.00>5.00/（mg/L）≤0.001≤0.001≤0.002≤0.01>0.01耗氧量（CODMn法，以O(shè)2計(jì)）/（mg/L）≤1.0≤2.0≤3.0≤10.0>10.0/（mg/L）≤0.02≤0.10≤0.50≤1.50>1.50微生物指標(biāo)總大腸菌群/（MPNb/100mL或CFUc/100mL）≤3.0≤3.0≤3.0≤100>100菌落總數(shù)/（CFU/mL）≤100≤100≤100≤1000>1000毒理學(xué)指標(biāo)亞硝酸鹽（以N計(jì)）/（mg/L）≤0.01≤0.10≤1.00≤4.80>4.80≤2.0≤5.0≤20.0≤30.0>30.0氟化物/（mg/L）≤1.0≤1.0≤1.0≤2.0>2.0氰化物/（mg/L）≤0.001≤0.01≤0.05≤0.1>0.120汞/（mg/L）≤0.0001≤0.0001≤0.001≤0.002>0.00221砷/（mg/L）≤0.001≤0.001≤0.01≤0.05>0.0522鎘/（mg/L）≤0.0001≤0.001≤0.005≤0.01>0.0123鉻（六價(jià)）/（mg/L）≤0.005≤0.01≤0.05≤0.10>0.1024鉛/（mg/L）≤0.005≤0.005≤0.01≤0.10>0.10非常規(guī)指標(biāo)及限值25鎳/（mg/L）≤0.002≤0.002≤0.02≤0.10>0.10（GB3095-2012）及其修改單（生態(tài)環(huán)境部?jī)r(jià)技術(shù)導(dǎo)則大氣環(huán)境》（HJ2.2-2018）附錄D中的參考限值；非甲烷總烴參考環(huán)保部照“前蘇聯(lián)居民區(qū)大氣中有害物質(zhì)的最大允許濃度”（CH-245-71）相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，甲基磺酸），評(píng)價(jià)因子平均時(shí)段標(biāo)準(zhǔn)值單位標(biāo)準(zhǔn)來(lái)源SO2年平均60μg/m3《環(huán)境空氣質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB3095-2012）二級(jí)及其修24小時(shí)平均1小時(shí)平均500NO2年平均4024小時(shí)平均1小時(shí)平均200NOx年平均5024小時(shí)平均1小時(shí)平均250PM10年平均7024小時(shí)平均PM2.5年平均3524小時(shí)平均75TSP年平均20024小時(shí)平均300CO4mg/m31小時(shí)平均O3平均μg/m31小時(shí)平均200氟化物（F）1小時(shí)平均20μg/m324小時(shí)平均7氨200μg/m3《環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)導(dǎo)則大氣環(huán)境》（HJ2.2-2018）附錄D氯化氫50硫酸3003000二甲苯200總揮發(fā)性有機(jī)物（TVOC）8h平均600醋酸最大一次0.2mg/m3前蘇聯(lián)CH245-71晝夜平均0.06異丙醇最大一次0.6晝夜平均0.6乙酸丁酯最大一次0.1晝夜平均0.1甲基磺酸①0.021mg/m3AMEG計(jì)算值一次值②0.064非甲烷總烴1小時(shí)平均2.0mg/m3環(huán)保部科技標(biāo)準(zhǔn)司《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)詳解》注：①根據(jù)經(jīng)驗(yàn)公式計(jì)算其空氣質(zhì)量目標(biāo)值A(chǔ)MEG，計(jì)算公式為：AMEGAH(μg/m3）=0.107×LD50甲基磺酸的LD50=200mg/kg，則甲基磺酸的AMEGAH(μg/m3）=0.107×200=21.4μg/m3②根據(jù)《環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)導(dǎo)則-大氣環(huán)境》（HJ2.2-2008居住區(qū)一次濃度值取日均值的3倍。環(huán)境質(zhì)量執(zhí)行《聲環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB3096-2008）2類(lèi)標(biāo)準(zhǔn)，其中靠226省道一側(cè)執(zhí)表2.3-5《聲環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB3096-2008）單位：dB晝間夜間260504a7055土壤環(huán)境質(zhì)量執(zhí)行《土壤環(huán)境質(zhì)量建設(shè)用地土壤污染風(fēng)險(xiǎn)管控標(biāo)準(zhǔn)（試行）》（GB36600-2018）第二類(lèi)用地相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，詳見(jiàn)表2.3-6。.表建設(shè)用地土壤污染風(fēng)險(xiǎn)篩選值和管制值.序號(hào)污染物項(xiàng)目CAS編號(hào)篩選值管制值基本項(xiàng)目重金屬和無(wú)機(jī)物1砷7440-38-2602鎘7440-43-9653鉻（六價(jià)）18540-29-95.7784銅7440-50-818000360005鉛7439-92-180025006汞7439-97-6387鎳7440-02-09002000揮發(fā)性有機(jī)物8四氯化碳56-23-52.8369氯仿67-66-30.9氯甲烷74-87-3371,1-二氯乙烷75-34-391,2-二氯乙烷107-06-25211,1-二氯乙烯75-35-466200順-1,2-二氯乙烯156-59-25962000反-1,2-二氯乙烯156-60-554二氯甲烷75-09-261620001,2-二氯丙烷78-87-55471,1,1,2-四氯乙烷630-20-61,1,2,2-四氯乙烷79-34-56.85020四氯乙烯127-18-4532171-55-6840840221,1,2-三氯乙烷79-00-52.823三氯乙烯79-01-62.820241,2,3-三氯丙烷96-18-40.5525氯乙烯75-01-40.434.326苯71-43-244027氯苯108-90-72701000281,2-二氯苯95-50-1560560291,4-二氯苯106-46-72020030100-41-42828031苯乙烯100-42-51290129032108-88-31200120033間二甲苯+對(duì)二甲苯108-38-3,106-42-357057034鄰二甲苯95-47-6640640半揮發(fā)性有機(jī)物35硝基苯98-95-37676036苯胺62-53-3260663372-氯酚95-57-82256450038苯并[a]蒽56-55-339苯并[a]芘50-32-840苯并(b)熒蒽205-99-241苯并(k)熒蒽207-08-9150042?218-01-912931290043二苯并[a,h]蒽53-70-344茚并(1,2,3-cd)芘193-39-545萘91-20-370700入玉環(huán)市污水處理廠處理。廢水排放執(zhí)行《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB219），行污水廠進(jìn)管標(biāo)準(zhǔn)（其中氨氮執(zhí)行《工業(yè)企業(yè)廢水氮、磷污染物間接排放限值》目前玉環(huán)市污水處理廠出水執(zhí)行《臺(tái)州市城鎮(zhèn)污水處理廠出水指標(biāo)及標(biāo)準(zhǔn)限值表表2.3-7《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB序號(hào)污染物項(xiàng)目排放限值污染物排放監(jiān)控位置1總鎳（mg/L）0.1車(chē)間或生產(chǎn)設(shè)施廢水排放口2總銅（mg/L）0.3企業(yè)廢水總排放口3總鋁（mg/L）2.0企業(yè)廢水總排放口4氟化物（mg/L）企業(yè)廢水總排放口5總錫*（mg/L）5.0車(chē)間（或車(chē)間處理設(shè)施）排口和總排口6單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排層）單層鍍排水量計(jì)量位置與污染物排放監(jiān)控位置一致注*：參考上海市《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（DB31-199-2009）。..污染因子pHCODCrBOD5NH3-N（以P計(jì)）進(jìn)管標(biāo)準(zhǔn)40035300870出水標(biāo)準(zhǔn)3061.5（2.5）50.315（12）注：每年12月1日到次年3月31日?qǐng)?zhí)行括號(hào)內(nèi)的排放限值。害因素職業(yè)接觸限值化學(xué)有害因素》（GBZ2.1-2007）的污染物最高允許排放濃度(mg/m3)最高允許排放速率(kg/h)無(wú)組織排放監(jiān)控濃度備注排氣筒(m)二級(jí)監(jiān)控點(diǎn)(mg/m3)顆粒物3.5周界外濃度最高點(diǎn)（GB16297-1996）二級(jí)205.93023氮氧化物2400.77周界外濃度最高點(diǎn)20304.4氯化氫0.26周界外濃度最高點(diǎn)0.2200.4330硫酸霧45周界外濃度最高點(diǎn)202.6308.8氟化物9.00.10周界外濃度最高點(diǎn)20μg/m3200.17300.59二甲苯70周界外濃度最高點(diǎn)20305.9周界外濃度最高點(diǎn)208.63029非甲烷總烴周界外濃度最高點(diǎn)4.0203053乙酸丁酯2000.6②//GBZ2.1-200720異丙醇3503.6②//207.2②醋酸//202.4②甲基磺酸①90.384②//DMEG計(jì)算值200.768②注：①DMEGAH(μg/m3）=45×LD50，甲基磺酸的LD50=200mg/kg，則甲基磺酸的DMEGAH(μg/m3）=45×200=9000μg/m3。②根據(jù)《制定地方大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)方法》（GB/T3840-91）計(jì)算最高允許排放速率，具體公示如下：Q=CmRKe式中，Q——排氣筒允許排放速率，kg/h；Cm——標(biāo)準(zhǔn)濃度限值，mg/m3；R——排放系數(shù)，浙江省二類(lèi)功能區(qū)15m高排氣筒R取6，20m高排氣筒R取12；Ke——地區(qū)性經(jīng)濟(jì)技術(shù)系數(shù)，取值為0.5-1.5，本環(huán)評(píng)取1.0。根據(jù)表2.3-4，乙酸丁酯、異丙醇、醋0.6mg/m3、0.2mg/m3、0.064mg/m3，則15m高排氣筒各因子最高允許排放速率分別為0.6kg/h、3.6kg/h、1.2kg/h、0.384kg/h；20m高排氣筒各因子最高允許排放速率分別為1.2kg/h、7.2kg/h、2.4kg/h、0.768kg/h?？刂祈?xiàng)目單位二級(jí)臭氣濃度無(wú)量綱20氨mg/m3控制項(xiàng)目排氣筒高度（m）排放強(qiáng)度（kg/h）臭氣濃度2000（無(wú)量綱）256000（無(wú)量綱）3515000（無(wú)量綱）氨4.9208.725晝間dB夜間dB2605047055險(xiǎn)廢物收集貯存運(yùn)輸技術(shù)規(guī)范》(HJ2025-2012)。一般工業(yè)固體廢棄物的貯存應(yīng)符合2.4評(píng)價(jià)工作等級(jí)根據(jù)《環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)導(dǎo)則－大氣環(huán)境》（HJ2.2-2008）規(guī)定，按下表進(jìn)行評(píng)價(jià)污染源污染因子最大落地濃度(μg/m3)最大濃度落地點(diǎn)(m)評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)(μg/m3)(%)D10%(m)推薦評(píng)價(jià)等級(jí)推薦評(píng)價(jià)范圍(km2)酸性廢氣排氣筒鹽酸霧0.03458.050.000.050.00三5.00×5.00硫酸霧0.04458.0300.000.010.00三5.00×5.00醋酸0.25458.0200.000.00三5.00×5.00氮氧化物0.01458.0250.000.000.00三5.00×5.000.06458.064.000.090.00三5.00×5.00氫氟酸0.00458.020.000.010.00三5.00×5.00堿性廢氣排氣筒373.0200.000.060.00三5.00×5.00有機(jī)廢氣排氣筒二甲苯0.40500.0200.000.200.00三5.00×5.00非甲烷總烴0.10500.02000.000.010.00三5.00×5.00乙酸丁酯0.07505.0100.000.070.00三5.00×5.00500.03000.000.060.00三5.00×5.00異丙醇0.00500.0600.000.000.00三5.00×5.00生產(chǎn)車(chē)間鹽酸霧0.4350.000.860.00三5.00×5.00面源硫酸霧0.57300.000.190.00三5.00×5.00醋酸2.86200.000.00三5.00×5.00氮氧化物250.000.060.00三5.00×5.000.7164.000.00三5.00×5.00氫氟酸0.0420.000.210.00三5.00×5.000.43200.000.210.00三5.00×5.00二甲苯5.72200.002.860.00三5.00×5.00非甲烷總烴2000.000.070.00三5.00×5.00乙酸丁酯100.000.00三5.00×5.0027.453000.000.920.00三5.00×5.00異丙醇600.000.020.00三5.00×5.00所有污染源所有污染物27.45--2.860.00三5.00×5.00本項(xiàng)目實(shí)施后企業(yè)廢水排放量為80779t/a（269t/d），企業(yè)產(chǎn)生的廢水經(jīng)預(yù)處理達(dá)標(biāo)后納管進(jìn)入玉環(huán)市污水處理廠處理，根據(jù)《環(huán)境影響評(píng)價(jià)技術(shù)導(dǎo)則－地面水環(huán)境》），3、聲環(huán)境：本項(xiàng)目位于玉環(huán)市蘆浦鎮(zhèn)漩門(mén)工業(yè)區(qū)，項(xiàng)目所在地東側(cè)為漩門(mén)村居民），），5、風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià)：根據(jù)《建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià)技術(shù)導(dǎo)則境風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià)實(shí)用技術(shù)和方法》，未構(gòu)成重大危險(xiǎn)源，環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)評(píng)價(jià)等2.5評(píng)價(jià)范圍及環(huán)境保護(hù)目標(biāo)（1）水環(huán)境：其保護(hù)目標(biāo)為項(xiàng)目附近地表（2）空氣環(huán)境：保證項(xiàng)目所在區(qū)域及附近區(qū)域的空氣質(zhì)量達(dá)到《環(huán)境空氣質(zhì)量標(biāo)（3）聲環(huán)境：使項(xiàng)目所在區(qū)域的聲環(huán)境在《聲環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》（GB3096-2008）2（4）固體廢棄物：分類(lèi)集中后進(jìn)行減量化、資源化和（5）周?chē)h(huán)境現(xiàn)狀及環(huán)境敏感點(diǎn)：浙江里陽(yáng)半導(dǎo)體有限公司位于玉環(huán)市蘆浦鎮(zhèn)漩門(mén)工業(yè)區(qū)，租用浙江環(huán)力煙機(jī)有限公司部分廠房。企業(yè)東側(cè)為漩門(mén)村居民區(qū)，南側(cè)為S226省道，隔路為漩門(mén)工業(yè)城企業(yè)集聚區(qū)主要環(huán)境敏感點(diǎn)為：企業(yè)東北面35m（距離生產(chǎn)車(chē)間131m）處的漩門(mén)村居環(huán)境要素地名方位與本項(xiàng)目廠界（車(chē)間）距離備注功能要求保護(hù)級(jí)別環(huán)境漩門(mén)村東/東北35m（131m）人口814人環(huán)境空氣質(zhì)量二類(lèi)區(qū)GB3095-2012二級(jí)道頭村北452m（454m）鳳凰村原殼業(yè)村東北556戶，165人原渡頭村東北364戶，1067人海邊村280m（295m）來(lái)人口420人下段村總?cè)藬?shù)672人華盛村外來(lái)人口800多人民人口1167人，外來(lái)人口11643人北側(cè)公益林北側(cè)毗鄰常綠闊葉林(木麻黃林)水環(huán)境人民塘河全長(zhǎng)24.03公里景觀娛樂(lè)用水區(qū)GB3838-2002Ⅳ類(lèi)聲廠界邊界---GB12348-20082類(lèi)、4a類(lèi)地下水廠址區(qū)域--非飲用水源非飲用水源-注：括號(hào)內(nèi)為敏感點(diǎn)距車(chē)間距離。 第24頁(yè)山體(公益林)省道2010南機(jī)高度5公生圖2.5-1項(xiàng)目所在地周?chē)h(huán)境概況夏圖2.5-2項(xiàng)目所在地周邊2.5km范圍敏感點(diǎn)示意圖2.6相關(guān)規(guī)劃及環(huán)境功能區(qū)劃根據(jù)《玉環(huán)縣城市總體規(guī)劃》及玉政函[2004]138號(hào)批復(fù)，玉環(huán)縣城城市總體規(guī)劃建設(shè)用地與自然生態(tài)的融合，將漩門(mén)三期以及城區(qū)周?chē)纳襟w完美的組織到城市空間環(huán)海洋經(jīng)濟(jì)轉(zhuǎn)型示范升級(jí)區(qū)毗鄰，主要道路為S226；北面?zhèn)}儲(chǔ)區(qū)塊和海洋漁業(yè)產(chǎn)業(yè)園主導(dǎo)功能：保障玉城街道、坎門(mén)街道原有工業(yè)企業(yè)的正常生產(chǎn)和鄉(xiāng)鎮(zhèn)建設(shè)，并逐）；）；本化學(xué)原料制造；肥料制造；農(nóng)藥制造；涂料、染料、顏料、油墨及其）；）；2.7環(huán)境基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)情況），[2001]87號(hào)文件批準(zhǔn)立項(xiàng)，屬省重點(diǎn)工程。玉環(huán)市污水處理廠工程于2001年3月正式物處理），二級(jí)處理至《城鎮(zhèn)污水處理廠污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB18918-2002）一級(jí)B時(shí)間水溫(℃)pH值(無(wú)量綱)量表面活性劑2018-08//244.30.340.030.04<0.05<0.0042018-09//240.320.050.270.09<0.05<0.0042018-10//302<0.01<0.040.09<0.05<0.004/6-9≤30≤6≤1.5≤12（15）≤0.3≤0.5≤0.5≤0.3≤0.05是否達(dá)標(biāo)//達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)時(shí)間化物氯化物(ug/L)(ug/L)糞大腸菌群（個(gè)/L）2018-08<0.004<0.02<0.006<0.02403<0.004<0.005<0.07<0.04<0.3<202018-09<0.004<0.02<0.006<0.02399<0.004<0.005<0.07<0.04<0.3<202018-10<0.004<0.02<0.006<0.02346<0.004<0.005<0.07<0.04<0.3<20≤0.5/≤0.5≤0.05/≤0.1≤0.01≤0.1≤1≤100≤1000是否達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)/達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)/達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)達(dá)標(biāo)備注：每年12月1日到次年3月31日?qǐng)?zhí)行括號(hào)內(nèi)的排放限值?！杜_(tái)州市城鎮(zhèn)污水處理廠出水指標(biāo)及標(biāo)準(zhǔn)限值表（試行）》（準(zhǔn)地表水Ⅳ類(lèi)）中沒(méi)有的指標(biāo)按《城鎮(zhèn)污水處理廠污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB18918-2002）中的表2、表3執(zhí)行。），第三章建設(shè)項(xiàng)目概況與工程分析3.1建設(shè)項(xiàng)目概況3、項(xiàng)目性質(zhì)：新建（項(xiàng)目租用浙江環(huán)力煙機(jī)有限公司廠房，故經(jīng)信部門(mén)備案通知6、主要建設(shè)內(nèi)容：租用浙江環(huán)力煙機(jī)有限公司部分廠房，購(gòu)置硅片磨蝕機(jī)、激光劃片機(jī)、氧化清洗機(jī)等國(guó)產(chǎn)設(shè)備，項(xiàng)目建成后可形成年產(chǎn)60萬(wàn)片功率半導(dǎo)體芯片及分總建筑面積共8800m2。主體工程生產(chǎn)車(chē)間車(chē)間面積為80×25m2，設(shè)置原材料倉(cāng)庫(kù)、產(chǎn)品倉(cāng)庫(kù)、塑封車(chē)間。生產(chǎn)車(chē)間均為潔凈車(chē)間。2F車(chē)間面積為80×25m2，設(shè)置光刻車(chē)間、顯影車(chē)間、濕法車(chē)間、擴(kuò)散車(chē)間、蒸發(fā)車(chē)間、中測(cè)車(chē)間、劃片車(chē)間、芯片倉(cāng)庫(kù)、辦公室等。生產(chǎn)車(chē)間均為潔凈車(chē)間。3F車(chē)間面積為80×25m2，設(shè)置大芯片封裝車(chē)間、電鍍車(chē)間、焊接車(chē)間、鍵合車(chē)間、測(cè)試車(chē)間、辦公室。生產(chǎn)車(chē)間均為潔凈車(chē)間。辦公樓位于廠區(qū)東北側(cè)。輔助工程化學(xué)品倉(cāng)庫(kù)化學(xué)品倉(cāng)庫(kù)1位于廠區(qū)東南側(cè)，面積約13×8m2，共2F，為丙類(lèi)倉(cāng)庫(kù)，主要存放酸等化學(xué)品；化學(xué)品倉(cāng)庫(kù)2位于生產(chǎn)車(chē)間北側(cè)，面積為12×3m2，共1F，為甲類(lèi)倉(cāng)庫(kù)，主要存放顯影液等化學(xué)品。特種氣體位于2F擴(kuò)散車(chē)間內(nèi)，不單獨(dú)設(shè)置。液氮站位于生產(chǎn)車(chē)間西側(cè)，設(shè)氮?dú)馄到y(tǒng)一套。液氧儲(chǔ)罐區(qū)位于生產(chǎn)車(chē)間西側(cè)。氫氣儲(chǔ)罐區(qū)位于生產(chǎn)車(chē)間西側(cè)。冷卻水塔共3臺(tái)，位于生產(chǎn)車(chē)間樓頂?？照{(diào)機(jī)房位于生產(chǎn)車(chē)間1F，面積為30×12.5m2。變電室位于生產(chǎn)車(chē)間1F，面積為7.5×12.5m2。純水站區(qū)位于生產(chǎn)車(chē)間1F，面積為28×10m2，產(chǎn)能為25m3/h。壓縮空氣真空泵房位于生產(chǎn)車(chē)間1F，面積為6×10m2。監(jiān)控室位于生產(chǎn)車(chē)間1F，面積為6×10m2。公用工程供水系統(tǒng)由市政供水管網(wǎng)供水。排水系統(tǒng)實(shí)行雨污分流，雨水、清下水接入雨水管網(wǎng)；廢水經(jīng)預(yù)處理后進(jìn)入玉環(huán)市污水處理廠處理達(dá)標(biāo)后排放。供電系統(tǒng)由工業(yè)區(qū)電網(wǎng)供電。環(huán)保工程廢氣處理系統(tǒng)企業(yè)擬設(shè)置5套廢氣收集處理系統(tǒng)，其中酸性廢氣處理系統(tǒng)（二級(jí)堿液噴淋，添加硫代硫酸鈉）一套（28000m3/h堿性廢氣處理系統(tǒng)（水噴淋）一套（8000m3/h），有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)（活性炭吸附濃縮-催化燃燒裝置）一套（15000m3/h），以及塑封廢氣、焊接廢氣收集系統(tǒng)各一套。污水處理系統(tǒng)企業(yè)擬建設(shè)一套處理能力為300t/d的廢水處理系統(tǒng)，位于生產(chǎn)車(chē)間北側(cè)，工藝廢水經(jīng)廠內(nèi)污水處理設(shè)施處理后進(jìn)入玉環(huán)市污水處理廠處理。固廢暫存及處置企業(yè)擬建設(shè)一座危廢堆場(chǎng)，面積約80m2，位于生產(chǎn)車(chē)間1F。序號(hào)位置車(chē)間名稱潔凈度要求1生產(chǎn)車(chē)間3F大芯片封裝車(chē)間2焊接車(chē)間34鍵合車(chē)間5測(cè)試車(chē)間6生產(chǎn)車(chē)間2F擴(kuò)散車(chē)間7濕法車(chē)間8光刻車(chē)間9顯影車(chē)間蒸發(fā)車(chē)間劃片車(chē)間芯片倉(cāng)庫(kù)-塑封車(chē)間3.2產(chǎn)品方案、產(chǎn)能匹配性分析及平面布置 浙江里陽(yáng)半導(dǎo)體有限公司年產(chǎn)60萬(wàn)片功率半導(dǎo)體芯片及分立器件制造生產(chǎn)線技改項(xiàng)目表3.2-1產(chǎn)品方案一覽表序號(hào)月生產(chǎn)規(guī)模備注功率晶閘管芯片3.5萬(wàn)片42萬(wàn)片5寸晶圓2其中晶閘管芯片2萬(wàn)片)24000萬(wàn)只(用功率晶閘管芯片24萬(wàn)片)封裝后產(chǎn)品3晶閘管電極芯片芯片0.5萬(wàn)片)240萬(wàn)只(用晶閘管芯片6萬(wàn)片)封裝后產(chǎn)品4晶閘管模塊3萬(wàn)套(用晶閘管芯片1萬(wàn)片+整流二極管芯片1萬(wàn)片)36萬(wàn)套(用晶閘管芯片12萬(wàn)片+整流二極管芯片12萬(wàn)片)封裝后產(chǎn)品5整流二極管芯片1.5萬(wàn)片18萬(wàn)片5寸晶圓6其中芯片萬(wàn)片)240萬(wàn)只(用整流二封裝后產(chǎn)品本項(xiàng)目芯片生產(chǎn)規(guī)模為60萬(wàn)片，其中功率晶閘管芯片42萬(wàn)片，用于制造TO系列塑封管24萬(wàn)片，用于制造晶閘管電極芯片6萬(wàn)片，用于制造晶閘管模塊12萬(wàn)片；整流二極管芯片18萬(wàn)片，用于整流二極管電極芯片6萬(wàn)片，用于制造晶閘管模塊12萬(wàn)片。最終產(chǎn)品為T(mén)O系列塑封管24000萬(wàn)只、晶閘管電極芯片240萬(wàn)只、晶閘管模塊36萬(wàn)套、整流二極管電極芯片240萬(wàn)只。24萬(wàn)片24萬(wàn)片TO系列塑封管24000萬(wàn)只晶閘管電極芯片240萬(wàn)只12萬(wàn)片晶閘管模塊36萬(wàn)套6萬(wàn)片整流二極管電極芯片240萬(wàn)只功率晶閘管芯片整流二極管芯片60萬(wàn)片圖3.2-1產(chǎn)品方案圖其中電鍍錫生產(chǎn)線產(chǎn)品方案如下：μm58根據(jù)企業(yè)工藝流程和表3.4-1工藝參數(shù)情況，計(jì)算得序號(hào)設(shè)備名稱設(shè)備數(shù)量（臺(tái)）有效生產(chǎn)時(shí)間車(chē)間生產(chǎn)時(shí)間是否匹配1氧化清洗機(jī)16785h/a7200h/a是2二氧化硅刻蝕機(jī)（雙工位）15000h/a是3硫酸去膠機(jī)15225h/a是4硼擴(kuò)清洗機(jī)16815h/a是5磷擴(kuò)清洗機(jī)13405h/a是6溝槽腐蝕機(jī)（雙工位）11000h/a是7金屬化清洗機(jī)2575h/a是8金屬刻蝕機(jī)11025h/a是9有機(jī)去膠機(jī)1是爐管清洗機(jī)275h/a是儲(chǔ)罐區(qū)、液氧儲(chǔ)罐區(qū)和液氮汽化站，車(chē)間頂樓設(shè)置冷卻水塔。具體平面3.3主要設(shè)備與原輔料消耗序號(hào)設(shè)備名稱數(shù)量制造商型號(hào)功能1硅片腐蝕機(jī)2臺(tái)定制硅片減薄濕法車(chē)間2F2廣州半導(dǎo)體研定制方塊電阻測(cè)試擴(kuò)散車(chē)間2F3氧化爐管定制擴(kuò)散車(chē)間2F4穿通擴(kuò)散爐管定制擴(kuò)散車(chē)間2F5硼擴(kuò)爐管定制2管預(yù)擴(kuò)2管再擴(kuò)擴(kuò)散車(chē)間2F6磷擴(kuò)爐管定制2管預(yù)擴(kuò)2管再擴(kuò)擴(kuò)散車(chē)間2F7鎵擴(kuò)爐管（淡硼）定制2管預(yù)擴(kuò)2管再擴(kuò)擴(kuò)散車(chē)間2F8LPCVD爐管定制臺(tái)面長(zhǎng)膜擴(kuò)散車(chē)間2F9玻璃鈍化定制臺(tái)面鈍化擴(kuò)散車(chē)間2F合金爐管定制鋁硅合金擴(kuò)散車(chē)間2F滾磨機(jī)定制玻璃粉配置滾磨，密閉操作擴(kuò)散車(chē)間2F刮粉臺(tái)4臺(tái)定制硅片溝槽上玻璃粉擴(kuò)散車(chē)間2F分析天平定制材料稱重?cái)U(kuò)散車(chē)間2F打標(biāo)機(jī)定制產(chǎn)品打標(biāo)識(shí)擴(kuò)散車(chē)間2F自動(dòng)涂膠機(jī)定制光刻膠涂覆光刻車(chē)間2F雙面光刻2臺(tái)45所SB-602對(duì)位曝光光刻車(chē)間2F單面光刻45所BG406對(duì)位曝光光刻車(chē)間2F顯微鏡4臺(tái)上海精儀定制曝光檢查光刻車(chē)間2F顯影臺(tái)2臺(tái)定制顯影車(chē)間2F20烘箱定制前烘與堅(jiān)膜光刻車(chē)間2F21氧化清洗機(jī)定制氧化/CVD鈍化濕法車(chē)間2F22硼擴(kuò)清洗機(jī)定制硼擴(kuò)工序用濕法車(chē)間2F23磷擴(kuò)清洗機(jī)定制磷擴(kuò)工序用濕法車(chē)間2F24硫酸去膠機(jī)定制穿通、磷光刻去膠濕法車(chē)間2F25金屬刻蝕機(jī)定制鋁金屬刻蝕濕法車(chē)間2F26溝槽腐蝕機(jī)定制溝槽混酸刻蝕濕法車(chē)間2F27有機(jī)去膠機(jī)定制鋁光刻去膠濕法車(chē)間2F28二氧化硅刻蝕機(jī)定制二氧化硅刻蝕濕法車(chē)間2F29爐管清洗機(jī)2臺(tái)定制磷擴(kuò)爐管、硼擴(kuò)爐管濕法車(chē)間2F30甩干機(jī)定制清洗后甩干濕法車(chē)間2F31干法去膠機(jī)進(jìn)口二手去除光刻后的浮渣濕法車(chē)間2F32膜厚測(cè)試儀美國(guó)二氧化硅膜厚測(cè)試擴(kuò)散車(chē)間2F33上海-芯片抽檢擴(kuò)散車(chē)間2F34鋁蒸發(fā)臺(tái)2臺(tái)定制鋁金屬蒸發(fā)蒸發(fā)車(chē)間2F35銀蒸發(fā)臺(tái)4臺(tái)定制銀金屬蒸發(fā)蒸發(fā)車(chē)間2F36金屬化清洗機(jī)2臺(tái)定制鋁蒸發(fā)前清洗蒸發(fā)車(chē)間2F37金屬化甩干機(jī)定制鋁蒸發(fā)清洗后甩干蒸發(fā)車(chē)間2F38烘箱定制烘干蒸發(fā)車(chē)間2F39探針臺(tái)定制芯片測(cè)試中測(cè)車(chē)間2F40測(cè)試系統(tǒng)定制參數(shù)測(cè)試中測(cè)車(chē)間2F41烘箱定制墨點(diǎn)烘干中測(cè)車(chē)間2F42定制耐壓檢測(cè)中測(cè)車(chē)間2F43貼膜機(jī)2臺(tái)定制藍(lán)膜貼敷中測(cè)車(chē)間2F44烘箱定制貼膜烘烤中測(cè)車(chē)間2F45激光劃片機(jī)2臺(tái)定制芯片切割劃片車(chē)間2F46砂輪劃片機(jī)4臺(tái)定制芯片切割劃片車(chē)間2F47劃片清洗機(jī)2臺(tái)定制劃切后清洗劃片車(chē)間2F48合計(jì)98臺(tái)序號(hào)設(shè)備名稱數(shù)量制造商型號(hào)功能1真空燒結(jié)爐上海雷努每臺(tái)3腔芯片焊接1大芯片封裝3F2點(diǎn)膠機(jī)二次保護(hù)大芯片封裝3F3鍍錫電鍍車(chē)間3F4烘箱白膠固化大芯片封裝3F5測(cè)試臺(tái)芯片測(cè)試大芯片封裝3F6自動(dòng)粘片機(jī)芯片焊接2焊接車(chē)間3F7自動(dòng)壓焊機(jī)鍵合壓焊鍵合車(chē)間3F8塑封壓機(jī)塑封車(chē)間1F9軌道測(cè)試機(jī)測(cè)試測(cè)試車(chē)間3F切筋分離機(jī)切筋塑封車(chē)間1F烘箱后固化塑封車(chē)間1F打標(biāo)機(jī)測(cè)試車(chē)間3F合計(jì)序號(hào)設(shè)備名稱數(shù)量規(guī)格所在位置1冷水機(jī)組2臺(tái)300RT2冷卻水泵250m3/h3冷凍水泵270m3/h4冷凍水二次泵2臺(tái)300m3/h5空壓機(jī)組2臺(tái)360m3/h6冷卻水塔300RT樓頂7壓縮空氣吸附設(shè)備2套360m3/h8工藝?yán)鋮s循環(huán)水泵2臺(tái)30m3/h9工藝真空泵2臺(tái)28.8m3/h純水制備系統(tǒng)（70%制備率）10.0m3/hRO水+20.0m3/h超純水組合風(fēng)柜2套30000m3/h排風(fēng)系統(tǒng)2套2000m3/h樓頂液氮儲(chǔ)罐+汽化器30m3廠房西側(cè)廢水處理站300t/d廠房北側(cè)合計(jì)序號(hào)貯存位置原料種類(lèi)年消耗量一次最大貯存量包裝方式1化學(xué)品庫(kù)光刻膠2430kg270kg玻璃瓶裝500ml/瓶2鋁腐蝕液16800kg1874kg塑料桶裝3.76L/桶3混合酸12400kg1420kg塑料桶裝3.76L/桶4硫酸（98%）3294kg366kg塑料桶裝3.76L/桶5鹽酸（37%）2124kg236kg塑料桶裝3.76L/桶6氨水（29%）5328kg273kg塑料桶裝3.76L/桶7氫氟酸（49%）1279kg345kg塑料桶裝3.76L/桶8BOE腐蝕液8400kg575kg塑料桶裝3.76L/桶9雙氧水（31%）7119kg791kg塑料桶裝3.76L/桶B2O3硼乳膠源1800kg225kg塑料桶裝3.76L/桶顯影液14040kg1560kg塑料桶裝3.76L/桶6號(hào)清洗劑3222kg730kg塑料桶裝3.76L/桶三氯氧磷74kg5kg玻璃瓶裝500ml/瓶5258kg395kg塑料桶裝3.76L/桶異丙醇（99%）280kg79kg塑料桶裝3.76L/桶氫氧化鉀27540kg3060kg塑料桶裝3.76L/桶剝離液5084kg565kg塑料桶裝3.76L/桶去毛刺溶液6000kg800kg塑料桶裝3.76L/桶去氧化粉劑1000kg100kg塑料桶裝3.76L/桶20純錫電鍍絡(luò)合劑（甲基磺酸70%）2130kg200kg塑料桶裝3.76L/桶21純錫電鍍錫鹽1600kg150kg塑料桶裝3.76L/桶22無(wú)鉛（純錫）電鍍添加劑500kg50kg塑料桶裝3.76L/桶23錫保護(hù)劑（異丙醇）500kg50kg塑料桶裝3.76L/桶24電解退鍍液（甲基磺酸20-75%）3000kg300kg塑料桶裝3.76L/桶25丁基卡必醇60Kg5Kg玻璃瓶裝500ml/瓶26特氣間硅烷270kg30kg鋼瓶裝27225kg25kg鋼瓶裝2890kgg鋼瓶裝29氯化氫244kg27kg鋼瓶裝30SiH2Cl2g鋼瓶裝31四氟化碳243kg27kg鋼瓶裝32倉(cāng)庫(kù)硅片紙盒裝33測(cè)試片0.2萬(wàn)片紙盒裝34光刻板0.05萬(wàn)塊0.05萬(wàn)塊塑料盒裝35石英管20只紙箱裝36石英舟50只紙箱裝37玻璃粉270kg30kg塑料桶裝38乙基纖維素5Kg0.5kg塑料袋裝39塑封料9000kg1000kg紙箱裝40銅框架18000kg2000kg紙箱裝41焊片120kg20kg真空包裝42焊膏600kg80kg塑料桶裝43鋁絲（鍵合用）500kg50卷塑料盒裝44鋁（蒸發(fā)用）200kg50kg真空包裝45鈦180kg20kg真空包裝46鎳450kg50kg真空包裝47銀450kg50kg真空包裝48鉬片1800kg200kg木箱裝49硅橡膠360kg50Kg紙箱裝50錫球2795kg150kg木箱裝51儲(chǔ)罐區(qū)液氮600000kg20m3罐裝52液氧24000kg3m3杜瓦罐裝53氫氣站600瓶60瓶鋼瓶裝序號(hào)原料種類(lèi)成分說(shuō)明1光刻膠二甲苯75-95%（取85%計(jì)）、環(huán)化橡膠5-25%（取14.7%）、2,6-二（4-疊氮苯亞甲基）-4甲基環(huán)己酮0.2-0.5%（取0.3%）2鋁腐蝕液磷酸76.8%、冰乙酸15.2%、硝酸3%、水5%3混合酸硝酸:氫氟酸:冰乙酸=20:60:34BOE腐蝕液氫氟酸：氟化銨=1:55顯影液乙酸丁酯40-60%（取50%計(jì)）、正庚烷40-60%（取50%計(jì)，按非甲烷總烴計(jì)）6有機(jī)剝離液苯酚70%、表面活性劑30%7塑封料環(huán)氧樹(shù)脂塑封料，由環(huán)氧樹(shù)脂、固化劑、填料、促進(jìn)劑、脫模劑、偶聯(lián)劑等組成。8去毛刺溶液雜環(huán)酮類(lèi)衍生物10-30%、醚類(lèi)衍生物5-30%、聚乙二醇2-10%、氫氧化鉀0.2-5.0%9去氧化粉劑過(guò)硫酸鈉40-70%（取55%）純錫電鍍錫鹽甲基磺酸錫51-53%（取52%計(jì)）、甲基磺酸3-5%（取4%計(jì)）6號(hào)清洗劑正庚烷83.2%、OP-10乳化劑12.3%、二丙二醇丁醚4.5%3.4生產(chǎn)工藝 廢堿液去膠清洗1硼預(yù)擴(kuò)散前清洗淡硼再擴(kuò)淡硼再擴(kuò)散前清淡硼再擴(kuò)洗穿通區(qū)光刻有機(jī)廢氣有機(jī)廢氣CF?光刻勻膠1光刻對(duì)位]光刻顯影1干法刻蝕1含氟、氨廢水硼預(yù)擴(kuò)散硼穿通擴(kuò)散前清洗硼穿通擴(kuò)散淡硼擴(kuò)散前清洗淡硼預(yù)擴(kuò)散磷光刻光刻勻膠2光刻對(duì)位2光刻顯影2干法刻蝕2濕法刻蝕2 第42頁(yè)磷預(yù)擴(kuò)散磷再擴(kuò)前清洗磷再擴(kuò)散光刻勻膠3高溫洗酸性廢水含氨廢水酸性廢水含氨廢水含氟廢水含氟、氨廢水硼再擴(kuò)前清洗去膠清洗3干法刻蝕3濕法刻蝕3硼再擴(kuò)散酸性廢水 溝槽光刻溝槽光刻有機(jī)廢氣玻璃粉滾磨鈍化水CVD前清洗干法刻蝕5光刻勻膠5光刻勻膠4光刻顯影4去膠清洗4溝槽腐蝕有機(jī)廢氣 第44頁(yè)水含氟廢水總烴光刻顯影6干法刻蝕6洗5有機(jī)廢氣酸性廢水有機(jī)廢氣廢顯影液含磷廢水切割廢水循環(huán)過(guò)濾使用背面金屬化清洗廢水清洗廢水合金 第45頁(yè)焊片(點(diǎn)膠)領(lǐng)料(芯片)3、分立器件TO系列封裝制造工藝環(huán)氧樹(shù)脂有機(jī)廢氣有機(jī)廢氣環(huán)氧樹(shù)脂有機(jī)廢氣有機(jī)廢氣領(lǐng)料(芯片)領(lǐng)料(芯片)測(cè)試4、電鍍錫生產(chǎn)工藝V√工段/設(shè)備槽體名稱尺寸（m）單臺(tái)數(shù)溶液主要成分工藝溫度操作時(shí)長(zhǎng)廢水排放規(guī)律排放去向長(zhǎng)寬高磨片化腐（硅片磨蝕機(jī)2臺(tái)）堿洗140%氫氧化鉀溶液80℃1天更換一次廢水處理站氧化清洗（氧化清洗機(jī)1臺(tái)）堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221HF（49%）:純水=1:1024h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站純水洗0.360.20.222純水5min回用，不排放純水制備設(shè)備再生濕法刻蝕蝕刻0.360.20.222氫氟酸：氟化銨=1:540℃一天更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.222純水5min廢水處理站去膠清洗（硫酸去膠機(jī)1臺(tái)）酸洗0.360.20.221濃硫酸（98%）：雙氧水（31%）=95:55min1天更換一次廢水處理站酸洗0.360.20.221濃硫酸（98%）：雙氧水（31%）=95:53min回用至上一槽-熱水洗0.360.20.221純水60℃每50片產(chǎn)品換一次廢水處理站純水洗0.360.20.223純水5min逆流清洗，0.13t/（次·50片產(chǎn)品）廢水處理站硼預(yù)擴(kuò)散前清洗（共用氧化清洗機(jī)）堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站硼穿通擴(kuò)散前清洗（硼擴(kuò)清洗機(jī)1酸洗0.360.20.221HF（49%）:純水=1:1024h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站純水洗0.360.20.222純水5min回用，不排放純水制備設(shè)備再生淡硼擴(kuò)散前清洗（共用氧化清洗機(jī)）酸洗0.360.20.221HF（49%）:純水=1:1024h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站淡硼再擴(kuò)散酸洗0.360.20.221HF（49%）:純水=1:1024h更換一次廢水處理站前清洗（共用硼擴(kuò)清洗機(jī)）純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站磷預(yù)擴(kuò)散前清洗（共用磷擴(kuò)清洗機(jī)）堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站磷再擴(kuò)前清洗（磷擴(kuò)清酸洗0.360.20.221HF（49%）:純水=1:1024h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站純水洗0.360.20.222純水5min回用，不排放純水制備設(shè)備再生濃硼預(yù)擴(kuò)散前清洗（共用硼擴(kuò)清洗機(jī)）堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站濃硼再擴(kuò)散前清洗（共用硼擴(kuò)清洗機(jī)）酸洗0.360.20.221HF（49%）:純水=1:1024h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站溝槽腐蝕（溝槽腐蝕機(jī)1臺(tái)）酸洗0.460.370.272硝酸:氫氟酸:冰乙酸=20:60:348h更換一次廢水處理站純水洗0.460.400.252純水5min0.37t/（次·50片產(chǎn)品）廢水處理站CVD前清洗（與氧化清洗工序共用設(shè)備）堿洗0.360.20.221氨水（29%）:雙氧水（31%）:純水=1:4:2065℃5min12h更換一次，每2h水1600ml廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鹽酸（37%）:雙氧水（31%）:純水=1:2:860-80℃8min12h更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站金屬化前清洗（金屬化0.360.20.2216號(hào)清洗劑5min36h更換一次危廢純水洗0.360.20.221純水洗5min廢水處理站酸洗0.360.20.221氫氟酸:純水=1:205min三天更換一次廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min片產(chǎn)品）廢水處理站鋁刻蝕（金屬刻蝕機(jī)1臺(tái)雙工位）酸洗0.360.20.221鋁腐蝕液60℃12h更換一次危廢純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站酸洗0.360.20.221鋁腐蝕液60℃12h更換一次危廢純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站鋁去膠清洗（有機(jī)去膠機(jī)1臺(tái)）有機(jī)清洗0.360.20.221有機(jī)剝離液5min1天更換一次危廢有機(jī)清洗0.360.20.221有機(jī)剝離液5min回用至上一槽/0.360.20.2215min1天更換一次危廢0.360.20.2215min回用至上一槽/純水洗0.360.20.221純水5min廢水處理站純水洗0.360.20.221純水5min回用至上一槽/爐管清洗（爐管清洗機(jī)2臺(tái)）酸洗1HF:HCl:H2O=1:1:1030min10根管換一次（單臺(tái)設(shè)備每個(gè)月洗5根）廢水處理站純水洗1純水60min廢水處理站去毛刺清洗（塑封料軟軟化0.360.360.221毛刺液5min12小時(shí)更換一次廢水處理站水洗0.360.360.221水洗5min每臺(tái)設(shè)備0.07t/（次·4000只分立器件）廢水處理站注：①純水洗槽采用鼓泡清洗，清洗槽內(nèi)安裝氮?dú)夤呐菅b置，鼓泡的作用是使槽內(nèi)的水活動(dòng)起來(lái)，加速工件表面附作物的剝離。每批芯片（約50片）浸泡在水槽中，每清洗一遍排放一次廢水，共清洗八遍。水洗槽為溢流清洗，有效容積按1計(jì)。②藥液槽槽液初始有效容積按0.9計(jì)。③企業(yè)需定期對(duì)爐管進(jìn)行清洗，采用2臺(tái)爐管清洗機(jī)，單臺(tái)設(shè)備每個(gè)月洗5根，酸洗槽每洗10根管子需更換一次。④由于去毛刺清洗工序，芯片已進(jìn)行塑封等，每批次清洗4000只分立器件，產(chǎn)品占槽體容積的絕大部分，因此軟化后水洗槽有效容積按0.3計(jì)算。槽體名稱尺寸數(shù)量（個(gè)）溶液主要成分工藝溫度工藝時(shí)間廢水排放規(guī)律排放去向去氧化0.330.90.8120-50g/L過(guò)硫酸鈉25-35℃90s一個(gè)月定期更換一次廢水處理站1-60-90s二級(jí)逆流漂洗，0.15t/h廢水處理站純水洗0.330.90.81-60-90s-110%甲基磺酸25-35℃60s一個(gè)月定期更換一次廢水處理站45150g/L甲基磺酸、20g/L甲基磺酸錫、20mL/L添加劑38-42℃750s處理后回用不更換-1-60-90s二級(jí)逆流漂洗，0.15t/h廢水處理站純水洗0.330.90.81-60-90s-0.330.90.8110%異丙醇25-35℃90s一個(gè)月定期更換一次廢水處理站1-60-90s漂洗，0.15t/h廢水處理站純水洗1-60-90s二級(jí)逆流漂洗，0.15t/h廢水處理站純水洗0.330.90.81-60-90s-退掛具退掛槽43電解退鍍液（甲基磺酸20-75%）5min處理后回用不更換-水洗槽0.330.90.824min二級(jí)逆流漂洗，0.2t/h廢水處理站注：項(xiàng)目電極芯片封裝和分立器件封裝制造均涉及電鍍錫工序。分立器件設(shè)計(jì)產(chǎn)能為每掛120條，2.5min一個(gè)節(jié)拍，則每小時(shí)電鍍2880條（每條20只分立器），項(xiàng)目年產(chǎn)分立器24000萬(wàn)只，則分立器件電鍍錫年運(yùn)行4167h。電極芯片涉及產(chǎn)能為每掛936只，2.5min一個(gè)節(jié)拍，則每小時(shí)電鍍22464只，項(xiàng)目年產(chǎn)電極芯片516萬(wàn)只，則電極芯片電鍍錫年運(yùn)行230h。退掛工藝說(shuō)明：每天需退掛具18個(gè)，每次工作時(shí)長(zhǎng)1h。本項(xiàng)目設(shè)3個(gè)退掛槽，同時(shí)退3個(gè)掛具，退鍍時(shí)間為5分鐘。企業(yè)委托深圳市純水一號(hào)水處理科技有限公司設(shè)計(jì)了一套產(chǎn)水能力為20.0m3/h的序號(hào)系統(tǒng)構(gòu)成設(shè)計(jì)能力(m3/h)備注1系統(tǒng)進(jìn)水43.0最大進(jìn)水量：51.0m3/h2預(yù)處理系統(tǒng)產(chǎn)水43.0全量過(guò)濾3預(yù)處理系統(tǒng)反洗用水采用一級(jí)RO系統(tǒng)濃縮水4一級(jí)RO系統(tǒng)進(jìn)水51.0包含二級(jí)RO及EDI系統(tǒng)濃縮水5一級(jí)RO系統(tǒng)產(chǎn)水38.0回收率：73-75%6一級(jí)RO系統(tǒng)濃縮水回收至濃縮水箱用于預(yù)處理反洗用水7二級(jí)RO系統(tǒng)進(jìn)水38.0一級(jí)RO產(chǎn)水8二級(jí)RO系統(tǒng)產(chǎn)水32.2回收率：85-90%9二級(jí)RO系統(tǒng)濃縮水5.8回流至預(yù)處理水箱RO純水用水量直接送至純水用水點(diǎn)EDI系統(tǒng)進(jìn)水22.2二級(jí)RO產(chǎn)水EDI系統(tǒng)產(chǎn)水20.0回收率：90-95%EDI系統(tǒng)濃縮水2.2回流至預(yù)處理水箱Polisher26.0循環(huán)量：30%超純水循環(huán)量6.0保證供水管道沖刷量芯片清洗用水量20.0直接送至超純水用水點(diǎn)序號(hào)項(xiàng)目純水指標(biāo)檢查方法1一級(jí)RO產(chǎn)水電導(dǎo)率≤20μs/cm在線電導(dǎo)率儀檢測(cè)2二級(jí)RO產(chǎn)水電導(dǎo)率≤10μs/cm在線電導(dǎo)率儀檢測(cè)3EDI系統(tǒng)產(chǎn)水電阻率≥15.0MΩcm在線電阻率儀檢測(cè)4拋光混床電阻率≥18.0MΩcm在線電阻率儀檢測(cè)水量=2.2t/h水量=2.2t/h5TOC總有機(jī)碳≦≤50PPB通過(guò)總有機(jī)碳分析儀檢測(cè)6顆粒數(shù)0.1m≦≤10pcs./ml通過(guò)顆粒計(jì)數(shù)器測(cè)定7≤20PPB通過(guò)硅表分析儀檢測(cè)8細(xì)菌37℃下48小時(shí)培養(yǎng)9PH值通過(guò)PH儀監(jiān)測(cè)超純水供水壓力≥0.3Mpa在線壓力表檢測(cè)在線溫控儀檢測(cè)本系統(tǒng)按水質(zhì)要求被分為幾種水質(zhì)類(lèi)型，分別是：RO純水、EDI高純水以及終循環(huán)水量=6.0t/h 系統(tǒng)原水進(jìn)多介質(zhì)過(guò)濾器原水增壓泵保安過(guò)濾器原水箱一級(jí)高壓泵一級(jí)RO水二級(jí)RO裝二級(jí)高壓泵EDI給水紫外殺菌器二級(jí)RO水EDI裝置 系統(tǒng)原水進(jìn)多介質(zhì)過(guò)濾器原水增壓泵保安過(guò)濾器原水箱一級(jí)高壓泵一級(jí)RO水二級(jí)RO裝二級(jí)高壓泵EDI給水紫外殺菌器二級(jí)RO水EDI裝置 二級(jí)拋光混床0.1μ膜濾器循環(huán)水量=6.0t/h絮凝劑活性炭過(guò)濾器pH調(diào)節(jié)劑一級(jí)RO系統(tǒng)0.22μ膜濾器一級(jí)拋光混床TOC脫除器MDG膜脫超純水輸送泵氮封水箱用水點(diǎn)20T/H18.0M.CM硅片清洗是按照各工序的要求放入藥液槽進(jìn)行表面化學(xué)處理，利用化學(xué)藥液的溶槽，將表面粘附的藥液清洗干凈，后進(jìn)入下一道工序。清洗方式是將硅片沉浸在液體槽內(nèi)，同時(shí)為得到更好的清洗效果，使用超聲波。清洗工序主要使用氧化清洗機(jī)，清硅片表面由于H2O2氧化作用生成SiO2氧化膜（約6nm呈親水性該氧化膜又被顆粒和金屬也隨腐蝕層而落入清洗液內(nèi)。此HPM清洗（SC-2試劑）：用一定濃度的鹽酸和雙氧水溶液去除硅片表面的鈉、產(chǎn)生的二氧化硅用以作為擴(kuò)散、離子注入的阻擋層，或介質(zhì)隔離層。典型的熱氧化化勻膠：涂膠前需要通過(guò)對(duì)硅片進(jìn)行電加熱，去除表面吸附的微量水份，溫度 浙江里陽(yáng)半導(dǎo)體有限公司年產(chǎn)60萬(wàn)片功率半導(dǎo)體芯片及分立器件制造生產(chǎn)線技改項(xiàng)目第57頁(yè)高速旋轉(zhuǎn)的硅片表面均勻涂上光刻膠的過(guò)程，勻膠后需要通過(guò)前烘堅(jiān)膜烘箱進(jìn)行電加熱，使其固化，溫度在80-150℃,自然冷卻，廢氣接有機(jī)廢氣排風(fēng)系統(tǒng)。對(duì)位(曝光):是使用光刻機(jī)，并透過(guò)掩膜版對(duì)涂膠后的硅片進(jìn)行光照，使部分光刻膠得到光照，部分光刻膠得不到光照，從而改變光刻膠性質(zhì)。顯影：是對(duì)曝光后的光刻膠進(jìn)行去除，由于光照后的光刻膠溶于顯影液，未被光照的光刻膠不溶于顯影液(對(duì)正膠而言),這樣使光刻膠上形成了圖形(圖示見(jiàn)圖3-1)。5)干法浮渣刻蝕干法刻蝕是在等離子氣氛中選擇性腐蝕基材的過(guò)程，刻蝕氣氛通常含有F等離子或碳等離子體，因此刻蝕氣體通常使用CF?氣體。6)濕法刻蝕通過(guò)光刻顯影后，光刻膠下面的材料要被選擇性地去除。濕法腐蝕是通過(guò)化學(xué)反應(yīng)對(duì)基材進(jìn)行腐蝕的過(guò)程，對(duì)不同的去除物質(zhì)使用不同的的材料。對(duì)不同的對(duì)象，典腐蝕二氧化硅(SiO?)——使用氫氟酸與氟化氨的混合液；7)去膠清洗濕法腐蝕后，要去除上面的光刻膠。8)硼預(yù)擴(kuò)散前清洗硼預(yù)擴(kuò)清洗目的去除芯片表面沾污、金屬離子、顆粒以及有機(jī)沾污等。硼預(yù)擴(kuò)散是在硅表面摻入雜質(zhì)硼原子的過(guò)程，通常是使用B?O?作為硼源，B?O?直接附著在硅片的表面，在1100℃的溫度下，B?O?與硅反應(yīng)產(chǎn)生硼原子，形成硅片摻2B2O3+3Si=3SiO2+4B硼預(yù)擴(kuò)B原子一部分被推進(jìn)硅片內(nèi)部，另一部分與硅、氧原子在硅片表面形成，化學(xué)性質(zhì)不穩(wěn)定的含硼二氧化硅（硼硅玻璃），需要使用稀氫氟酸將其去除。硼預(yù)擴(kuò)是將預(yù)擴(kuò)到硅片內(nèi)部的硼，通過(guò)高溫推進(jìn)的方式，達(dá)到設(shè)計(jì)要求的硼原子擴(kuò)散結(jié)深。推進(jìn)過(guò)程硼在硅片體內(nèi)以熱運(yùn)動(dòng)的方式進(jìn)行擴(kuò)散。在擴(kuò)散程序結(jié)束過(guò)程通常需要通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)將表面的硼源進(jìn)行均勻涂覆，然后進(jìn)入高溫?cái)U(kuò)散爐在氮?dú)獗Ｗo(hù)的環(huán)淡硼再擴(kuò)是將預(yù)擴(kuò)到硅片內(nèi)部的硼，通過(guò)高溫推進(jìn)的方式，達(dá)到設(shè)計(jì)要求的硼原子擴(kuò)散結(jié)深。推進(jìn)過(guò)程硼在硅片體內(nèi)以熱運(yùn)動(dòng)的方式進(jìn)行擴(kuò)散。在擴(kuò)散程序結(jié)束過(guò)程清洗使用堿液與酸液的RCA清洗組合，利用堿液剝離以及絡(luò)合作用去除芯片表 浙江里陽(yáng)半導(dǎo)體有限公司年產(chǎn)60萬(wàn)片功率半導(dǎo)體芯片及分立器件制造生產(chǎn)線技改項(xiàng)目第59頁(yè)磷預(yù)擴(kuò)是在硅表面摻入雜質(zhì)磷原子的過(guò)程，通常是使用POCl?液體作為源，POCl?通過(guò)N?攜帶進(jìn)入擴(kuò)散爐，在高溫氧氣的作用下反應(yīng)生產(chǎn)P?Os,直接附著在硅片的表面，在高溫下P?Os與硅反應(yīng)產(chǎn)生磷原子，形成硅片摻磷的預(yù)擴(kuò)散。典型的化學(xué)反應(yīng)為：該工序使用擴(kuò)散爐，需要多種摻雜氣體，摻雜氣體98~99%參與反應(yīng)，該工序主要產(chǎn)生反應(yīng)后的廢氣(氯氣)。22)磷再擴(kuò)前清洗磷預(yù)擴(kuò)P原子一部分被推進(jìn)硅片內(nèi)部，另一部分與硅、氧原子在硅片表面形成，化學(xué)性質(zhì)不穩(wěn)定的含磷二氧化硅(磷硅玻璃),需要使用稀氫氟酸將其去除。片片圖3.4-2擴(kuò)散工藝示意圖23)磷再擴(kuò)磷再擴(kuò)是將磷預(yù)擴(kuò)進(jìn)入硅片表層的磷原子，通過(guò)高溫推進(jìn)的方式，達(dá)到設(shè)計(jì)要求的磷原子擴(kuò)散結(jié)深。推進(jìn)過(guò)程磷原子在硅片體內(nèi)是以熱運(yùn)動(dòng)的方式進(jìn)行擴(kuò)散。在擴(kuò)散程序結(jié)束過(guò)程通常需要通入氧氣在硅片表面再生長(zhǎng)一定厚度氧化層，以便進(jìn)行下一步光刻。24)濃硼光刻(原理同4)25)干法刻蝕(原理同5)26)濕法刻蝕(原理同6)27)去膠清洗(原理同7)28)濃硼預(yù)擴(kuò)散前清洗去除芯片表面沾污、金屬離子、顆粒以及有機(jī)沾污等。29)濃硼預(yù)擴(kuò)散30)硼再擴(kuò)散前清洗去除芯片表面沾污、金屬離子、顆粒以及有機(jī)沾污等。3SiH2Cl2+4NH3650-750℃Si3N4+6H2+6HClCVD方法制備的Si3N4膜層，一般玻璃粉配置：粘連劑：玻璃粉=1:（2-4重量通入氧氣使其玻璃表面更加致密化，在器件終端CVD上形成一層厚厚的SiO2玻璃鈍在硅基片上沉積金屬以作為電路的內(nèi)引線方法有屬沉積采用蒸發(fā)方法，材料為鋁，作為器件的正面陰極與門(mén)極的在真空鍍膜室中，抽到要求的真空度后，開(kāi)啟電源將金屬鋁源加利用熱磷酸將芯片表面不需要的鋁腐蝕去除，使器件不同區(qū)域金屬膜層與器件本身的硅之間相互擴(kuò)散互熔，以便使金利用各種檢驗(yàn)儀器對(duì)芯片在制造過(guò)程中的電學(xué)特性、幾何尺寸個(gè)個(gè)具有相同功能的獨(dú)立器件的過(guò)程，切割過(guò)程一般采等物理方式進(jìn)行切割，劃片過(guò)程主要產(chǎn)生切割廢水。后切割好的器件作為芯片加工的成品，按產(chǎn)品功能分類(lèi)將鉬片+焊片+硅片（芯片）+焊片+鉬片的順序共五焊接好的的電極芯片裝配在專(zhuān)用電鍍夾具上進(jìn)入高鍍錫烘干的電極芯片用自動(dòng)點(diǎn)膠機(jī)進(jìn)行406硅將劃切完成的芯片整版面安裝在貼片設(shè)備的承片將焊接了芯片的框架通過(guò)自動(dòng)壓焊機(jī)進(jìn)行陰極和將壓焊完成的框架放在塑封模具內(nèi)并加入加熱的對(duì)塑封框架進(jìn)行電鍍夾具的裝配，在自動(dòng)高速電鍍?cè)O(shè)備內(nèi)進(jìn)行自動(dòng)鍍錫工藝，對(duì)3.5設(shè)備工藝先進(jìn)性分析1、本項(xiàng)目為功率半導(dǎo)體芯片及分立器件制造，項(xiàng)目生產(chǎn)車(chē)間均為潔凈車(chē)間。濕法清洗車(chē)間各清洗機(jī)設(shè)置槽邊吸風(fēng)系統(tǒng)和頂部正壓送風(fēng)系統(tǒng)，設(shè)備配備可開(kāi)閉的玻璃2、光刻機(jī)、氧化爐、擴(kuò)散爐等設(shè)備運(yùn)行時(shí)基本密閉，設(shè)備設(shè)置尾氣收集系統(tǒng)，3、本項(xiàng)目產(chǎn)品為分立器件等，屬于半導(dǎo)體特殊器件，本項(xiàng)目焊接工序采用真空氣、焊接廢氣收集系統(tǒng)各一套。廢氣經(jīng)有效收集處理后達(dá)標(biāo)排放，有效地減輕了廢氣5、企業(yè)擬建設(shè)一套處理能力為300t/d的6、項(xiàng)目電鍍生產(chǎn)線整體密閉，設(shè)置槽邊吸風(fēng)及頂部吸風(fēng)，廢氣收集率較高；采3.6物料平衡入方含F(xiàn)元素（kg/a）含F(xiàn)元素（kg/a）混合酸12400kg/a4173氫氟酸廢氣7.4BOE腐蝕液8400kg/a4450含F(xiàn)清洗廢水2706.6氫氟酸1329kg/a619含F(xiàn)廢酸液20000kg/a3349四氟化碳243kg/a210BOE腐蝕