傳統(tǒng)四線電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)及流程ppt課件

1、.,傳統(tǒng)四線電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)及工藝流程,一：原材料及產(chǎn)品結(jié)構(gòu) 二：生產(chǎn)工藝流程 三：電容式觸摸屏結(jié)構(gòu),.,一：原材料及產(chǎn)品結(jié)構(gòu),Base PET,1.1:ITO FILM,注釋： 1：PET基材表面采用磁控濺射鍍膜，技術(shù)要求高，生產(chǎn)廠商不多，高品質(zhì)膜基本為日系廠商所壟斷 2：ITO膜層厚度約300nm,PET常見厚度為0.175，0.180，0.125mm.,ITO鍍膜層,.,1.2:ITO GLASS,Base Glass (白玻璃),ITO 膜層,注釋： 1：ITO膜厚300nm左右，采用CVD獲PVD法鍍膜，國內(nèi)可生產(chǎn)。 2：Base Glass薄板由康寧，板哨子，旭哨子等廠商壟斷，國內(nèi)

2、無法生產(chǎn)，常見厚度0.55，0.7，1.1mm等等，0.4mm不常見。 3：Glass按照強(qiáng)度分為普通玻璃，化學(xué)強(qiáng)化，鋼化玻璃等，還有部分性能及其優(yōu)越的產(chǎn)品，不常見。,.,1.3：電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)分解,FILM 面 GLASS面,銀電極,.,1.3：電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)分解,印刷絕緣后,印刷隔離點(diǎn)后,絕緣油墨層,隔點(diǎn),.,1.3：電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)分解,印刷粘合膠，印刷工序結(jié)構(gòu),注釋： FILM印刷層與GLASS基本相同，沒有隔離點(diǎn)層,粘合膠層,.,四線電阻式觸摸屏結(jié)構(gòu)圖（1）,粘合膠層（采用印刷工藝印刷，厚度約20微米）,絕緣層（采用印刷工藝，厚度約12微米）,.,四線電阻式產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖（2）,

3、ITO FILM,FILM銀電極,上層絕緣，粘合膠（省略）,粘合膠層,絕緣層,銀電極,FPC,ITO GLASS,隔點(diǎn),.,四線電阻式產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖（3）,側(cè)面圖,中間為空氣,.,2.1：印刷車間（前段）流程,二：生產(chǎn)工藝流程,玻璃領(lǐng)料,清洗,印刷MK,蝕刻剝膜,印銀電極,印ICON,印隔點(diǎn),印粘合膠,印絕緣,FILM領(lǐng)料,熱處理,印銀電極,印絕緣,蝕刻剝膜,印刷MK,印粘合膠,裁切,貼 合 室,.,2.2：后段流程,貼合,裝盒,貼保護(hù)膜,外觀,I P Q C,檢測,壓FPC,切割,封膠,尺寸檢查,F Q C,入庫,裝箱,出貨,O G Q C,.,三：電容式觸摸屏結(jié)構(gòu),3.1：iphone,Cover lens 0.7鋼化玻璃，康寧,OCA 3M8187 180微米,Sense Glass,SiO2 厚度：約100nm,ITO 厚度：100300nm,Base Glass :厚度：0.55mm,ITO 厚度：100300nm,SiO2 厚度：約100nm,.,3.2:pixcir,Sense glass,Cover lens,OCA,Base glass,ITO 厚度300nm,SiO2介質(zhì)層,ITO厚度300nm SiO2保護(hù)層,1:結(jié)構(gòu)圖（1）,.,2：結(jié)構(gòu)圖（2）,Sense Glass (正面圖),注釋： 1