現(xiàn)代光電子技術 課件 第4章 調(diào)制技術

第1章

從光量子到光電子

第2章

激光技術

第3章激光光纖通訊

第4章

調(diào)制技術

第5章

光電探測技術

第6章

光伏技術

第7章

激光應用技術

第8章

集成電路技術§4.1電光效應

§4.2電光調(diào)制技術

§4.3磁光效應

§4.4聲光效應第4章調(diào)制技術§4.1電光效應

4.1.1線性電光效應

4.1.2KDP晶體第4章調(diào)制技術4.1.1線性電光效應第4章調(diào)制技術4.1.1線性電光效應第4章調(diào)制技術4.1.2KDP晶體第4章調(diào)制技術4.1.2KDP晶體第4章調(diào)制技術4.1.2KDP晶體第4章調(diào)制技術§4.2電光調(diào)制技術

4.2.1KDP晶體的縱向調(diào)制

第4章調(diào)制技術§4.2電光調(diào)制技術

4.2.1KDP晶體的縱向調(diào)制

第4章調(diào)制技術4.2.2鈮酸鋰晶體的橫向調(diào)制第4章調(diào)制技術4.2.3改變直流偏壓對輸出特性的影響第4章調(diào)制技術4.2.3改變直流偏壓對輸出特性的影響第4章調(diào)制技術4.2.3改變直流偏壓對輸出特性的影響第4章調(diào)制技術4.2.4二次電光效應第4章調(diào)制技術4.2.4二次電光效應第4章調(diào)制技術4.2.4二次電光效應第4章調(diào)制技術4.2.5晶體的電光效應實驗第4章調(diào)制技術4.2.5晶體的電光效應實驗第4章調(diào)制技術§4.3磁光效應

4.3.1磁光調(diào)制技術第4章調(diào)制技術§4.3磁光效應

4.3.1磁光調(diào)制技術第4章調(diào)制技術§4.3磁光效應

4.3.1磁光調(diào)制技術第4章調(diào)制技術4.3.2晶體的法拉第效應實驗第4章調(diào)制技術4.3.2晶體的法拉第效應實驗第4章調(diào)制技術4.3.2晶體的法拉第效應實驗第4章調(diào)制技術§4.4聲光效應

4.4.1聲光衍射效應

4.4.2拉曼—奈斯聲光效應

4.4.3布拉格聲光效應

4.4.4駐波型聲光器件衍射光強的調(diào)制度

4.4.5聲光器件

4.4.6晶體的聲光效應實驗第4章調(diào)制技術4.4.1聲光衍射效應第4章調(diào)制技術4.4.2拉曼—奈斯聲光效應第4章調(diào)制技術4.4.2拉曼—奈斯聲光效應第4章調(diào)制技術4.4.2拉曼—奈斯聲光效應第4章調(diào)制技術4.4.3布拉格聲光效應第4章調(diào)制技術4.4.3布拉格聲光效應第4章調(diào)制技術4.4.4駐波型聲光器件衍射光強的調(diào)制第4章調(diào)制技術4.4.4駐波型聲光器件衍射光強的調(diào)制第4章調(diào)制技術4.4.4駐波型聲光器件衍射光強的調(diào)制第4章調(diào)制技術4.4.5聲光器件第4章調(diào)制技術4.4.5聲光器件第4章調(diào)制技術4.4.5聲光器件第4章調(diào)制技術4.4.6晶體的聲光效應實驗第4章調(diào)制技術4.4.6晶體的聲光效應實驗第4章調(diào)制技術4.4.6晶體的聲光效應實驗第4章調(diào)制技術4.4