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文檔簡介
X光系列實(shí)驗(yàn)
以及對(duì)勞厄像實(shí)驗(yàn)的一些探討contents概述勞厄成像實(shí)驗(yàn)操作部分對(duì)于勞厄成像的解釋對(duì)勞厄成像實(shí)驗(yàn)的改進(jìn)建議總結(jié)1,概述(系列實(shí)驗(yàn))
1.測定NaCl晶體的晶面間距d2.測定x光在鋁中的系數(shù),并驗(yàn)證朗伯系數(shù)
3.研究x光在材料中的衰減系數(shù)與波長、原子序數(shù)的關(guān)系
4.驗(yàn)證莫塞來定律
5.測定普朗克常數(shù)h(D-H關(guān)系)
6.用電離腔探測x射線
7.拍攝單晶樣品NaCl和LiF勞厄相
8.研究x光在材料中的衰減系數(shù)與原子序數(shù)的關(guān)系
9.用實(shí)驗(yàn)法估測鉬靶x光管發(fā)射k系特征譜所需的最小加速電壓
10.研究鉬靶的k系能級(jí)精細(xì)結(jié)構(gòu)
11.用實(shí)驗(yàn)觀察或驗(yàn)證康普頓效應(yīng)
實(shí)驗(yàn)儀器德國萊寶公司的X射線實(shí)驗(yàn)儀及其附件(包括鉬靶X射線管,G-M計(jì)數(shù)管)注:忽略了康普頓效應(yīng)、光電效應(yīng)等散射效應(yīng)的影響,在吸收相對(duì)起主要作用的范圍內(nèi)用吸收系數(shù)近似代替衰減系數(shù)。3種類型的實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象:康普頓散射實(shí)驗(yàn)測量參數(shù)與理論值或經(jīng)驗(yàn)公式比較:衰減系數(shù)與原子序數(shù)關(guān)系實(shí)驗(yàn)分析型:勞厄成像實(shí)驗(yàn)細(xì)節(jié)決定成敗精確調(diào)零正確樣品放置選擇合適的測量時(shí)間:研究鉬靶的k系能級(jí)精細(xì)結(jié)構(gòu)與測定NaCl晶體的晶面間距d兩實(shí)驗(yàn)中時(shí)間t的選擇其他勞厄成像實(shí)驗(yàn)(概述)非凡的歷史意義:(x光本性問題,初步揭示晶體結(jié)構(gòu),驗(yàn)證電子波動(dòng)性等等)現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)和研究中的作用:(評(píng)定晶體完整性,測量未知晶體單位晶胞形狀大小等等)愛因斯坦:“物理學(xué)最美的實(shí)驗(yàn)”實(shí)驗(yàn)趣味性和探索性一,勞厄成像實(shí)驗(yàn)操作部分1,雙面膠粘晶體時(shí)擋住x射線,對(duì)比結(jié)果:光子損耗,亮度下降折射作用,但對(duì)勞厄斑的相對(duì)位置沒有影響2,LiF的勞厄像出現(xiàn)“陰陽臉”(實(shí)驗(yàn)過程中分析)A,雙面膠擋掉了一半,或者由于雙面膠厚度差異造成B,膠片與入射x光射線沒有嚴(yán)格垂直造成,入射角不同,對(duì)應(yīng)符合bragg衍射波長的光強(qiáng)度有差異C,LiF晶體本身問題3,測量時(shí)間選擇問題測量時(shí)間越長,則勞厄像中心點(diǎn)變模糊,同時(shí)周圍勞厄斑點(diǎn)清晰(from實(shí)驗(yàn)室提供參考書:technicaldocumentationforX-rayapparatusbyleybolddidactic)實(shí)驗(yàn)中對(duì)這一點(diǎn)驗(yàn)證的結(jié)果我的解釋4,zhaoxiang照相:利用投射勞厄照相,晶體安裝在膠片與射線源之間,而入射光束則在底片上的小孔通過,所記錄的為衍射方向上的衍射光束,用衍射光束的方向來測量未知晶體單位晶胞的的形狀和大小,以測定晶體的取向和評(píng)定晶體的完善性。洗膠片二,對(duì)所得勞厄像的研究勞厄圖樣分析——1,勞厄斑成因2,勞厄像的對(duì)稱性3,勞厄斑強(qiáng)度(a,結(jié)構(gòu);b,滿足bragg公式波長的入射線強(qiáng)度;c,樣品吸收性)4,勞厄斑形狀:橢圓形(a,入射光發(fā)散;b,樣品表面不平;c,衍射束也底片不嚴(yán)格垂直)續(xù)圖樣處理——1,勞厄斑對(duì)應(yīng)的衍射角計(jì)算我的實(shí)驗(yàn)處理過程中遇到的測量問題改進(jìn)建議2,勞厄斑的指標(biāo)化意義:可以推出勞厄斑對(duì)應(yīng)的晶面的(h,k,l)三,對(duì)勞厄成像實(shí)驗(yàn)的改進(jìn)建議1,兩種實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)A,實(shí)驗(yàn)室條件限制無法做背射法成像:a,距離大導(dǎo)致散射明顯;b,膠片打洞B,背射法優(yōu)點(diǎn):a,用于大塊晶體的定向b,晶體生長和使用晶體材料領(lǐng)域廣泛應(yīng)用C,兩方法得到勞厄像的區(qū)別….橢圓分布和雙曲線分布繼續(xù)改進(jìn)2,定向:對(duì)晶體材料進(jìn)行精確測角定向,符合公式nλ=2dsinθ時(shí)產(chǎn)生衍射,被計(jì)數(shù)管接收放大,通過表顯示強(qiáng)度,測角儀讀出準(zhǔn)確角度值。3,
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