電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器微橋結(jié)構(gòu)的材料及制作研究

電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器微橋結(jié)構(gòu)的材料及制作研究

【摘要】

本文主要研究了電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器微橋結(jié)構(gòu)的材料選擇和制作方法。通過對微橋結(jié)構(gòu)的材料特性進(jìn)行分析，選取了合適的材料，并利用光刻技術(shù)和微納加工技術(shù)進(jìn)行了微橋的制作。實驗結(jié)果表明，所選材料和制作方法能夠有效地實現(xiàn)電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器的微橋結(jié)構(gòu)。

【關(guān)鍵詞】電阻陣列；紅外景物產(chǎn)生器；微橋結(jié)構(gòu)；材料；制作研究

1.引言

電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器是一種常用于紅外成像系統(tǒng)的關(guān)鍵裝置。它能夠模擬紅外景物的輻射特性，對紅外成像系統(tǒng)的性能進(jìn)行測試和校準(zhǔn)。其中，微橋結(jié)構(gòu)是電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器中的重要組成部分，其結(jié)構(gòu)設(shè)計和制作工藝對整個裝置的性能至關(guān)重要。因此，本文將重點研究微橋結(jié)構(gòu)的材料選擇和制作方法，以提升電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器的性能。

2.材料選擇

2.1基底材料

微橋結(jié)構(gòu)的基底材料應(yīng)具有良好的熱傳導(dǎo)性能和機械強度，以承受高溫和高壓的工作環(huán)境。常用的基底材料有硅、石墨和陶瓷等。本文選擇了硅作為基底材料，因其具有良好的熱傳導(dǎo)性和可加工性。

2.2導(dǎo)電層材料

導(dǎo)電層材料應(yīng)具有低電阻率、良好的光學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性。金屬是一種常用的導(dǎo)電層材料，但其成本較高。本文采用了鉑作為導(dǎo)電層材料，其電阻率低，且在高溫環(huán)境下穩(wěn)定性好。

2.3電阻層材料

電阻層材料應(yīng)具有穩(wěn)定的電阻特性、良好的光學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性。鎢是一種常用的電阻層材料，但其加工難度較大。本文選用了硅化鎢作為電阻層材料，其電阻特性穩(wěn)定，且易于加工。

3.制作方法

3.1制備硅基底

首先，從硅晶圓中切割出所需尺寸的硅基底。然后，利用氧化和光刻技術(shù)，制作出具有所需形狀和尺寸的微孔。

3.2涂敷導(dǎo)電層

將鉑材料采用物理氣相沉積(PVD)的方法，均勻地涂敷在硅基底上。然后，通過光刻和蝕刻工藝，制作出所需的導(dǎo)電層形狀。

3.3涂敷電阻層

將硅化鎢材料溶解在適當(dāng)溶劑中，形成電阻層溶液。將溶液均勻涂敷在導(dǎo)電層上，并通過退火處理，使電阻層與導(dǎo)電層結(jié)合。

3.4完成微橋結(jié)構(gòu)

通過后續(xù)的光刻和蝕刻工藝，將不需要的材料去除，只保留出微橋結(jié)構(gòu)。最終，完成電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器微橋結(jié)構(gòu)的制作。

4.實驗結(jié)果

實驗結(jié)果表明，所選材料和制作方法能夠有效地實現(xiàn)電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器微橋結(jié)構(gòu)。所制作的微橋結(jié)構(gòu)具有良好的電阻特性和熱傳導(dǎo)性能，滿足了紅外成像系統(tǒng)對景物輻射模擬的需求。

5.結(jié)論

通過對電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器微橋結(jié)構(gòu)材料及制作方法的研究，本文選取了合適的材料并采用適當(dāng)?shù)闹谱鞣椒?，成功地制作出了微橋結(jié)構(gòu)。實驗結(jié)果表明，該微橋結(jié)構(gòu)具有良好的電阻特性和熱傳導(dǎo)性能，能夠滿足紅外成像系統(tǒng)的需求。本研究對于電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器的改進(jìn)和性能提升具有重要的意義。

【本研究通過利用氧化和光刻技術(shù)制作出具有所需形狀和尺寸的微孔，并成功地涂敷導(dǎo)電層和電阻層，最終完成了電阻陣列紅外景物產(chǎn)生器微橋結(jié)構(gòu)的制作。實驗結(jié)果表明，所選材料和制作方法能夠有效地實現(xiàn)微橋結(jié)構(gòu)，并具有