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文檔簡介
ICS71.100.20
CCSG86
CPCIF
中國石油和化學(xué)工業(yè)聯(lián)合會團體標準
T/CPCIFXXXX-XXXX
氣體分析氫氣中硫化合物含量的測定
低溫富集-硫化學(xué)發(fā)光氣相色譜法
Gasanalysis—Determinationofsulfideinhydrogen—Cryogenicenrichmentandgas
chromatographywithsulfurchemiluminescence
XXXX-XX-XX發(fā)布XXXX-XX-XX實施
中國石油和化學(xué)工業(yè)聯(lián)合會發(fā)布
T/CPCIFXXXX-XXXX
氣體分析氫氣中硫化合物含量的測定低溫富集-硫化學(xué)發(fā)光氣相
色譜法
警告:本文件的使用可能涉及某些有危險性的材料、操作和設(shè)備,但并未對與此有關(guān)的所有安全問
題都提出建議。用戶在使用本文件之前應(yīng)建立適當(dāng)?shù)陌踩头雷o措施。
1范圍
本文件描述了采用低溫富集前處理裝置和配備硫化學(xué)發(fā)光檢測器的氣相色譜儀測定氫氣中硫化
合物和總硫含量的分析方法。
本文件適用于質(zhì)子交換膜燃料電池汽車用氫燃料、工業(yè)氫、高純氫和超純氫等各種氫氣產(chǎn)品中硫
化合物和總硫含量的測定。氣體組分的線性、檢出限及定量限見附件C。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中,注日期的引用文
件,僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用
于本文件。
GB/T3723工業(yè)用化學(xué)產(chǎn)品采樣安全通則
GB/T4946氣相色譜法術(shù)語
GB/T5274.1氣體分析校準用混合氣體的制備第1部分:稱量法制備一級混合氣體
GB/T5274.8氣體分析動態(tài)體積法制備校準用混合氣體第8部分:擴散法
GB/T5274.10氣體分析動態(tài)體積法制備校準用混合氣體第10部分:滲透法
GB/T5274.11氣體分析動態(tài)體積法制備校準用混合氣體第11部分:電化學(xué)發(fā)生法
GB/T6379.2測量方法與結(jié)果的準確度(正確度與精密度)第2部分確定標準測量方法重復(fù)性
與再現(xiàn)性的基本方法
GB/T6681氣體化工產(chǎn)品采樣通則
GB/T10628氣體分析校準混合氣組成的測定和校驗比較法
GB/T14850氣體分析詞匯
GB/T33318氣體分析硫化物的測定硫化學(xué)發(fā)光氣相色譜法
GB/T37244質(zhì)子交換膜燃料電池汽車用燃料氫氣
GB/T38677氣體分析測量過程及結(jié)果校準技術(shù)要求
HG/T5896高純空氣
3術(shù)語和定義
4
T/CPCIFXXXX-XXXX
GB/T4946、GB/T14850、GB/T38677、GB/T33318、GB/T37244界定的以及下列術(shù)語和定義適
用于本文件。
3.1
低溫富集cryogenicenrichment
在低溫條件下,通過冷阱將樣品中的目標組分進行富集的過程。
3.2
硫化合物sulfurcompounds
氫氣樣品中的硫化氫(H2S)、羰基硫(COS)、甲硫醇(CH3SH)、乙硫醇(C2H5SH)、甲
硫醚(CH3SCH3)、二硫化碳(CS2)、甲基乙基硫醚(CH3SC2H5)、噻吩(C4H4S)和乙硫醚(C2H5SC2H5)
等常見硫化合物組分。
3.3
總硫totalsulfurcompounds
氫氣樣品中存在的各種形態(tài)硫化合物組分,以H2S計。
4原理
低溫富集系統(tǒng)配備裝填有可吸附目標組分填料的捕集冷阱。將一定體積的氫氣樣品以一定的流量通
過低溫富集裝置,樣品氣體中的硫化合物組分在低溫捕集冷阱中富集,再通過快速加熱冷阱將硫化合
物解析后,通過載氣帶入配備有硫化學(xué)發(fā)光檢測器的氣相色譜儀器進行分析。待測樣品中的硫化合物
組分含量與氣相色譜儀的峰面積成正比,通過標準物質(zhì)/標準樣品確定樣品中待測組分的含量。分析流
程圖見附錄A。
5試驗條件
低溫富集系統(tǒng)分析條件:內(nèi)流路溫度80℃;傳輸管線溫度80℃;進樣流量40mL/min,進樣量100
mL;聚焦溫度-30℃,脫附溫度120℃,烘焙溫度120℃,烘焙流速80mL/min,烘焙時間2min。
氣相色譜儀分析條件:色譜柱DB-Sulfur(60m×320μm×4.2μm,用于硫化合物的定性定量分析)
或內(nèi)壁未涂覆的融融石英毛細柱(10m×320μm,用于總硫含量的分析),流量2mL/min;分流比4:
1;進樣口150℃;SCD接口溫度200℃,燃燒器溫度850℃,氫氣80mL/min,氮氣40mL/min,氧
氣10mL/min,臭氧25mL/min;分析硫化合物柱箱條件40℃保持5min,10℃/min上升至180℃保
持2min;分析總硫柱箱條件40℃保持3min。
6試劑或材料
6.1氣體標準物質(zhì)/標準樣品
5
T/CPCIFXXXX-XXXX
含有硫化氫(H2S)、羰基硫(COS)、甲硫醇(CH3SH)、乙硫醇(C2H5SH)、甲硫醚(CH3SCH3)、
二硫化碳(CS2)、甲基乙基硫醚(CH3SC2H5)、噻吩(C4H4S)和乙硫醚(C2H5SC2H5)等組分,以
氫氣為底氣的氣體標準物質(zhì)/標準樣品。
推薦采用GB/T5274.1制備的硫化合物氣體標準物質(zhì)/標準樣品,也可使用基于GB/T5275.8、GB/T
5275.10、GB/T5275.11或其他適用的動態(tài)法制備的硫化合物氣體標準物質(zhì)/標準樣品。其他適用的動態(tài)
法制備的硫化合物氣體的含量應(yīng)該依據(jù)GB/T10628進行校驗,校驗應(yīng)采用GB/T5274.1制備的硫化合
物氣體標準物質(zhì)/標準樣品作為參考混合氣體。
6.2稀釋氣:氫氣,純度不小于99.9999%,采用本方法未檢出硫化合物。
注:稀釋氣建議采用水電解工藝制備的氫氣。
6.3儀器用載氣:氦氣,純度不小于99.999%。
6.4儀器用燃氣:氫氣,純度不小于99.999%。
6.5儀器用助燃氣:高純空氣,應(yīng)符合HG/T5896的要求。
6.6臭氧發(fā)生器用氧氣:純度不小于99.999%。
注:針對6.3~6.6描述的氣體,建議加裝脫硫捕集阱、分子篩脫水、脫烴、脫氧過濾器等純化設(shè)備。
7儀器設(shè)備
7.1低溫富集系統(tǒng)
低溫富集系統(tǒng)應(yīng)采用半導(dǎo)體在(-35~150)℃范圍內(nèi)控制溫度,應(yīng)具有樣品自動進樣和體積定量
功能,應(yīng)配備裝填有可吸附硫化合物目標組分填料的捕集冷阱。低溫富集系統(tǒng)內(nèi)部樣品通過的管路、與
氣相色譜儀連接的傳輸管路均使用硫惰性化材質(zhì)。
7.2氣相色譜儀
配有硫化學(xué)發(fā)光檢測器的氣相色譜儀。
7.3氣體稀釋裝置
用于將氣體標準物質(zhì)/標準樣品(5.1)和稀釋氣(5.2)稀釋成目標濃度的單獨設(shè)備或具有相同功能
的部件。稀釋倍數(shù)不宜低于1000倍,樣品通過的內(nèi)部管路應(yīng)使用硫惰性化材質(zhì)。稀釋裝置應(yīng)經(jīng)校準后
使用,稀釋比相對擴展不確定度應(yīng)不大于2%(k=2)。
7.4色譜柱
色譜柱?:長約60m、內(nèi)徑約320μm,內(nèi)壁涂覆約4.2μm非極性甲基聚硅氧烷的熔融石英毛細柱,
或其他等效色譜柱,用于分析硫化合物的含量。
色譜柱II:長約10m、內(nèi)徑約320μm,內(nèi)壁未涂覆的熔融脫活石英毛細柱,或其他等效色譜柱,
用于分析總硫的含量。
7.5氣路系統(tǒng)
使用的閥門、氣路管線、連接件、密封件等與待測樣品接觸部分都應(yīng)采用不銹鋼材質(zhì),并經(jīng)硫惰
6
T/CPCIFXXXX-XXXX
性化處理。
8試驗步驟
8.1校準儀器
對于常規(guī)分析,應(yīng)事先用氣體標準物質(zhì)/標準樣品制作校準曲線。預(yù)期的分析物濃度應(yīng)包含在校
準曲線范圍內(nèi),每次分析之前或每月應(yīng)用氣體標準物質(zhì)/標準樣品(總硫含量的測定使用硫化氫氣體
標準物質(zhì)/標準樣品)對校準曲線的有效性進行至少一次確認,核查方法見GB/T33318附錄C。
儀器基線穩(wěn)定后,將氣體標準物質(zhì)/標準樣品與儀器連接,充分吹掃進樣系統(tǒng)。將已知含量的氣
體標準物質(zhì)/標準樣品通過稀釋裝置稀釋至0.100nmol/mol,0.200nmol/mol,0.500nmol/mol,1.00
nmol/mol,4.00nmol/mol,10.0nmol/mol,按含量由小到大的順序依次測量,每個校準點重復(fù)測量至
少3次,取色譜峰面積的平均值為硫化合物氣體標準物質(zhì)/標準樣品的響應(yīng)值。采用最小二乘法制作
色譜響應(yīng)值與標準含量值的線性方程,相關(guān)系數(shù)應(yīng)不低于0.99,否則應(yīng)檢查原因,調(diào)整后重新測量
制作校準曲線。
8.2采樣
8.2.1采樣設(shè)備
采樣設(shè)備,包括采樣閥、管線、容器等與待測物接觸部分材質(zhì)都應(yīng)不與待測物發(fā)生物理和化學(xué)
反應(yīng),應(yīng)嚴格保證采樣設(shè)備的氣密性。
8.2.2氣體樣品采樣
氣體樣品的采樣原則及一般規(guī)定應(yīng)符合GB/T6681規(guī)定。
8.2.3安全要求
采樣中的安全要求應(yīng)符合GB/T3723中的規(guī)定。
8.3硫化合物和總硫測定
樣品測定時,儀器設(shè)定的操作參數(shù)應(yīng)與制作校準曲線時操作參數(shù)一致。樣品重復(fù)進樣測量至少3
次,取色譜峰面積的平均值為樣品中硫化合物或總硫的響應(yīng)值。
同時采集的一式多份樣品建議在短時間內(nèi)進行分析。
若樣品中硫化合物或總硫的含量高于測量范圍,可利用稀釋裝置稀釋后測定。
9試驗數(shù)據(jù)處理
硫化合物組分i的含量按式(1)計算:
A?a
=i……………(1)
ib
式中:
7
T/CPCIFXXXX-XXXX
a——校準曲線截距;
b——校準曲線斜率;
i——樣品中硫化合物組分i的含量,mol/mol;
Ai——樣品中硫化合物組分i的響應(yīng)(色譜峰面積)值的平均值。
10精密度
按GB/T6379.2的規(guī)定執(zhí)行。
10.1重復(fù)性
在重復(fù)性條件下獲得的兩次獨立測試結(jié)果的差值不超過表1給出的重復(fù)性限,超過重復(fù)性限的情況
不超過5%。
表1硫化合物的重復(fù)性限
組分名稱含量范圍(nmol/mol)重復(fù)性限(nmol/mol)
H2S6.2%
COS5.6%
CH3SH5.6%
CH3CH2SH4.8%
CH3SCH30.100~10.07.0%
CS25.3%
CH3SC2H53.6%
C4H4S3.6%
C2H5SC2H54.5%
10.2再現(xiàn)性
在再現(xiàn)性條件下獲得的兩次獨立測試結(jié)果的差值不超過表2給出的再現(xiàn)性限,超過再現(xiàn)性限的情況
不超過5%。
表2各硫化物的再現(xiàn)性限
組分名稱含量范圍(nmol/mol)再現(xiàn)性限(nmol/mol)
H2S7.6%
COS8.0%
CH3SH4.8%
CH3CH2SH6.3%
CH3SCH30.100-10.07.5%
CS26.4%
CH3SC2H56.4%
C4H4S6.9%
C2H5SC2H56.5%
8
T/CPCIFXXXX-XXXX
11檢出限和定量限
硫化合物組分的檢出限按式(2)計算,定量限按式(3)計算:
'
xsLOD=30……………(2)
'
xLOQ=kQs0……………(3)
式中:
——方法檢出限;
——方法定量限;
'
s0——單次測量結(jié)果的標準偏差;
——常數(shù),當(dāng)規(guī)定限值≤10×10-9(摩爾分數(shù))時,取3。
12質(zhì)量保證和控制
所有計量設(shè)備,包括氣相色譜儀、稀釋裝置、低溫富集裝置都應(yīng)經(jīng)過校準并確認其滿足使用要求。
13試驗報告
試驗報告至少應(yīng)給出以下幾個方面的內(nèi)容:
——有關(guān)樣品氣體和氣體標準物質(zhì)/標準樣品的全部信息,例如樣品的名稱、編號、狀態(tài)、采樣點、
采樣日期和時間;
——注明采用的標準名稱及代號、分析方法等;
——試驗條件:分析的操作參數(shù),例如進樣口溫度,進樣時間,色譜柱溫度等;
——試驗結(jié)果:各測定組分在樣品氣中的含量,測量或計算結(jié)果的環(huán)境溫度和大氣壓力值(狀態(tài)
條件);
——試驗日期;
——實驗室名稱;
——試驗人員姓名、審核者姓名和批準者姓名;
——測定條件及測定時觀察到的異常及說明。
9
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附錄A
(資料性)
流程圖
A1色譜氣路流程圖
色譜氣路流程圖見圖A.1。
標引序號說明:
1——氣體標準物質(zhì);
2——稀釋氣;
3——氫氣純化器;
4——稀釋放空氣;
5——稀釋裝置;
6——氣體傳輸線;
7——吹掃放空氣;
8——冷阱;
9——吹掃氣;
10——色譜柱;
11——硫化學(xué)發(fā)光檢測器;
Ⅰ——氣體稀釋單元;
Ⅱ——低溫富集裝置;
Ⅲ——硫化學(xué)發(fā)光氣相色譜儀.
圖A.1氣體標準物質(zhì)-稀釋-低溫富集-GC-SCD示意圖
10
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附錄B
(資料性)
典型硫化合物4.0nmol/mol含量的分析譜圖
B1典型譜圖
色譜氣路流程圖見圖B.1。
9000
6
7500
6000
/μV
450089
7
5
響應(yīng)信號300024
3
1
1500
0
024681012141618
分析時間/min
圖B.1典型9組分硫化合物4.0nmol/mol含量的分析譜圖
(1-H2S;2-COS;3-CH3SH;4-C2H5SH;5-CH3SCH3;6-CS2;7-CH3SC2H5;8-C4H4S;9-C2H5SC2H5)
11
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