電池制造工藝-硅片的化學(xué)清洗

硅片的化學(xué)清洗硅片表面有什么污染？顆粒污染有機(jī)物污染無(wú)機(jī)物污染需要去除的氧化層顆粒怎么去除？硅片表面的顆粒大小可以從非常大（50um）變化到小于1um。小的顆粒受到兩個(gè)引力問(wèn)題（Vander

waals）范德華力，這是一種分子間作用力，在化學(xué)清洗中為一個(gè)原子的電子和另一個(gè)原子的核之間形成的很強(qiáng)的原子間吸引力。（Capillary）毛細(xì)作用力,產(chǎn)生了顆粒與表面之間形成的液體橋。大顆?；瘜W(xué)浸泡＋清水沖洗小顆粒Vanderwaals吸引力硅片移動(dòng)速度，PH值，電解質(zhì)濃度；表面活性劑，氮?dú)鈽屝☆w粒Capillary引力表面活性劑；超聲波，氮?dú)鈽?。微小顆粒機(jī)械式晶片表面洗刷器；去離子水+表面活性劑等小顆粒Vanderwaals吸引力高壓水沖洗；可添加小劑量表面活性劑。有機(jī)殘余物怎么去除？使用“結(jié)構(gòu)類似相溶”經(jīng)驗(yàn)規(guī)則，使用有機(jī)溶劑溶解硅片表面有機(jī)物.使用“氧化還原反應(yīng)”原則，使用強(qiáng)氧化劑，使一些低價(jià)化合物氧化成高價(jià)化合物，使一些難溶物質(zhì)發(fā)生氧化，而轉(zhuǎn)變成可溶物質(zhì)．

有機(jī)殘余物含碳化合物溶液浸泡（丙酮，乙醇等）有機(jī)殘余物含碳化合物硫酸，硫酸+過(guò)氧化氫，臭氧添加劑等無(wú)機(jī)物（金屬離子）污染怎么去除？金屬離子沾污：必須采用化學(xué)的方法才能清洗其沾污，硅片表面金屬雜質(zhì)沾污有兩大類：

a.沾污離子或原子通過(guò)吸附分散附著在硅片表面。

b.帶正電的金屬離子得到電子后附著（尤如“電鍍”）到硅片表面。

化學(xué)品利用特性可以去除不能去除HCL強(qiáng)酸性鋁，鎂等活潑金屬及其氧化物銅，銀，金等不活潑金屬以及二氧化硅等物質(zhì)H2SO4強(qiáng)酸性，強(qiáng)氧化性鋁，鎂等活潑金屬以及銅，銀等不活潑活潑金屬金，二氧化硅等物質(zhì)HNO3強(qiáng)酸性，強(qiáng)氧化性鋁，鎂等活潑金屬以及銅，銀等不活潑活潑金屬金，二氧化硅等物質(zhì)王水（HCL:HNO3=3:1）強(qiáng)酸性，極強(qiáng)氧化性可以溶解活潑金屬以及幾乎所有的不活潑金屬二氧化硅等物質(zhì)H2O2強(qiáng)氧化性低價(jià)金屬化合物（如Fecl2）HF弱酸性溶解大多數(shù)金屬，可以溶解二氧化硅鉑，銅，鉛，金等金屬氧化層的來(lái)源和去除方法？氧化層的來(lái)源？空氣有氧存在的加熱的化學(xué)品清洗池氧化層的去除方法？使用HF與H2O的混合溶液，溶液強(qiáng)度可以從1:100到7:10.HF溶解二氧化硅的原因？HF酸能溶解二氧化硅是因?yàn)镠F可以與二氧化硅作用生產(chǎn)易揮發(fā)的四氟化硅氣體SiO2+4HF->SiF4↑+2H2O若HF過(guò)量，反應(yīng)生成的四氟化硅會(huì)進(jìn)一步與HF反應(yīng)生成可溶的絡(luò)合物六氟化硅酸．SiF4+2HF->H2[SiF6]總的反應(yīng)式：SiO2+6HF->H2[SiF6]+2H2O去除硅表面污染的原則是什么？在去除表面污染物的同時(shí)，不會(huì)刻蝕或損害硅片表面生產(chǎn)配置上安全，經(jīng)濟(jì)不影響硅片的表面粗糙度不影響硅片的電特性清洗工藝的選擇？非HF結(jié)尾的清洗工藝表面呈親水性可被烘干而不留水印有薄氧化層保護(hù)以HF去除工藝結(jié)尾的清洗表面呈憎水性若表面有親水性（氧化物）表面存在不容易被烘干而不留水印表面鈍化效果穩(wěn)定水沖洗的重要性？？每一步濕法清洗后面都會(huì)緊跟著去離子水的沖洗,起著從表面上去除化學(xué)清洗液和終止氧化物刻蝕反應(yīng)的雙重功效．水沖洗的技術(shù)難點(diǎn)沖洗效果用水量常見的水沖洗技術(shù)？溢流式清洗噴灑式清洗排放式清洗超聲波輔助清洗什么是溢流式清洗？廣義上，流動(dòng)的水對(duì)硅片表面的清洗都可以稱為溢流式清洗。常見的溢流式清洗方式氣泡式（通常是氮?dú)獾臍馀輳南峦贤ㄟ^(guò)，幫助硅片表面化學(xué)品和水混合）多極溢流平行下流溢流式清洗設(shè)計(jì)原則經(jīng)驗(yàn)法則，每分鐘的流速＝?jīng)_洗池體積的5倍流量，時(shí)間至少5min(跟硅片尺寸有關(guān))沖洗時(shí)間，通常由測(cè)量排出沖洗池的水的電阻率決定什么是噴灑式清洗？清洗的原理：用稀釋的機(jī)械原理將可溶性的化學(xué)物質(zhì)除去。噴灑式清洗原理：V=Time*v，清洗水的流速越高，清洗的水量約大，稀釋作用越好。E=mv2，通過(guò)水運(yùn)動(dòng)過(guò)程中產(chǎn)生動(dòng)量的物理作用去除。什么是排放式清洗？此清洗系統(tǒng)在結(jié)構(gòu)上類似于溢流式清洗，但具有噴灑能力.什么是超聲波輔助清洗？超聲波與兆聲波？超聲波：20000~50000HZ；兆聲波：850000HZ超聲波輔助清洗原理：通過(guò)振動(dòng)在液體中形成極微小的氣泡，這些氣泡快速地崩潰就產(chǎn)生了微小的擦洗工作，從而達(dá)到顆粒的去除。兆聲波輔助清洗原理：依據(jù)流體力學(xué)，固體表面與液體之間有個(gè)靜止或緩慢移動(dòng)的界面，小顆?？梢栽谶@層界面中從而不與化學(xué)清洗液接觸。兆聲波產(chǎn)生的能量可以破壞這一界面。