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1、電 子 科 技 大 學(xué)實 驗 報 告學(xué)生姓名:鄢傳宗,梁成豪 學(xué) 號:10,09 指導(dǎo)教師:王向展實驗地點:211樓606 實驗時間:2014.5.4一、實驗室名稱: 微電子技術(shù)實驗室 二、實驗項目名稱:集成電路版圖識別與提取三、實驗學(xué)時:4四、實驗原理:本實驗重點放在版圖識別、電路拓撲提取、電路功能分析三大模塊,實驗流程如下:電路拓撲提取版圖中元器件識別總體布局布線觀察 復(fù)查,仿真驗證電路功能分析打印輸出 五、實驗?zāi)康模海?) 了解對塑封、陶瓷封裝等不同封裝形式的芯片解剖的方法及注意事項。(2) 學(xué)習(xí)并掌握集成電路版圖的圖形識別、電路拓撲結(jié)構(gòu)提取。(3) 能對提取得到的電路進行功能分析、確定
2、,并可運用PSPICE等ICCAD工具展開模擬仿真。六、實驗內(nèi)容:1、 Motic SMZ體視顯微鏡使用與操作練習(xí)。2、在芯片上找出劃線槽、分布在芯片邊緣的壓焊點、對位標記和CD Bar(特征尺寸線條)并測出有關(guān)的圖形尺寸和間距。仔細觀察芯片圖形總體的布局布線,找出電源線、地線、輸入端、輸出端及其對應(yīng)的壓焊點。3、判定此IC采用P阱還是N阱工藝;進行版圖中元器件的辨認,要求分出MOS管、多晶硅電阻和MOS電容。4、根據(jù)以上的判別依據(jù),提取芯片上圖形所表示的電路連接拓撲結(jié)構(gòu);復(fù)查,加以修正;應(yīng)用PSPICE等電路模擬器進行仿真驗證。七、實驗器材:(1)可連續(xù)變倍體視顯微鏡 1臺(2)鑷子、干燥器
3、皿(含干燥劑) 1套(3)未劃片封裝的圓片(含CMOS模擬電路) 1片(4)微機 1臺八、實驗步驟:1、 首先熟悉Motic SMZ體視顯微鏡的使用。(1)接通電源,選擇視野光源。該顯微鏡備有兩種光源:透射式和入射式,芯片為不透明樣片,故采用入射光源。(2)與一般顯微鏡不同的是,該顯微鏡物鏡放大倍數(shù)連續(xù)可調(diào),便于操作;焦距的變化通過調(diào)節(jié)升降桿旋鈕實現(xiàn)。注意調(diào)節(jié)過程中不可猛升猛降,以免損壞儀器。2、調(diào)節(jié)可變倍物鏡,將放大倍數(shù)調(diào)變至最小,再調(diào)節(jié)物鏡與樣品距離,至視野清晰,確定所需觀察的樣品位置。增大放大倍數(shù),并調(diào)節(jié)焦距,至可在視野內(nèi)清楚地看到4個電路塊(Chip)。此時所見到的每塊之間的溝槽即為劃
4、片槽,封裝前將圓片沿此槽劃開,得到單個的芯片,將各壓焊點用引線引出封裝就是平時所用的集成電路塊。3、調(diào)節(jié)顯微鏡,在芯片內(nèi)查找出對位標記和CD Bar(特征尺寸線條)。發(fā)現(xiàn)在芯片右上角有一塊區(qū)域為對位標記和CD條,由對位標記可知,該電路共有13塊掩模版,每次對位均以第一塊版P阱版為準,避免了以往采用的后一次以上一次為準帶來的套刻誤差傳遞的危險,套刻精度大為改善。4、進一步增大放大倍數(shù),使視野內(nèi)只有一個Chip出現(xiàn),在其四周找出較大的亮的方框,即為壓焊點,先根據(jù)與壓焊點相連的連線的寬窄定出正、負電源線或地線,因本電路采用正負電源,判定上方左起第3個壓焊點接正電源,下方第左起第1個壓焊點接負電源。再
5、根據(jù)與正、負電源線的連接情況,輸入端一般都加二極管保護電路,可先查到有二極管保護電路的部分,分析與其相接的連線情況,確定芯片上方左起第1、2壓焊點為兩個輸入端壓焊點。 5、根據(jù)在襯底和阱中的器件與正、負電源線或地線的連接情況,判定此IC采用P阱還是N阱工藝。由觀測到的圖形可以發(fā)現(xiàn),阱及其保護環(huán)與負電源相接,判定為P阱工藝。6、確定本電路采用的為P阱工藝之后,進行版圖中元器件的辨認。首先可以看出采用了多晶硅柵,且在輸入壓焊點到輸入管之間有一段多晶硅,但又無連線的“交叉”出現(xiàn),排除了“過橋”的可能,初步判斷為電阻,再根據(jù)其與二極管保護電路連接最終與輸入管相接,可斷定是輸入端起限流作用的電阻。7、因
6、已確定為P阱工藝,則阱和保護環(huán)內(nèi)的器件應(yīng)為NMOS管,由圖形可見,兩輸入管共用一個源極,且源與P阱相接,但未接負電源,而是與另一個N管的漏相接,該N管的源極與負電源相接,意味著阱電位是浮動的,這是為了消除輸入管襯底偏置效應(yīng)采取的措施。兩輸入管的漏極分別與另外兩個P管的漏相接,這兩個P管的源和襯底相連并與正電源連接,且其中一個P管的漏與柵極短接,說明這兩個P管構(gòu)成了電流鏡。類似可識別出其他的P管和N管。8、根據(jù)如上的圖形識別,將提取得到的各器件連接并整理成電路圖。九、實驗數(shù)據(jù)及結(jié)果分析:1.電路圖見附頁2,功能分析:第一部分是輸入保護電路。第二部分是差分和共源兩級放大電路,密勒電容是為了增大相位裕度。第三部分是將單端信號轉(zhuǎn)換為差分信號。第三,四部分構(gòu)成一個改進型的推挽輸出結(jié)構(gòu)。十、實驗結(jié)論: 結(jié)合課程所學(xué)的知識,對一種模擬集成電路進行了版圖識別與提取,分析出該電路采用了硅柵P 阱CMOS工藝,電路結(jié)構(gòu)為帶輸入保護的典型差分輸入放大器。其中,在版圖中差分對的對稱性考慮、電流鏡的匹配設(shè)計有特色,值得今后設(shè)計中借鑒。十一、總結(jié)及心得體會:通過本次實驗,了解了IC內(nèi)部結(jié)構(gòu)及其主要工藝特點,加深了
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