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文檔簡介
易錯點(diǎn)17晶體結(jié)構(gòu)與性質(zhì)
易錯題(01)等離子體、液晶和離子液體的比擬
等離子體液晶離子液體
構(gòu)成電子、陽離子和電中苯甲酸膽留酯體積很大的陰離
性粒子〔分子或原子、
子)陽離子
特性具有良好的導(dǎo)電性和具有液體的流動性、黏度、形難揮發(fā)、良好導(dǎo)電
流動性變性等,具有晶體的各向異性性、作溶劑
易錯題(02)“均攤法”與晶胞計算
(1)長方體(包含立方體)晶胞中不同位置粒子數(shù)的計算:
(2)“三棱柱”和"六棱柱"中不同位置粒子數(shù)的計算:
1
-楂上頂點(diǎn)上:w
4o
1面上
-
2-?±:|
1底面
-
2
、內(nèi)部:1
(3)確定晶體的化學(xué)式
分析晶1確之晶胞中同種粉子利用“均攤法''計算晶胞中各種確苣[各種粒子晶體的
.胞原樹----------------->
.的位置及個數(shù),粒子的個數(shù).的個數(shù)比化學(xué)式
(4)計算晶體的密度
—晶體密度
(5)原子空間利用率計算
易錯題(03)四種晶體類型的比擬
分子晶體共價晶體金屬晶體離子晶體
比
金屬陽離子
構(gòu)成粒子分子原子陰、陽離子
和自由電子
粒子間的相
分子間作用力共價鍵金屬鍵離子鍵
互作用力
有的很大,
硬度較小很大較大
有的很小
有的很高,
熔、沸點(diǎn)較低很^V較高
有的很低
難溶于任何溶常見溶劑難大多易溶于水等極
溶化性相似相溶
劑溶性溶劑
一般不導(dǎo)電,
導(dǎo)電、傳熱一般不具有導(dǎo)電和熱的晶體不導(dǎo)電,水溶
溶于水后有的
性電性良導(dǎo)體液或熔融態(tài)導(dǎo)電
導(dǎo)電
易錯題(04)晶體類型推斷
(1)依據(jù)構(gòu)成晶體的微粒和微粒間作用力推斷
由陰、陽離子形成離子鍵構(gòu)成的晶體為離子晶體:由原子形成的共價鍵構(gòu)成的晶體為共價
晶體;由分子依靠分子間作用力形成的晶體為分子晶體;由金屬陽離子、自由電子以金屬
鍵形成的晶體為金屬晶體。
(2)依據(jù)晶體的熔點(diǎn)推斷
不同類型晶體熔點(diǎn)的一般規(guī)律:共價晶體〉離子晶體〉分子晶體。金屬晶體的熔點(diǎn)差異很
大,如鴇、伯等熔點(diǎn)很高,能等熔點(diǎn)很低。
易錯題(05)晶體熔、沸點(diǎn)上下的比擬
(1)看物質(zhì)所屬晶體類型,一般情況下,晶體的熔點(diǎn):共價晶體〉離子晶體〉分子晶體。
(2)同類晶體熔、沸點(diǎn)推斷思路:
J共價晶體!■>共價鍵鍵能T鍵長T原子半徑
空黔T分廣晶體卜分子間作用力一相對分子質(zhì)他(考慮分子間是否存在匆鍵)
的比較I-I離J'"闈一離了鍵強(qiáng)弱一離戶所帶電荷數(shù)、熱廣半徑
■I金屈晶體卜金屬鍵f價電子數(shù)、離子半徑
易錯題(06)晶胞投影圖的分析
(1)分析晶胞沿x軸方向(yz)、y軸方向(xz)、z軸方向(xy)的投影圖,確定晶胞中
各粒子的具體位置。
(2)結(jié)合晶胞參數(shù),利用“均攤法”計算晶體的密度、原子的空間利用率等。
(3)結(jié)合三維坐標(biāo)系及晶胞子的位置,確定相關(guān)原子的坐標(biāo)參數(shù)(或分?jǐn)?shù)坐標(biāo))。
易錯題(07)
典例分析
例題1、理論計算預(yù)測,由汞iHg)、錯(Ge)、睇(Sb)形成的一種新物質(zhì)X為潛在的拓
撲絕緣體材料。X的晶體可視為Ge晶體(晶胞如圖a所示)中局部Ge原子被Hg和Sb取
代后形成。
(1)圖b為Ge晶胞中局部Ge原子被Hg和Sb取代后形成的一種單元結(jié)構(gòu),它不是晶胞
單元,理由是
(2)圖c為X的晶胞,X的晶體中與Hg距離最近的Sb的數(shù)目為;該晶胞中粒
子個數(shù)比Hg:Ge:Sb=。
(3)設(shè)X的最簡式的式量為M,則X晶體的密度為g/cm3(列出算式)。
(解析)(1)比照圖b和圖c可知,X晶體的晶胞中上下兩個單元內(nèi)的原子位置不完全相
同,不符合晶胞晶胞是晶體的最小重復(fù)單位要求,可能還有其他形式。
(2)以晶胞上方立方體中右側(cè)面心中Hg原子為例,同一晶胞中與Hg距離最近的Sb的數(shù)
目為2,右側(cè)晶胞中有2個Sb原子與Hg原子距離最近,因此X的晶體中與Hg距離最近
的Sb的數(shù)目為4。該晶胞中Sb原子均位于晶胞內(nèi),因此1個晶胞中含有Sb原子數(shù)為8,
Ge原子位于晶胞頂點(diǎn)、面心、體心,則1個晶胞中含有Ge原了,數(shù)為l+8x:+4x:=4;Hg
原子位于棱邊、面心,則1個晶胞中含有Hg原子數(shù)為6><T+4X;=4,則該晶胞中粒子個
數(shù)比Hg:Ge:Sb=4:4:8=1:1:2。
4xMr
(3)1個晶胞的質(zhì)量加=瓦一g,1個晶胞的體積V=(x^1O-7cm)2x(yxio7cm)=x2yx1Q—21
m"A-4xM
cnP,則x晶體的密度為7=方中中再的rxmgcm-\
(答案)(1)圖b不具有“無隙并置”的特點(diǎn)
(2)4
例題2、在金屬材料中添加AIC2顆粒,可以增強(qiáng)材料的耐腐蝕性、硬度和機(jī)械性能。
AlCn具有體心四方結(jié)構(gòu),如下圖。
(1)處于頂角位置的是原子。
(2)設(shè)Cr和A1原子半徑分別為2和rAI,則金屬原子空間占有率為%(列出計算
表達(dá)式)。
(解析)(1)AlCn具有體心四方結(jié)構(gòu),黑球個數(shù)為8X1+1=2,白球個數(shù)為8X;+2=4,結(jié)合
化學(xué)式AlCn推知,白球?yàn)镃r,黑球?yàn)锳L即處于頂角位置的是A1原子。
(2)設(shè)Cr和A1原子半徑分別為心和rAI,則金屬原子的總體積為
8M2*+r;J
4*x4+4忌2-8兀(2瑞+成)800?(尺1+2
,X4,1---XxZ----------
,故金屬原子空間占有率=3x100%=3/c
8007t(rAiH2r(-r)
(答案)(1)Al(2)33a422cc
例題3、(1)OF2的熔、沸點(diǎn)(填“高于〃或“低于〃)CbO,原因是。
(2)硅、錯(Ge)及其化合物廣泛應(yīng)用于光電材料領(lǐng)域,晶體硅和碳化硅熔點(diǎn)較高的是
(填化學(xué)式)。
(3)H2S、CH4、出0的沸點(diǎn)由高到低順序?yàn)椤?/p>
(解析)(1)0F2和02。都是分子晶體,范德華力影響其熔、沸點(diǎn),而相對分子質(zhì)量越
大,范德華力越強(qiáng),其熔、沸點(diǎn)越高。
(2)晶體硅和碳化硅都是共價晶體,Si原子半徑大于C,則鍵長:Si—Si>Si—C,鍵
能:Si—SiVSi—C,而鍵能越大,共價晶體的熔點(diǎn)越高,故熔點(diǎn)較高的是SiC。
(3)H2S,CH4.都形成分子晶體,出0形成氫鍵,H2S>CH4只存在范德華力,且
的相對分子質(zhì)量大,范德華力大,其沸點(diǎn)高于故沸點(diǎn):
H2sCH4,H2O>H2S>CH4O
(答案)⑴OF?和CbO都是分子晶體,結(jié)構(gòu)相似,CbO的相對分子質(zhì)量大,CbO的
熔、沸點(diǎn)高
(2)SiC
⑶H2O>H2S>CH4
例題4、(1)XeF2晶體屬四方晶系,晶胞參數(shù)如下圖,晶胞棱邊夾角均為90。,該晶胞中
有個XeF2分子。以晶胞參數(shù)為單位長度建立的坐標(biāo)系可以表示晶胞中各原子的位
置,稱為原子的分?jǐn)?shù)坐標(biāo),如A點(diǎn)原子的分?jǐn)?shù)坐標(biāo)為6,1)o已知Xe—F鍵長為r
pm,則B點(diǎn)原子的分?jǐn)?shù)坐標(biāo)為;晶胞中A、B間距離d=pmo
AJ
(2)以晶胞參數(shù)為單位長度建立的坐標(biāo)系可以表示晶胞中各原子的位置,稱作原子的分?jǐn)?shù)
坐標(biāo)。四方晶系CdSnAsz的晶胞結(jié)構(gòu)如下圖,晶胞棱邊夾角均為90。,晶胞中局部原子的
分?jǐn)?shù)坐標(biāo)如下表所示。
2apm
一個晶胞中有個Sn,找出距離Cd(0,0,0)最近的Sn(用分?jǐn)?shù)坐標(biāo)表
示)。CdSnAs2晶體中與單個Sn鍵合的As有個。
(解析)(2)坐標(biāo)原點(diǎn)是黑球Cd(O,0,0),又知晶體的化學(xué)式為CdSnAs2,結(jié)合晶胞結(jié)構(gòu)推
知,Sn是白球,As是灰球。有4個Sn位于棱上(折合為1個),其它有6個Sn位于面上
(折合為3個),共4個Sn。距離Cd(OOO)最近的Sn有兩個,分?jǐn)?shù)坐標(biāo)分別為(0.5,0,0.25)、
(0.5,0.5,0)。觀察圖中白球和灰球的關(guān)系,可知與單個Sn結(jié)合的As有4個。
(答案)⑴2(0,0,£)
cV22
(2)4(0.5,0,0.25)、(0.5,0.5,0)4
例題5、(1)以Zn為頂點(diǎn)的ZnGePz晶胞結(jié)構(gòu)如下圖。
①Zn的配位數(shù)為o
②以Ge為頂點(diǎn)的晶胞中,Zn原子位于o
(2)氮、銅形成的一種化合物,為立方晶系晶體,晶胞參數(shù)為apm,沿面對角線投影如
下圖。已知該晶胞子的分?jǐn)?shù)坐標(biāo)為:Cu:(o,o,3(o,;,o);、,o,oN:(0,0,0)則該晶
胞中,與Cu原子等距且最近的Cu原子有個。
(解析)(1)①以體心的Zn為例,距離其最近且距離相等的原子有4個,所以配位數(shù)為
4;
②結(jié)合晶胞結(jié)構(gòu)示意圖可知,假設(shè)以以Ge為頂點(diǎn)的晶胞中,Zn原子位于棱心、面心。
(2)結(jié)合投影以及局部Cu、N原子的坐標(biāo)可知N原子位于立方體的頂點(diǎn),Cu原子位于棱
心,距離Cu原子相等且最近的Cu原子位于相鄰的棱上,所以個數(shù)為8。
(答案)(1)①4②棱心、面心
(2)8
易錯題通關(guān)
1.(2022?廣東?佛山市南海區(qū)九江中學(xué)高三階段練習(xí))我國科學(xué)家以碳60為原料,制造出
一種單層碳60聚合物單晶新材料(局部結(jié)構(gòu)如圖)。以下有關(guān)說法不正確的選項是
A.單層聚合C60與金剛石互為同素異形體
B.C60中的12c中子數(shù)為6
C.C60和石墨均為分子晶體
D.單層聚合碳60中有非極性共價鍵
2.(2022?江蘇省包場高級中學(xué)高三開學(xué)考試)乙醛與新制氫氧化銅懸濁液反響的實(shí)驗(yàn)如
下:
步驟1:向試管中參加2mLi0%NaOH溶液,邊振蕩邊滴加4?6滴2%CuSO#溶液,觀察
到有藍(lán)色絮狀沉淀產(chǎn)生。
步驟2:再向試管中參加0.5mL乙醛溶液,加熱,觀察到有紅色沉淀產(chǎn)生。
A.乙醛分子中元素的電負(fù)性:O>C>H
B.步驟1中可用過量的氨水替代NaOH溶液
C.上述實(shí)驗(yàn)說明新制氫氧化銅能被乙醛復(fù)原
D.上圖所示的Cu2O晶胞中銅原子的配位數(shù)為2
3.(2022?遼寧朝陽?高三階段練習(xí))磷化硼是一種耐磨涂料,可用作金屬的外表愛護(hù)層。
磷化硼晶體晶胞(立方體)如下圖。已知原子坐標(biāo)耳為(0O0),巳為。,1,1),晶胞的密度為
pg-cm-3,阿伏加德羅常數(shù)的值用NA表示。以下說法中正確的選項是
A.磷原子的配位數(shù)為12
B.圖中a原子的坐標(biāo)是《(3q3q3
4x42
C.磷化硼晶體的晶胞邊長為《N二“I")01
D.電負(fù)性:B>P
4.(2022?北京?高三開學(xué)考試)鈉的一種氧化物的正方體晶胞如下圖("?"或“。"均表示一
個簡單離子)。以下說法正確的選項是
A.該氧化物的化學(xué)式為Na2()2
B.晶胞中連接“?!迸c"?"的線段表示共價鍵
C.晶胞中與“?!弊罱业染嗟摹啊沟臄?shù)目為4
D.該晶體中“?!迸c"」的核外電子排布相同
5.(2022?湖北?高三開學(xué)考試)金剛砂與金剛石具有相似的晶體結(jié)構(gòu),硬度為9.5,熔點(diǎn)為
2700。。其晶胞結(jié)構(gòu)如下圖。以下說法正確的選項是
A.該晶體屬于共價晶體,熔點(diǎn)比金剛石高
B.C位于Si構(gòu)成的正四面體空隙中
C.C—Si的鍵長為apm,則晶胞邊長為2&apm
D.金剛砂中C原子周圍等距且最近的C原子數(shù)為6
6.(2022?湖南?長郡中學(xué)高三階段練習(xí))通過反響4BI(g)+As£g)目蒯鼬4BAs(s,晶
體)+612(g)可制備具有超高熱導(dǎo)率半導(dǎo)體材料——BAs晶體。以下說法錯誤的選項是
A.圖(a)表示AS4結(jié)構(gòu),AS4分子中成鍵電子對數(shù)與孤對電子數(shù)之比為3:1
B.圖(b)表示單質(zhì)硼晶體&2的根本結(jié)構(gòu)單元,該根本單元為正二十面體
C.圖(b)所示單質(zhì)硼晶體的熔點(diǎn)為2180。。它屬于共價晶體
D.圖(c)表示BAs的晶胞結(jié)構(gòu),距離As原子最近且相等的B原子有4個
7.(2022?四川?鹽亭中學(xué)一模)以晶胞參數(shù)為單位長度建立的坐標(biāo)系可以表示晶胞中各原
子的位置,稱作原子的分?jǐn)?shù)坐標(biāo)。四方晶系CdSnAsz的晶胞結(jié)構(gòu)如下圖,晶胞棱邊夾角均
為90。,晶胞中局部原子的分?jǐn)?shù)坐標(biāo)如表所示。以下說法不正確的選項是
apm
XYZ
Cd000
Sn000.5
As0.250.250.25
A.灰色大球代表As
B.一個晶胞中有4個Sn
C.CdSnAsz晶體中與單個Sn鍵合的As有2個
D.距離Cd(O,0,0)最近的Sn的分?jǐn)?shù)坐標(biāo)是(0.5,0,0.25)和(0.5,0.5,0)
8.(2022?重慶市育才中學(xué)高三開學(xué)考試)已知,圖甲為金屬鈉的晶胞,晶胞邊長為a
pm,圖乙為金屬鈉的晶胞截面,圖丙為Li2s晶胞截面(已知Li2s的晶體結(jié)構(gòu)與CaF2相
似)。假設(shè)晶胞邊長為dpm,則以下關(guān)于Li2s晶胞的描述錯誤的選項是
圖內(nèi)
A.每個晶胞中含有的S2一數(shù)目為4
B.與Li+距離最近且相等的S2?有4個
C.與Li+距離最近且相等的Li+有12個
D.該晶胞中兩個距離最近的Li+和S2-的核間距的計算表達(dá)式為乎dpin
9.(2022?江蘇南通?高三開學(xué)考試)NO?能與懸浮在大氣中的海鹽粒子作用,反響為
2NO2+NaCI=NaNO3+ClNO(CINO各原子均到達(dá)8電子穩(wěn)定結(jié)構(gòu))。以下說法正確的選項是
A.NaNOs晶體屬于分子晶體B.C1NO的結(jié)構(gòu)式為C1-N=O
C.NaCl晶胞中Na*的配位數(shù)為12D.NO?是由極性鍵構(gòu)成的非極性分子
10.(2022?山西?大同市第二中學(xué)校高三開學(xué)考試)某Ba-Ti-0晶體具有良好的電學(xué)性能,
其晶胞為立方晶胞(如圖),晶胞參數(shù)為apm。設(shè)阿伏加德羅常數(shù)的值為NA,以下說法錯誤
的選項是
B.Ba?+的配位數(shù)為6
71產(chǎn)
C.Ti”+位于-的八面體空隙D.晶體的密度為二^—g-cnT3
aN
11.(2022?浙江?高三開學(xué)考試)已知非金屬元素A、B、C、D是原子序數(shù)依次增大的4種
短周期元素,其中A是元素周期表子半徑最小的元素,D是地殼中含量最多的元素,B原
子核外電子數(shù)是未成對電子數(shù)的3倍,E原子核外電子層數(shù)為4,其基態(tài)原子的內(nèi)層軌道
全部排滿電子,且最外層電子數(shù)與A相同。以下有關(guān)說法正確的選項是
A.元素B、C、D的第一電離能由大到小的順序?yàn)椋篋>C>B
B.由A與C以個數(shù)比1:1組成的化合物中不可能含有離子鍵
C.A與B、A與C、A與D均能形成18電子的分子
D.如圖為D和E兩種元素組成的化合物的晶胞,則E離子的配位數(shù)為4
12.(2022?山東日照?高三開學(xué)考試)LiFePO4的晶胞結(jié)構(gòu)示意圖如(a)所示。其中O圍繞
Fe和P分別形成正八面體和正四面體。電池充電時,LiFePO,脫出Li*轉(zhuǎn)化如圖,以下說
法正確的選項是
充電,
放電
(■>LiFcPO4(b>Li1/cPO4(OFcPO,
A.每個Li,.xFcPO4晶胞中Li+個數(shù)為1-x
B.lmolLiFeO4晶胞完全轉(zhuǎn)化為Li1*FePO4晶胞,轉(zhuǎn)移電子數(shù)為01875心
C.lmolLi,.xFePO4晶胞中+2價Fe原子個數(shù)為3.259
D.當(dāng)FePO,轉(zhuǎn)化為L/FePO^j,每轉(zhuǎn)移(l-x)mol電子,消耗4(l-x)molLi+
13.我國科學(xué)家創(chuàng)造了高選擇性的二氧化碳加氫合成甲爵的催化劑,其組成為ZnO/ZrO2固
溶體,四方ZrCh晶胞如下圖。
(1)ZH+離子在晶胞中的配位數(shù)是.晶胞參數(shù)為apm、apm、cpm,該晶體密度
為.g-cnr5(寫出表達(dá)式)。
(2)在ZrCh中摻雜少量ZrO后形成的催化劑,化學(xué)式可表示為Zn】rLxOy,則
14.GaAs的熔點(diǎn)為1238P,密度為"g-cmT,其晶胞結(jié)構(gòu)如下圖。
①該晶體的類型為,Ga與As以鍵鍵合。
-1-1
②Ga和As的摩爾質(zhì)量分別為M3agmol和A/ASgmol,原子半徑分別為rGapm和rAs
pm,阿伏加德羅常數(shù)值為M,則GaAs晶胞子的體積占晶胞體積的百分率為。
15.As與Co形成的某種化合物的晶胞如圖(a)所示,其中局部晶胞中As的位置如圖(b)所
示。
(1)該化合物的化學(xué)式為。
(2)假設(shè)化合物的摩爾質(zhì)量為A/g-moH,密度為pgpm-3。Co和As原子半徑分別為npm
和,々pm,阿伏加德羅常數(shù)的值為NA,則晶胞子的體積占晶胞體積的百分率為
(列出表達(dá)式即可)。
16.(1)Fe、Co、Ni是三種重要的金屬元素。三種元素二價氧化物的晶胞類型相同,其熔
點(diǎn)由高到低的順序?yàn)?
(2)Ti的四鹵化物熔點(diǎn)如下表所示,TiF4熔點(diǎn)高于其他三種鹵化物,自TiCL,至丁山熔點(diǎn)
依次升高,原因是?
化合物
TiF4TiCl4Til4
熔點(diǎn)/℃377-24.12155
(3)一些氧化物的熔點(diǎn)如下表所示:
氧化物
Li2OMgOP4O6SO2
熔點(diǎn)/℃1570280023.8-75.5
解釋表中氧化物之間熔點(diǎn)差異的原因:
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