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光電子技術(shù)重點像散:由位于主軸外的某一軸外物點,向光學(xué)系統(tǒng)發(fā)出的細單色圓錐形光束,經(jīng)該光學(xué)系列折射后,不能結(jié)成一個清晰像點,而只能結(jié)成一彌散光斑。即使在消除了球差和彗差的光學(xué)系統(tǒng)中,遠離光軸的物點發(fā)出的細光束,經(jīng)折射后仍不能成一個理想像點。單心光束經(jīng)折射后成為像散光束,在近軸光線成像的像平面上可接收到橢圓形光斑。當(dāng)接收屏向光學(xué)系統(tǒng)逐漸移近時,像斑由長橢圓變?yōu)樵谧游缑鎯?nèi)的豎線,稱為弧矢焦線,而后變?yōu)閳A斑,稱為明晰圓,進而變?yōu)楸鈾E圓,又變?yōu)榇怪庇谧游缑娴臋M線,稱為子午焦線。通常用弧矢焦線和子午焦線在主軸上的投影距離表示像散的大小。像散形成過程,用下圖來表示:性質(zhì):(1)如果光學(xué)鏡頭在加工和裝調(diào)時沒有偏心,又沒有傾斜放置的平板玻璃或棱鏡,那么軸上點成像是不會有像散的。因此說,像散是軸外點的像差。當(dāng)物點離外光軸逐漸遠時,那么像散也將逐慚增加。(2)像散為零時,子午細光束像點和弧矢細光束像點重合,但不與高斯像面重合,所以像面彎曲仍然存在,這種像面彎曲叫匹茲瓦爾彎曲。球差:軸上物點的物距L確定時,其像點位置L'是孔徑角U(或h)的函數(shù),實際像點與理想像點的位置之差,叫做球差。球差(Sphericalaberration)亦稱球面像差。軸上物點發(fā)出的光束,經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)以后,與光軸夾不同角度的光線交光軸于不同位置,因此,在像面上形成一個圓形彌散斑,這就是球差。一般是以實際光線在像方與光軸的交點相對于近軸光線與光軸交點(即高斯像點)的軸向距離來度量它。對于單色光而言,球差是軸上點成像時唯一存在的像差。軸外點成像時,存在許多種像差,球差只是其中的一種。除特殊情況外,一般而言,單個球面透鏡不能校正球差,正透鏡產(chǎn)生負球差,負透鏡產(chǎn)生正球差。對一定位置的物點而言,當(dāng)保持透鏡的孔徑和焦距不變時,球差的大小隨透鏡的形狀而異。因此,以適當(dāng)形狀的正、負透鏡組合成的雙透鏡組或雙膠合鏡組是可能消球差的一種簡單結(jié)構(gòu)。保持透鏡的焦距不變而改變透鏡形狀,猶如把柔軟的物體彎來彎去,故被稱為透鏡的整體彎曲,它是光學(xué)設(shè)計時校正像差的一種重要技巧。球差的形成原因:不同孔徑角U的光線交光軸于不同點上,相對于理想象點的位置有不同的偏離。球差是軸上點唯一的單色像差。球差的度量:光束在高斯像面上并不是會聚于一個象點,而是一個圓形的彌散斑。軸上球差:垂軸球差:
符號規(guī)則:由理想像點計算到實際光線交點(1)dL>0---正球差:(2)dL<0---負球差:數(shù)值孔徑與最大入射角o太陽能電池發(fā)電的原理主要是半導(dǎo)體的光電效應(yīng),一般的半導(dǎo)體主要結(jié)構(gòu)如下:硅材料是一種半導(dǎo)體材料,太陽能電池發(fā)電的原理主要就是利用這種半導(dǎo)體的光電效應(yīng)。當(dāng)硅晶體中摻入其他的雜質(zhì),如硼(黑色或銀灰色固體,熔點為2300℃,沸點為3658℃,密度為2.349/cm3,硬度僅次于金剛石,在室溫下較穩(wěn)定,可與氮、碳、硅作用,高溫下硼還與許多金屬和金屬氧化物反應(yīng),形成金屬硼化物。這些化合物通常是高硬度、耐熔、高電導(dǎo)率和化學(xué)惰性的物質(zhì))、磷等,當(dāng)摻入硼時,硼元素能夠俘獲電子,硅晶體中就會存在一個空穴,這個空穴因為沒有電子而變得很不穩(wěn)定,容易吸收電子而中和,它就成為空穴型半導(dǎo)體,稱為P型半導(dǎo)體(在半導(dǎo)體材料硅或鍺晶體中摻入三價元素雜質(zhì)可構(gòu)成缺殼粒的P型半導(dǎo)體,摻入五價元素雜質(zhì)可構(gòu)成多余殼粒的N型半導(dǎo)體)。同樣,摻入磷原子以后,因為磷原子有五個電子,所以就會有一個電子變得非常活躍,形成電子型半導(dǎo)體,稱為N型半導(dǎo)體。P型半導(dǎo)體中含有較多的空穴,而N型半導(dǎo)體中含有較多的電子,這樣,當(dāng)P型和N型半導(dǎo)體結(jié)合在一起時。在兩種半導(dǎo)體的交界面區(qū)域里會形成一個特殊的薄層,界面的P型一側(cè)帶負電,N型一側(cè)帶正電,出現(xiàn)了濃度差。N區(qū)的電子會擴散到P區(qū),P區(qū)的空穴會擴散到N區(qū),一旦擴散就形成了一個由N指向P的“內(nèi)電場”,從而阻止擴散進行。達到平衡后,就形成了這樣一個特殊的薄層形成電勢差,從而形成PN結(jié)。當(dāng)晶片受光后,PN結(jié)中,N型半導(dǎo)體的空穴往P型區(qū)移動,而P型區(qū)中的電子往N型區(qū)移動,從而形成從N型區(qū)到P型區(qū)的電流。然后在PN結(jié)中形成電勢差,這就形成了電源。由于半導(dǎo)體不是電的良導(dǎo)體,電子在通過PN結(jié)后如果在半導(dǎo)體中流動,電阻非常大,損耗也就非常大。但如果在上層全部涂上金屬,陽光就不能通過,電流就不能產(chǎn)生,因此一般用金屬網(wǎng)格覆蓋PN結(jié),以增加入射光的面積。另外硅表面非常光亮,會反射掉大量的太陽光,不能被電池利用。為此,科學(xué)家們給它涂上了一層反射系數(shù)非常小的保護膜(減反射膜),實際工業(yè)生產(chǎn)基本都是用化學(xué)氣相沉積一層氮化硅膜,厚度在1000A左右。將反射損失減小到5%甚至更小?;蛘卟捎弥苽浣q面的方法,即用堿溶液(一般為NaOH溶液)對硅片進行各向異性腐蝕在硅片表面制備絨面。入射光在這種表面經(jīng)過多次反射和折射,降低了光的反射,增加了光的吸收,提高了太陽電池的短路電流和轉(zhuǎn)換效率。一個電池所能提供的電流和電壓畢競有限,于是人們又將很多電池(通常是36個)并聯(lián)或串聯(lián)起來使用,形成太陽能光電板。光敏電阻是用硫化隔或硒化隔等半導(dǎo)體材料制成的特殊電阻器,其工作原理是基于內(nèi)光電效應(yīng)。光照愈強,阻值就愈低,隨著光照強度的升高,電阻值迅速降低,亮電阻值可小至1KΩ以下。光敏電阻對光線十分敏感,其在無光照時,呈高阻狀態(tài),暗電阻一般可達1.5MΩ。光敏電阻的工作原理是基于內(nèi)光電效應(yīng)。在半導(dǎo)體光敏材料兩端裝上電極引線,將其封裝在帶有透明窗的管殼里就構(gòu)成光敏電阻,為了增加靈敏度,兩電極常做成梳狀。用于制造光敏電阻的材料主要是金屬的硫化物、硒化物和碲化物等半導(dǎo)體。通常采用涂敷、噴涂、燒結(jié)等方法在絕緣襯底上制作很薄的光敏電阻體及梳狀歐姆電極,接出引線,封裝在具有透光鏡的密封殼體內(nèi),以免受潮影響其靈敏度。入射光消失后,由光子激發(fā)產(chǎn)生的電子—空穴對將復(fù)合,光敏電阻的阻值也就恢復(fù)原值。在光敏電阻
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