離型膜常用知識(shí)

離型膜常用知識(shí)SQE:Riou一.離型膜的構(gòu)成與分類介紹

1.離型膜構(gòu)成2.離型膜分類二.涂布方式及工藝介紹1.微凹工藝2.涂布流程三.離型膜常見異常介紹

1.反離型2.搭配3.剝離角度&尺寸4.靜電目錄離型膜的構(gòu)成與分類介紹離型膜的構(gòu)成與分類介紹（1）基材（2）離型涂層以聚酯薄膜（PET原膜）為基材，單面或者雙面涂硅油離型劑、氟素離型劑、非硅離型劑等，使其具有超低表面能的離型膜材。

1.離型膜的構(gòu)成離型涂層（1）按基材分類：PE(聚乙烯）、BOPP(聚丙烯）、PET(聚酯）、PI（聚酰亞胺）、其他，如PVC……（2）按離型劑分類：有機(jī)硅離型膜、非硅離型膜（例：氟素離型膜）。（3）按克重分類：超輕離型膜、輕離型膜、重離型膜、超重離型膜。（4）按顏色分類：透明離型膜、藍(lán)色離型膜、紅色離型膜、白色離型膜、黃色離型膜等。（5）按功能可分類：抗靜電離型膜、不抗靜電離型膜、雙面離型膜。2.離型膜的分類離型膜的構(gòu)成與分類介紹涂布方式及工藝介紹1.微凹涂布方式（1）優(yōu)點(diǎn)：1.涂布均勻，無網(wǎng)紋痕跡。2.涂層質(zhì)量穩(wěn)定,外觀清晰透明。4.適用于多種厚度基材產(chǎn)品的涂布。5.由于沒有背壓輥，料膜的邊緣部也可涂上膠，原寬幅，然而也不用擔(dān)心膠液涂到背壓輥上而影響涂布。（2）缺點(diǎn)：1.速度過慢45-60米/inm2.容易產(chǎn)生彩虹紋現(xiàn)像。3.對(duì)機(jī)器的張力要求過高。4.對(duì)原膜的平整度要求過高。涂布方式及工藝介紹涂布方式及工藝介紹注：烘箱溫度不固定，一般依據(jù)不良配方、基材、外部環(huán)境調(diào)整，位于中間的幾節(jié)烘箱溫度較高。2.涂布工藝離型膜常見異常介紹1.反離型異常離型膜常見異常介紹（1）未涂硅，目視或油性筆涂寫可區(qū)分，由涂頭異常停機(jī)、料槽缺料、涂頭未接觸基材引起（2）脫硅，表面涂層脫落，老化測(cè)試可發(fā)現(xiàn)，由離型膜固化不良、基材錨固性失效引起（3）覆蓋不良，不穩(wěn)定剝離力&染色實(shí)驗(yàn)可識(shí)別，涂布量少、原膜厚度不均引起（4）硅層破壞，顯微鏡大鏡識(shí)別，由機(jī)械劃傷、收卷摩擦引起離型膜常見異常介紹2.搭配異常Cover-主材與主材-Liner剝離力經(jīng)時(shí)爬升，峰值處存在不良風(fēng)險(xiǎn)；（1）留底紙風(fēng)險(xiǎn)：Cover-主材剝離力小于主材-Liner剝離力；（2）反離型風(fēng)險(xiǎn)：Cover-主材剝離力大于主材貼裝初黏力。（3）硅膠搭配硅離型：同質(zhì)相吸，粘死離型膜常見異常介紹（1）角度A.鈍角剝離隨角度增加，剝離力降低較??；B.銳角剝離隨角度增加，剝離力降低幅度較大；C.小尺寸料件屬于銳角剝離；D.通過復(fù)合Cover降低基材的挺度，進(jìn)而增加剝離時(shí)的角度，降低剝離力。（2）尺寸A.料件形狀不規(guī)格；B.最窄處近似1mm寬度或更小；（只作為理論參考圖）3.剝離角度、料件尺寸離型膜常見異常介紹4.靜電（1）靜電產(chǎn)生：原子由質(zhì)子帶正電、中子不帶電、電子帶負(fù)電組成，外界作用使原子的正負(fù)電不平衡。任何兩個(gè)不同材質(zhì)的物體接觸后再分離，即可產(chǎn)生靜電，靜電產(chǎn)生的根本原因是電荷的分布不均勻而無法中和（2）靜電產(chǎn)生形式：接觸，摩擦，剝離，誘導(dǎo)（3）靜電放電方式：傳導(dǎo)，電暈，火花，中和（4）靜電影響：A.高靜電會(huì)吸引空氣中的灰塵與細(xì)毛，造成產(chǎn)品表面清潔度下降B.當(dāng)收卷靜電過高，大量靜電耦合在產(chǎn)品內(nèi)部，模切使用時(shí)會(huì)出現(xiàn)粘附，不宜分離，電擊C.快速收放卷的過程中，物料與輥之間會(huì)產(chǎn)生大量的摩擦、剝離、擠壓，使物體表面積聚不同電性的靜電荷，D.速度越快，時(shí)間越