低輻射(Low-E)玻璃的研究現(xiàn)狀

學(xué)習(xí)文檔僅供參考學(xué)習(xí)文檔僅供參考低輻射(Low-E)玻璃的爭(zhēng)論現(xiàn)狀玻璃的進(jìn)展應(yīng)用方向及存在的問題。關(guān)鍵詞：低輻射節(jié)能玻璃；工藝；性能；應(yīng)用；Low-E低輻射(Low-E)玻璃是是一種鍍膜玻璃。通過在浮法玻璃基片外表鍍上具有異的節(jié)能環(huán)保性能而被譽(yù)為21世紀(jì)最抱負(fù)的建筑玻璃材料。低輻射鍍膜玻璃的節(jié)能原理一般無色玻璃具有良好的透光性能，能透過80%～90%左右的太陽(yáng)輻射。1T的物體放射出的電磁輻射的強(qiáng)度最大的波長(zhǎng)位置為max=2897/Tm掉。圖1低輻射鍍膜玻璃與非鍍膜玻璃光學(xué)性能比照[1]的電磁波只有吸取和反射。設(shè)R為玻璃外表對(duì)電磁輻射的反射率，1-R則為吸取系數(shù)，ε表示玻璃外表的輻射率，依據(jù)以上定律明顯有ε=1-R學(xué)習(xí)文檔僅供參考學(xué)習(xí)文檔僅供參考學(xué)習(xí)文檔僅供參考此式說明對(duì)紅外輻射具有高反射率的材料也就具有低的輻射率，反射率越吸取和再次輻射。低輻射玻璃的分類軟涂層低輻射玻璃是利用真空或磁控濺射的方法在玻璃上鍍制多層金屬和金屬氧化物膜層，其膜層抗氧化強(qiáng)度較低，耐磨損和耐腐蝕性能較差[2]。備條件的變化而轉(zhuǎn)變。SnO2基薄膜、摻銻的SnO2薄膜簡(jiǎn)稱為ATO；摻氟的SnO2薄膜簡(jiǎn)稱為FTO；In2O3薄膜簡(jiǎn)稱ITO；ZnO基的薄膜，其中摻鋁的ZnO薄膜簡(jiǎn)稱ZAO，目前最好為ZnO系薄膜[3]。低輻射鍍膜玻璃的節(jié)能性能表征評(píng)價(jià)低輻射鍍膜玻璃節(jié)能性能的參數(shù)主要的有：熱損失率(U值)、遮陽(yáng)系數(shù)SC)、相對(duì)增熱(RHG)等等。U值(U-Value)U值是在ASHRAE標(biāo)準(zhǔn)條件下，由于玻璃熱傳遞和室內(nèi)外溫差，單位時(shí)間內(nèi)從玻璃組件一側(cè)到另一側(cè)空氣的傳輸熱量。英制單位為：BTU/h·ft2·F)；公制單位為：W/(m2·K)。流有關(guān)。通常分夏季白天U值和冬季夜間的U值。遮陽(yáng)系數(shù)(ShadingCoefficient或SC)3mm透亮數(shù)越小，阻擋陽(yáng)光直接輻射的性能越好。相對(duì)增熱(RelativeHeatGain或RHG)熱，可用下面公式表示RHG=U×ΔT+SC×SHGFT表示陽(yáng)光輻射增熱系數(shù)在標(biāo)準(zhǔn)條件下，其值為630〔W/m2〕。標(biāo)，相對(duì)增熱數(shù)值越低，太陽(yáng)能通過玻璃組件的總增熱越少。低輻射玻璃的生產(chǎn)工藝在線法生產(chǎn)低輻射玻璃在線法鍍膜包括熱噴涂、化學(xué)氣相沉積(CVD)和霧化熱分解，現(xiàn)多承受化學(xué)成的氧化物沉積在金屬外表形成所需薄膜[4]。此方法設(shè)備簡(jiǎn)潔，可噴涂不同外形[5]驅(qū)物SnCl2SnCl4等)板上發(fā)生一系列的熱分解反響從而得到氧化物薄膜[6]。此方法生產(chǎn)效率頗高，操導(dǎo)致膜層消滅成分不均勻等缺陷。離線法生產(chǎn)低輻射玻璃鍍制薄膜。前兩種方法屬于物理氣相沉積(PVD)。離線法生產(chǎn)低輻射玻璃較早是承受真空蒸鍍法沉積膜層，此方法投資少、見效快，但存在膜層不均勻、結(jié)實(shí)程度較高，膜層掌握簡(jiǎn)潔，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定，但該工藝投資較大，生產(chǎn)周期長(zhǎng)，在一般中小企業(yè)很難推廣?；瘜W(xué)鍍膜法投資少，本錢低，操作簡(jiǎn)潔，易于大面積成膜，其中之一承受化學(xué)噴霧沉積(CSD)，另一種是溶膠-凝膠法SolGel)，該方法興起于上世紀(jì)80年月，可雙面鍍膜，膜層的電導(dǎo)率和可見光透過率均較高，鍍膜材料逐層濺射沉積到玻璃外表形成薄膜。膜層中功能膜層一般為銀(Ag)膜，其它膜層為關(guān)心膜，起加強(qiáng)連接、保護(hù)銀膜、提高折射率和調(diào)整顏色等作用，如圖2。圖圖2離線低輻射玻璃膜層根本構(gòu)造外表上，形成膜層[7]。目前用磁控濺射法生產(chǎn)低輻射玻璃的主要生產(chǎn)商有德國(guó)萊寶、美國(guó)BOC公司。除了磁控濺射法，離線膜也可用物理氣相沉積和溶膠 Leftheriotist[8]等用PVD法制備了ZnS/Ag/ZnS系的低輻射膜。介質(zhì)層ZnS是用電子槍加熱蒸發(fā)沉積到基片上，而金屬層是用熱蒸發(fā)的方法沉積的。溶-凝膠技術(shù)是把有機(jī)或無機(jī)金屬化合物經(jīng)過溶膠-凝膠化和熱處理形成氧化物或其它固體粉末試劑溶于試劑)或溶膠為原料在液相中均勻混合并進(jìn)展反響生成穩(wěn)定且無沉淀的溶膠體系放置肯定時(shí)間后轉(zhuǎn)變?yōu)槟z經(jīng)脫水處理在溶膠或凝膠狀態(tài)下形成制品再在低于傳的溫度下燒結(jié)[9]。三種鍍膜玻璃生產(chǎn)工藝的比較如表1所示。1三種鍍膜玻璃生產(chǎn)工藝合理選用低輻射節(jié)能玻璃見光的透射率高，一般到達(dá)80%以上，所以在白天的時(shí)候80%能大量承受太陽(yáng)光度。晚上室內(nèi)溫度高于室外溫度，室內(nèi)的物體、墻體放射遠(yuǎn)紅外線，遇到低輻學(xué)習(xí)文檔僅供參考學(xué)習(xí)文檔僅供參考學(xué)習(xí)文檔僅供參考90%左右被反射回室內(nèi)，起到了保溫的作用。的反射。前景展望今后離線法生產(chǎn)低輻射玻璃的一個(gè)重要進(jìn)展方向。-凝膠法鍍制低輻射膜的方法其本錢和薄膜掌握方面的問題有待于進(jìn)一步解決。參考文獻(xiàn)SchaeferC,BrauerG,SzczyrbowskiJ.SurfaceandCoatingsTechnology93,1997:37-45劉志海,李超.低輻射玻璃及其應(yīng)用[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2023:69-75張波,張建,蔡偉.低輻射建筑節(jié)能玻璃爭(zhēng)論進(jìn)展[J].玻璃與搪瓷,2023,36(6):35李成存.玻璃在線熱噴涂鍍膜工藝及預(yù)留熱噴涂區(qū)的設(shè)計(jì)[J].山東建材,1997,5(1):17-20姚壽山,孔令輝.低輻射鍍膜玻璃及其應(yīng)用[J].材料開發(fā)與應(yīng)用,2023,17(6):38-42趙高揚(yáng),張生國(guó),郅曉等.玻璃基板上低輻射涂層的制備及性能爭(zhēng)論[J].中國(guó)建材科技,2023,25(3):103-106[7] 金炯,王德苗,董樹榮.低輻射玻璃的爭(zhēng)論進(jìn)展[J].材料導(dǎo)報(bào),2023,18(10):14-15LeftheriotisG,PapaefthimiouS,YianoulisP.Developmentofmultilayertrans