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干涉相長(zhǎng),干涉相消,最基本規(guī)律：波的疊加規(guī)律,雙縫干涉,由S1、S2發(fā)出的光到達(dá)屏上B點(diǎn)的 波程差為,若,明條紋,若,暗條紋,因?yàn)?，,所以,暗條紋中心的位置為,相鄰明紋（或暗紋）間的距離為,雙縫干涉條紋的特點(diǎn),(1) 平行的明暗相間的直條紋；,(4) 條紋間距與入射光的波長(zhǎng)成正比,(3) 中間級(jí)次低，兩邊級(jí)次高；,(2) 不太大時(shí)條紋等間距；,與d成反比,雙 鏡,勞埃德鏡,介質(zhì)片,思考:,干涉條紋位置有無(wú)變化?,楊氏雙縫干涉中，若有下列變動(dòng)，干涉條紋將如何變化,（1）把整個(gè)裝置浸入水中, 此時(shí)波長(zhǎng)為,（2）在縫S2處慢慢插入一塊楔形玻璃片，,圖示由于S2到O點(diǎn)的光程逐漸增加，因此S1到屏和S2到屏兩束光線相遇處的光程差為零的位置向下移動(dòng)。,即整個(gè)干涉條紋向下移動(dòng)。,則條紋變密,（3）把縫隙S2遮住，并在兩縫垂直平面上放一平面反射鏡,此時(shí)兩束光的干涉如圖所示， 由于S1光線在平面鏡反射且有 半波損失 ，因此干涉條紋僅在O點(diǎn)上方，且明暗條紋位置與原來(lái)相反。,薄膜干涉,*判斷半波損失,有半波損失,無(wú)半波損失,入射波,反射波,折射,折射時(shí)沒(méi)有半波損失,光從光疏介質(zhì)射向光密介質(zhì)界面時(shí)，在反射過(guò)程中產(chǎn)生“半波損失”。,當(dāng)光垂直入射（i =0）時(shí),反射光干涉條件為,動(dòng)態(tài)判斷有無(wú),透射波,增透膜和增反膜,劈尖,牛頓環(huán),劈尖,動(dòng)態(tài)判斷有無(wú),動(dòng)態(tài)判斷有無(wú),動(dòng)態(tài)判斷有無(wú),單色光垂直入射劈尖，討論A、B處的情況,明,B處光程差,A處條紋明暗,暗,明,或,計(jì)算 習(xí)題19.10,若以 光垂直入射，看到七條暗紋，且第七條位于N處，問(wèn)該膜厚為多少。,測(cè)量薄膜厚度。圖示欲測(cè)定 的厚度，通常將其磨成圖示劈尖狀，然后用光的干涉方法測(cè)量。,由暗條紋條件得,棱邊處對(duì)應(yīng) 的明紋 N處為第七條暗紋，取 得,方法2：劈尖相鄰明條（暗條）間的垂直距離為 ，今有七條暗紋，棱邊為明條紋，則其厚度,討論：,
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