一種鈦及鈦合金拋光液及拋光方法

(19)中華人民共和國(guó)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(12)發(fā)明專利說(shuō)明書(10)申請(qǐng)公布號(hào)CN101994148A

(43)申請(qǐng)公布日2011.03.30(21)申請(qǐng)?zhí)朇N200910189619.0(22)申請(qǐng)日2009.08.22(71)申請(qǐng)人比亞迪股份有限公司地址518118廣東省深圳市龍崗區(qū)坪山鎮(zhèn)橫坪公路3001號(hào)(72)發(fā)明人廖秀娟李愛華瞿義生(74)專利代理機(jī)構(gòu)代理人(51)Int.CI C25F3/26權(quán)利要求說(shuō)明書說(shuō)明書幅圖(54)發(fā)明名稱 一種鈦及鈦合金拋光液及拋光方法(57)摘要 本發(fā)明屬于表面處理技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種鈦及鈦合金拋光液，該拋光液包括該拋光液包括乳酸、甲醇、丙三醇、氟的無(wú)機(jī)鹽和光亮劑。本發(fā)明的拋光液中不含有氫氟酸，不會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體不利的揮發(fā)物質(zhì)及強(qiáng)烈刺激性氣味，是一種環(huán)保安全的拋光液，使用本發(fā)明的拋光液對(duì)鈦及鈦合金進(jìn)行拋光，可以使鈦及鈦合金表面不產(chǎn)生紋路，可以得到鏡面光的效果。本發(fā)明還提供了一種拋光方法。法律狀態(tài)法律狀態(tài)公告日法律狀態(tài)信息法律狀態(tài)

權(quán)利要求說(shuō)明書1.一種鈦及鈦合金拋光液，其特征在于：該拋光液包括乳酸、甲醇、丙三醇、氟的無(wú)機(jī)鹽和光亮劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦及鈦合金拋光液，所述乳酸的含量為200-450ml/L。

<Claim>3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的鈦及鈦合金拋光液，所述甲醇的含量為300-500ml/L。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鈦及鈦合金拋光液，所述的丙三醇含量為30-50ml/L。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鈦及鈦合金拋光液，所述氟的無(wú)機(jī)鹽的含量為3-6g/L。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的鈦及鈦合金拋光液，所述光亮劑的含量為3-12g/L。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦及鈦合金拋光液，所述氟的無(wú)機(jī)鹽為氟化鋇、氟化鈉、氟化鉀中的一種或多種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈦及鈦合金拋光液，所述光亮劑為糖精、明膠、硬脂酸鈉、苯駢三氮唑中的一種或多種。

9.一種鈦及鈦合金拋光方法，其特征在于：先將鈦或鈦合金進(jìn)行機(jī)械拋光，然后進(jìn)行電解拋光，所述電解拋光的拋光液為權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述的拋光液。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的拋光方法，所述電解拋光是將待拋光的鈦或鈦合金作為陽(yáng)極，鈦板作為陰極進(jìn)行電解拋光，所述電解拋光的溫度為20-30℃，電流密度為10-30A/dm<Sup>2</Sup>，拋光時(shí)間為10-20min。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的拋光方法，所述陰極與陽(yáng)極表面積之比為1-4∶1。

說(shuō)明書技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種電解拋光液及拋光方法，尤其涉及一種鈦及鈦合金電解拋光液及拋光方法。

背景技術(shù)

鈦及鈦合金因?yàn)榫哂匈|(zhì)量輕、強(qiáng)度高、抗腐蝕性能優(yōu)異，并且對(duì)人體皮膚不會(huì)產(chǎn)生過敏等特性成為繼鋼、鋁、鎂之后的21世紀(jì)的新型金屬，被廣泛的應(yīng)用在飛機(jī)、導(dǎo)彈、輪船、汽車、石油、化工、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。而且由于鈦的無(wú)極性、鈦鈮合金的超導(dǎo)性、鈦鐵合金的儲(chǔ)氫能力等特性等使鈦合金在尖端科學(xué)和高科技領(lǐng)域發(fā)揮著極其重要的作用。

由于鈦及鈦合金的廣泛應(yīng)用，鈦及鈦合金的加工也日益受到重視。其中，鈦及鈦合金的拋光可以處理鈦及鈦合金在加工過程所形成的粗糙面，因此鈦及鈦合金的拋光是整個(gè)鈦及鈦合金加工過程中不可或缺的加工程序。

鈦及鈦合金的拋光方法可分為三種，即機(jī)械拋光、化學(xué)拋光和電解拋光。

機(jī)械拋光，是指拋光輪高速旋轉(zhuǎn)，拋光件與拋光輪摩擦產(chǎn)生高溫，使拋光件金屬塑性提高，在拋光力的作用下，拋光件表面產(chǎn)生塑性變形，凸起的部分被壓入并流動(dòng)，凹進(jìn)的部分被填平，從而使不平的表面得到改善。但是一般的機(jī)械拋光后有比較嚴(yán)重的拋光紋的弊端。

化學(xué)拋光即酸腐蝕，所采用的主要物質(zhì)為氫氟酸或氟離子的溶液。其機(jī)理為：金屬在化學(xué)拋光液中，由于酸的氧化作用，表面形成一層較厚的粘液膜，這層粘液膜在金屬表面較凸的部位較薄，較凹的部分較厚。同時(shí)，由于酸的還原作用，使金屬表面發(fā)生溶解反應(yīng)，溶解的金屬離子向溶液中擴(kuò)散時(shí)，在金屬表面較凸的部位則相反，這種化學(xué)反應(yīng)反復(fù)進(jìn)行，從而金屬表面達(dá)到整平的目的。對(duì)鈦或鈦合金基體進(jìn)行化學(xué)拋光處理時(shí)會(huì)發(fā)生劇烈反應(yīng)，氟離子與鈦離子的絡(luò)合物穩(wěn)定性很強(qiáng)，能夠緊密吸附在鈦或鈦合金的表面，使鈦或鈦合金基體與空氣隔絕，因此鈦或鈦合金基體表面也就無(wú)法生成鈍化膜，這也是大部分鈦及鈦合金的電鍍及其他表面處理用含有氫氟酸的溶液腐蝕作為前處理的原因。但是，氫氟酸是一種高毒物質(zhì)，極易揮發(fā)到空氣中。

電解拋光，與機(jī)械拋光相比，電解拋光可大大減小拋光件內(nèi)部和表面的應(yīng)力，適用于任何硬度的金屬和合金，它依靠選擇性溶解材料表面微小的凸出部分使表面光滑，其拋光后的光潔度與表面平整度比機(jī)械拋光保持得更長(zhǎng)久。

現(xiàn)有技術(shù)中公開了一種不含有氫氟酸的鈦合金拋光液，給鈦合金拋光液包括：

無(wú)水乙醇

275-550g/L

乳酸

360-600g/L

高氯酸

35-260g/L

高氯酸鹽

2-20g/L

但是由于鈦及鈦合金基體表面容易生成氧化膜，且氧化膜硬度高，拋光難度大，該鈦合金拋光液容易產(chǎn)生拋光紋路，難以達(dá)到鏡面光的效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有的鈦及鈦合金的拋光液拋光后會(huì)在鈦及鈦合金表面產(chǎn)生拋光紋路，難以得到鏡面光效果的鈦合金表面的缺陷，從而提供一種不產(chǎn)生紋路，可以得到鏡面光效果的鈦及鈦合金拋光液。

本發(fā)明提供了一種鈦及鈦合金拋光液，該拋光液包括乳酸、甲醇、丙三醇、氟的無(wú)機(jī)鹽和光亮劑。

本發(fā)明要解決的另一個(gè)技術(shù)問題是現(xiàn)有的拋光技術(shù)對(duì)鈦及鈦合金的拋光難度大，容易產(chǎn)生拋光紋路，難以達(dá)到鏡面光的效果的缺陷，從而提供一種容易拋光，不產(chǎn)生拋光紋路，可以達(dá)到鏡面光的效果的鈦及鈦合金拋光方法，該方法為先將鈦或鈦合金進(jìn)行機(jī)械拋光，然后進(jìn)行電解拋光，所述電解拋光的拋光液為本發(fā)明所述的拋光液。

本發(fā)明所用的電解拋光液及拋光方法克服了現(xiàn)有的電解拋光液和拋光方法拋光難度大，容易產(chǎn)生拋光紋路，難以達(dá)到鏡面光的效果的弊端，從而擁有容易拋光，不產(chǎn)生拋光紋路，可以達(dá)到鏡面光的效果。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供了一種鈦及鈦合金拋光液，該拋光液包括乳酸、甲醇、丙三醇、氟的無(wú)機(jī)鹽和光亮劑。

根據(jù)本發(fā)明提供的鈦及鈦合金拋光液，在優(yōu)選情況下，所述乳酸的含量為200-450ml/L。在本發(fā)明中，拋光液選用了相對(duì)粘性低的乳酸，使電流密度較低，陽(yáng)極溶解緩慢，以達(dá)到緩慢拋光的目的。同時(shí)，所述乳酸是一種弱電解質(zhì)，在溶液中可以電離出氫離子。在拋光過程中，隨著反應(yīng)的進(jìn)行，氫離子會(huì)消耗，濃度會(huì)降低，乳酸則可以電離出氫離子補(bǔ)充反應(yīng)中消耗的氫離子。當(dāng)乳酸的含量小于200ml/L，拋光速度太慢，需要的時(shí)間太長(zhǎng)；當(dāng)乳酸的含量大于450ml/L時(shí)，拋光得到的鏡面光效果差。

根據(jù)本發(fā)明提供的鈦及鈦合金拋光液，在優(yōu)選情況下，所述甲醇的含量為300-500ml/L。所述甲醇的主要作用是作為溶劑，使用甲醇作為溶劑可以最大限度地減少溶液中水分的含量，因?yàn)樗值拇嬖跁?huì)增加鈦合金表面鈍化膜的穩(wěn)定性，不利于拋光的進(jìn)行。但是當(dāng)甲醇的含量小于300ml/L時(shí)，拋光液中水分所占的比例相對(duì)較大，鈦合金表面的鈍化膜相對(duì)會(huì)比較穩(wěn)定，因此如上所說(shuō)，不利于拋光的進(jìn)行；當(dāng)甲醇的含量大于500ml/L時(shí)，甲醇作為溶劑，會(huì)使拋光液中其余的有效成分的含量降低，不利于拋光的進(jìn)行。

根據(jù)本發(fā)明提供的拋光液，在優(yōu)選情況下，所述的丙三醇含量為30-50ml/L。所述丙三醇是緩蝕劑，從丙三醇的分子結(jié)構(gòu)式看，極性機(jī)體上的氧元素為共用的電子對(duì)與酸液中的氫離子成鍵形成陽(yáng)離子并吸附在鈦或鈦合金的表面腐蝕微電池的陰極區(qū)域，改變了鈦合金表面的雙層電層結(jié)構(gòu)，提高了鈦合金離子化過程的活化能，而非極性基團(tuán)遠(yuǎn)離金屬表面作定向排布，形成一層疏水的薄膜，產(chǎn)生了覆蓋效應(yīng)。成為氫離子擴(kuò)散的屏障，因而增加了氫離子的還原過電位，即產(chǎn)生了陰極極化而降低腐蝕，這樣就使腐蝕反應(yīng)在一定程度上受到抑制，起到緩蝕劑的作用。經(jīng)過大量試驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，丙三醇含量在30-50ml/L范圍內(nèi)，鈦及鈦合金表面不產(chǎn)生拋光紋路，鏡面光的效果最好。

根據(jù)本發(fā)明提供的拋光液，在優(yōu)選情況下，所述氟的無(wú)機(jī)鹽的含量為3-6g/L。所述氟的無(wú)機(jī)鹽為氟化鋇、氟化鈉、氟化鉀中的一種或多種。所述拋光液中的氟離子能與鈦表面形成的氧化膜發(fā)生反應(yīng)，使其迅速活化。且氟離子與鈦離子的絡(luò)合物穩(wěn)定性很強(qiáng)，能夠緊密吸附在鈦及鈦合金的表面，使鈦及鈦合金與空氣隔絕，抑制氧化膜的產(chǎn)生。當(dāng)氟的無(wú)機(jī)鹽的含量小于3g/L，氟離子在拋光液中的含量相對(duì)較低，不能快速有效地祛除鈦和鈦合金表面的氧化膜，不利于拋光的進(jìn)行；當(dāng)氟的無(wú)機(jī)鹽的含量大于6g/L，氟離子過量，對(duì)實(shí)驗(yàn)效果變化不明顯。

根據(jù)本發(fā)明提供的拋光液，所述拋光液中的在優(yōu)選情況下，所述光亮劑的含量為3-12g/L，所述光亮劑為糖精、明膠、硬脂酸鈉、苯駢三氮唑等中的一種或多種。所述光亮劑的作用是使鈦及鈦合金的表面更光亮，能夠得到光亮的鏡面效果。當(dāng)光亮劑的含量小于3g/L，不利于鈦及鈦合金表面的出光；當(dāng)光亮劑的含量大于12g/L，對(duì)產(chǎn)品的出光效果沒有明顯的提升。

根據(jù)本發(fā)明提供的拋光液適合鈦及各種型號(hào)的鈦合金，如TC4、TA15、TA10、TB6。

本發(fā)明還提供了一種鈦及鈦合金拋光方法，其中，先將鈦或鈦合金進(jìn)行機(jī)械拋光，然后進(jìn)行電解拋光，所述電解拋光的拋光液為本發(fā)明所述的拋光液。

本發(fā)明提供的拋光方法是利用機(jī)械拋光和電解拋光的有效結(jié)合，同時(shí)電解拋光的拋光液是本發(fā)明所述的拋光液，使鈦合金基體表面無(wú)拋光紋路并且達(dá)到鏡面光的效果。

根據(jù)本發(fā)明提供的拋光方法，在優(yōu)選情況下，所述電解拋光是將待拋光的鈦或鈦合金作為陽(yáng)極，鈦板作為陰極進(jìn)行電解拋光，所述電解拋光的溫度為20-30℃，電流密度為10-30A/dm<Sup>2</Sup>，拋光時(shí)間為10-20min。

電解拋光的溫度對(duì)拋光過程有很大的影響，當(dāng)溫度低于20℃時(shí)，拋光液的粘度較高，金屬溶解慢，溶液的導(dǎo)電性不好，達(dá)不到好的拋光效果；電解拋光的溫度升高，拋光液的粘度低，金屬溶解速度加快，效率高。但若溫度高于30℃時(shí)，易使金屬表面產(chǎn)生腐蝕麻點(diǎn)而降低拋光質(zhì)量。電流密度對(duì)待拋光件表面的粗糙度的影響也非常敏感，隨著電流密度的增加，腐蝕速度增大，拋光質(zhì)量提高；電流密度低于10A/dm<Sup>2</Sup>，拋光質(zhì)量下降。但是若電流密度高于30A/dm<Sup>2</Sup>，將導(dǎo)致陽(yáng)極析出大量的氧氣，同時(shí)產(chǎn)生的熱量不能及時(shí)擴(kuò)散，電極表面的溫度很快升高，導(dǎo)致金屬表面產(chǎn)生麻點(diǎn)，影響表面的光亮度。

根據(jù)本發(fā)明提供的拋光方法，在優(yōu)選情況下，所述陰極與陽(yáng)極表面積之比為1-4∶1。陰極表面積大于陽(yáng)極表面，有利于提高電流利用率，有助于提高拋光的效果，但是如陰極面積過大，即大于陽(yáng)極表面積的4倍，導(dǎo)致電流效率過高，致使素材表面發(fā)生過腐蝕，起不到拋光的效果。

所述機(jī)械拋光時(shí)將鈦或鈦合金先用粗布輪進(jìn)行粗拋，然后用風(fēng)輪進(jìn)行半精拋，最后用白布輪進(jìn)行精拋，進(jìn)行拋光可以去除鈦或鈦合金本身在壓鑄過程中產(chǎn)生的毛刺、氧化皮等，減小表面的粗糙度，提高表面光亮效果并增強(qiáng)后續(xù)電鍍的結(jié)合力。

根據(jù)本發(fā)明提供的拋光方法，在優(yōu)選情況下，將經(jīng)電解拋光處理后的鈦或鈦合金用無(wú)水乙醇清洗2-5min后取出，即可得到表面平整光亮的鏡面拋光效果，可以直接進(jìn)行后續(xù)的電鍍處理工序。

本發(fā)明的拋光液中不含有氫氟酸，不會(huì)產(chǎn)生對(duì)人體不利的揮發(fā)物質(zhì)及強(qiáng)烈刺激性氣味，是一種環(huán)保安全的拋光液，使用本發(fā)明的拋光液對(duì)鈦及鈦合金進(jìn)行拋光，可以使鈦及鈦合金表面不產(chǎn)生紋路，可以得到鏡面光的效果。本發(fā)明中機(jī)械拋光部分選用了特定的拋光輪進(jìn)行初步處理，去除素材表面的毛刺，氧化膜等。傳統(tǒng)的機(jī)械拋光很容易使素材表面產(chǎn)生拋光紋，嚴(yán)重影響素材表面的外觀效果。本發(fā)明所選用機(jī)械拋光雖然可以一定程度上減少拋光紋的產(chǎn)生，但是仍不能完全消除拋光紋。故本發(fā)明選擇在機(jī)械拋光后增加一步電解拋光，補(bǔ)充了機(jī)械拋光的缺陷，使素材表面更加均勻，光亮度更高，甚至產(chǎn)生鏡面光的效果。采用本發(fā)明拋光方法處理后的鈦及鈦合金基體表面平整光亮，進(jìn)行后續(xù)的電鍍工藝，得到的電鍍層覆蓋均勻，結(jié)合力好，金屬光澤度高，表面呈鏡面光效果。

以下將以具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明。

實(shí)施例1

以40×60×3mm<Sup>3</Sup>的TC4鈦合金為實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行拋光處理。

(1)機(jī)械拋光

將TC4鈦合金分別用粗布輪進(jìn)行粗拋、用風(fēng)輪進(jìn)行半精拋和用白布輪進(jìn)行精拋以除原素材本身在沖壓過程中產(chǎn)生的毛刺、氧化膜，減小表面的粗糙度，提高鏡面光亮效果并增強(qiáng)后續(xù)電鍍的結(jié)合力。

(2)電解拋光

1)配制電解拋光液

將乳酸250ml，甲醇450ml，丙三醇50ml，氟化鋇5g，硬脂酸鈉4g和苯駢三氮唑3g混合均勻制成1L溶液即得到本實(shí)施例的拋光液。

2)電解拋光處理

將經(jīng)過機(jī)械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的負(fù)極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進(jìn)行電解處理，待處理的鈦合金作為陽(yáng)極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為2∶1。拋光溫度為20℃，電流密度15A/dm<Sup>2</Sup>，處理時(shí)間15min。

(3)清洗

將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無(wú)水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光亮的鏡面拋光效果的鈦合金。

將經(jīng)過上述拋光處理的TC4鈦合金進(jìn)行拋光前后的電化學(xué)顯微鏡(三目體顯微成像系統(tǒng)，型號(hào)為：SDZ-TR)照片對(duì)比，拋光前的TC4鈦合金表面平整，但是存在大量平行的打磨痕跡，經(jīng)過上述拋光處理后的TC4鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。

實(shí)施例2：

以40×60×3mm<Sup>3</Sup>的TB6鈦合金為實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行拋光處理。

(1)機(jī)械拋光

同實(shí)施例1。

(2)電化學(xué)拋光

1)配制電化學(xué)拋光液

將乳酸220ml，甲醇400ml，丙三醇40ml，氟化鋇4g，硬脂酸鈉2g和苯駢三氮唑1g混合均勻制成1L溶液即得到本實(shí)施例的拋光液。

2)電解拋光處理

將經(jīng)過機(jī)械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的負(fù)極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進(jìn)行電解處理，待處理的鈦合金作為陽(yáng)極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為4∶1。拋光溫度為25℃，電流密度12A/dm<Sup>2</Sup>，處理時(shí)間12min。

(3)清洗

將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無(wú)水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光亮的鏡面拋光效果的鈦合金。

將經(jīng)過上述拋光處理的TB6鈦合金進(jìn)行拋光前后的電化學(xué)顯微鏡(三目體顯微成像系統(tǒng)，型號(hào)為：SDZ-TR)照片對(duì)比，拋光前的TB6鈦合金表面存在大量平行的打磨痕跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TB6鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。

實(shí)施例3

以40×60×3mm<Sup>3</Sup>的TA10鈦合金為實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行拋光處理。

(1)機(jī)械拋光

同實(shí)施例1。

(2)電化學(xué)拋光

1)配制電解拋光液

將乳酸200ml，甲醇400ml，丙三醇40ml，氟化鋇4.5g，硬脂酸鈉5g和苯駢三氮唑4g混合均勻制成1L溶液即得到本實(shí)施例的拋光液。

2)電解拋光處理

將經(jīng)過機(jī)械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的負(fù)極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進(jìn)行電解處理，待處理的鈦合金作為陽(yáng)極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為3∶1。拋光溫度為20℃，電流密度20A/dm<Sup>2</Sup>，處理時(shí)間15min。

(3)清洗

將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無(wú)水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光亮的鏡面拋光效果的鈦合金。

將經(jīng)過上述拋光處理的TA10鈦合金進(jìn)行拋光前后的電化學(xué)顯微鏡(三目體顯微成像系統(tǒng)，型號(hào)為：SDZ-TR)照片對(duì)比，拋光前的TA10鈦合金表面存在大量平行的打磨痕跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TA10鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。

實(shí)施例4

以40×60×3mm<Sup>3</Sup>的TA15鈦合金為實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行拋光處理。

(1)機(jī)械拋光

同實(shí)施例1。

(2)電解拋光

1)配制電化學(xué)拋光液。

將乳酸300ml，甲醇300ml，丙三醇30ml，氟化鋇3g和糖精5g混合均勻制成1L溶液即得到本實(shí)施例的拋光液。

2)電解拋光處理

將經(jīng)過機(jī)械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的負(fù)極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進(jìn)行電解處理，待處理的鈦合金作為陽(yáng)極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為1∶1。拋光溫度為30℃，電流密度10A/dm<Sup>2</Sup>，處理時(shí)間20min。

(3)清洗

將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無(wú)水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光亮的鏡面拋光效果的鈦合金。

將經(jīng)過上述拋光處理的TA15鈦合金進(jìn)行拋光前后的電化學(xué)顯微鏡(三目體顯微成像系統(tǒng)，型號(hào)為：SDZ-TR)照片對(duì)比，拋光前的TA15鈦合金表面存在大量平行的打磨痕跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TA15鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。

實(shí)施例5

以40×60×3mm<Sup>3</Sup>的TA10鈦合金為實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行拋光處理。

(1)機(jī)械拋光

同實(shí)施例1。

(2)電解拋光

1)配制電解拋光液

將乳酸450ml，甲醇500ml，丙三醇45ml，氟化鋇6g和苯駢三氮唑5g混合均勻制成1L溶液即得到本實(shí)施例的拋光液。

2)電解拋光處理

將經(jīng)過機(jī)械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的負(fù)極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進(jìn)行電解處理，待處理的鈦合金作為陽(yáng)極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為2∶1。拋光溫度為20℃，電流密度30A/dm<Sup>2</Sup>，處理時(shí)間10min。

(3)清洗

將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無(wú)水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光亮的鏡面拋光效果的鈦合金。

將經(jīng)過上述拋光處理的TA10鈦合金進(jìn)行拋光前后的電化學(xué)顯微鏡(三目體顯微成像系統(tǒng)，型號(hào)為：SDZ-TR)照片對(duì)比，拋光前的TA10鈦合金表面存在大量平行的打磨痕跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TA10鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。

實(shí)施例6

以40×60×3mm<Sup>3</Sup>的TA10鈦合金為實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行拋光處理。

(1)機(jī)械拋光

同實(shí)施例1。

(2)電解拋光

1)配制電解拋光液。

將乳酸400ml，甲醇400ml，丙三醇40ml，氟化鋇4.5g，明膠4g、硬脂酸鈉5g和苯駢三氮唑3g混合均勻制成1L溶液即得到本實(shí)施例的拋光液。

2)電解拋光處理

將經(jīng)過機(jī)械拋光的鈦合金與直流穩(wěn)流電源的正極相連，一鈦板與直流穩(wěn)流電源的負(fù)極相連，放入裝有步驟1)得到的拋光液的電解槽中進(jìn)行電解處理，待處理的鈦合金作為陽(yáng)極，鈦板作為陰極。鈦板與鈦合金的表面積之比為2∶1。拋光溫度為20℃，電流密度25A/dm<Sup>2</Sup>，處理時(shí)間20min。

(3)清洗

將經(jīng)電解拋光處理后的鈦合金用無(wú)水乙醇清洗5min后取出，可得到表面平整光亮的鏡面拋光效果的鈦合金。

將經(jīng)過上述拋光處理的TA10鈦合金進(jìn)行拋光前后的電化學(xué)顯微鏡(三目體顯微成像系統(tǒng)，型號(hào)為：SDZ-TR)照片對(duì)比，拋光前的TA10鈦合金表面存在大量平行的打磨痕跡；經(jīng)過上述拋光處理后的TA10鈦合金表面平整、沒有拋光紋路、光滑如鏡面。

對(duì)比例1

以40×60×3mm<Sup>3</Sup>的TC4鈦合金為實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行拋光處理。

(1)機(jī)械拋光

同實(shí)施例1。

(2)電解拋光

1)配制電解拋光液

將乳酸600g，無(wú)水乙醇275g，高氯酸35g，高氯酸鉀2g混合均勻制成1L溶液即得到本對(duì)比例的拋光液。

2)電解拋光處理

將經(jīng)