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文檔簡介
1、第一章 半導(dǎo)體器件基礎(chǔ),1.1 半導(dǎo)體的基本知識,1.2 半導(dǎo)體二極管,1.3 半導(dǎo)體三極管,1.4 BJT模型,1.5 場效應(yīng)管,1,1.1 半導(dǎo)體的基本知識,在物理學(xué)中。根據(jù)材料的導(dǎo)電能力,可以將他們劃分導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。 典型的半導(dǎo)體是硅Si和鍺Ge,它們都是4價元素。,硅原子,鍺原子,硅和鍺最外層軌道上的四個電子稱為價電子。,2,本征半導(dǎo)體的共價鍵結(jié)構(gòu),束縛電子,在絕對溫度T=0K時,所有的價電子都被共價鍵緊緊束縛在共價鍵中,不會成為自由電子,因此本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力很弱,接近絕緣體。,一. 本征半導(dǎo)體,本征半導(dǎo)體化學(xué)成分純凈的半導(dǎo)體晶體。 制造半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體材料的純度要達(dá)到9
2、9.9999999%,常稱為“九個9”。,3,這一現(xiàn)象稱為本征激發(fā),也稱熱激發(fā)。,當(dāng)溫度升高或受到光的照射時,束縛電子能量增高,有的電子可以掙脫原子核的束縛,而參與導(dǎo)電,成為自由電子。,自由電子,空穴,自由電子產(chǎn)生的同時,在其原來的共價鍵中就出現(xiàn)了一個空位,稱為空穴。,4,可見本征激發(fā)同時產(chǎn)生電子空穴對。 外加能量越高(溫度越高),產(chǎn)生的電子空穴對越多。,動畫演示,與本征激發(fā)相反的現(xiàn)象復(fù)合,在一定溫度下,本征激發(fā)和復(fù)合同時進(jìn)行,達(dá)到動態(tài)平衡。電子空穴對的濃度一定。,常溫300K時:,電子空穴對,5,自由電子 帶負(fù)電荷 電子流,動畫演示,總電流,空穴 帶正電荷 空穴流,本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電性取決于外
3、加能量: 溫度變化,導(dǎo)電性變化;光照變化,導(dǎo)電性變化。,導(dǎo)電機制,6,二. 雜質(zhì)半導(dǎo)體,在本征半導(dǎo)體中摻入某些微量雜質(zhì)元素后的半導(dǎo)體稱為雜質(zhì)半導(dǎo)體。,1. N型半導(dǎo)體,在本征半導(dǎo)體中摻入五價雜質(zhì)元素,例如磷,砷等,稱為N型半導(dǎo)體。,7,N型半導(dǎo)體,多余電子,磷原子,硅原子,多數(shù)載流子自由電子,少數(shù)載流子 空穴,施主離子,自由電子,電子空穴對,8,在本征半導(dǎo)體中摻入三價雜質(zhì)元素,如硼、鎵等。,空穴,硼原子,硅原子,多數(shù)載流子 空穴,少數(shù)載流子自由電子,受主離子,空穴,電子空穴對,2. P型半導(dǎo)體,9,雜質(zhì)半導(dǎo)體的示意圖,多子電子,少子空穴,多子空穴,少子電子,少子濃度與溫度有關(guān),多子濃度與溫度無
4、關(guān),10,因多子濃度差,形成內(nèi)電場,多子的擴(kuò)散,空間電荷區(qū),阻止多子擴(kuò)散,促使少子漂移。,PN結(jié)合,空間電荷區(qū),多子擴(kuò)散電流,少子漂移電流,耗盡層,三. PN結(jié)及其單向?qū)щ娦?1 . PN結(jié)的形成,11,動畫演示,動態(tài)平衡:,擴(kuò)散電流 漂移電流,總電流0,12,2. PN結(jié)的單向?qū)щ娦?(1) 加正向電壓(正偏)電源正極接P區(qū),負(fù)極接N區(qū),外電場的方向與內(nèi)電場方向相反。 外電場削弱內(nèi)電場,耗盡層變窄,擴(kuò)散運動漂移運動,多子擴(kuò)散形成正向電流I F,13,(2) 加反向電壓電源正極接N區(qū),負(fù)極接P區(qū),外電場的方向與內(nèi)電場方向相同。 外電場加強內(nèi)電場,耗盡層變寬,漂移運動擴(kuò)散運動,少子漂移形成反向電
5、流I R,在一定的溫度下,由本征激發(fā)產(chǎn)生的少子濃度是一定的,故IR基本上與外加反壓的大小無關(guān),所以稱為反向飽和電流。但I(xiàn)R與溫度有關(guān)。,14,PN結(jié)加正向電壓時,具有較大的正向擴(kuò)散電流,呈現(xiàn)低電阻, PN結(jié)導(dǎo)通; PN結(jié)加反向電壓時,具有很小的反向漂移電流,呈現(xiàn)高電阻, PN結(jié)截止。 由此可以得出結(jié)論:PN結(jié)具有單向?qū)щ娦浴?動畫演示1,動畫演示2,15,3. PN結(jié)的伏安特性曲線及表達(dá)式,根據(jù)理論推導(dǎo),PN結(jié)的伏安特性曲線如圖,正偏,IF(多子擴(kuò)散),IR(少子漂移),反偏,反向飽和電流,反向擊穿電壓,反向擊穿,熱擊穿燒壞PN結(jié),電擊穿可逆,16,根據(jù)理論分析:,u 為PN結(jié)兩端的電壓降,i
6、 為流過PN結(jié)的電流,IS 為反向飽和電流,UT =kT/q 稱為溫度的電壓當(dāng)量,其中k為玻耳茲曼常數(shù) 1.381023 q 為電子電荷量1.6109 T 為熱力學(xué)溫度 對于室溫(相當(dāng)T=300 K) 則有UT=26 mV。,當(dāng) u0 uUT時,當(dāng) u|U T |時,17,4. PN結(jié)的電容效應(yīng),當(dāng)外加電壓發(fā)生變化時,耗盡層的寬度要相應(yīng)地隨之改變,即PN結(jié)中存儲的電荷量要隨之變化,就像電容充放電一樣。,(1) 勢壘電容CB,18,(2) 擴(kuò)散電容CD,當(dāng)外加正向電壓 不同時,PN結(jié)兩側(cè)堆積的少子的數(shù)量及濃度梯度也不同,這就相當(dāng)電容的充放電過程。,電容效應(yīng)在交流信號作用下才會明顯表現(xiàn)出來,極間電
7、容(結(jié)電容),19,1.2 半導(dǎo)體二極管,二極管 = PN結(jié) + 管殼 + 引線,結(jié)構(gòu),符號,20,二極管按結(jié)構(gòu)分三大類:,(1) 點接觸型二極管,PN結(jié)面積小,結(jié)電容小, 用于檢波和變頻等高頻電路。,21,(3) 平面型二極管,用于集成電路制造工藝中。 PN 結(jié)面積可大可小,用 于高頻整流和開關(guān)電路中。,(2) 面接觸型二極管,PN結(jié)面積大,用 于工頻大電流整流電路。,22,半導(dǎo)體二極管的型號,國家標(biāo)準(zhǔn)對半導(dǎo)體器件型號的命名舉例如下:,2AP9,23,一 、半導(dǎo)體二極管的VA特性曲線,硅:0.5 V 鍺: 0.1 V,(1) 正向特性,導(dǎo)通壓降,(2) 反向特性,死區(qū) 電壓,實驗曲線,硅:0
8、.7 V 鍺:0.3V,24,二. 二極管的模型及近似分析計算,例:,25,二極管的模型,串聯(lián)電壓源模型,U D 二極管的導(dǎo)通壓降。硅管 0.7V;鍺管 0.3V。,理想二極管模型,正偏,反偏,26,二極管的近似分析計算,例:,串聯(lián)電壓源模型,測量值 9.32mA,相對誤差,理想二極管模型,相對誤差,0.7V,27,例:二極管構(gòu)成的限幅電路如圖所示,R1k,UREF=2V,輸入信號為ui。 (1)若 ui為4V的直流信號,分別采用理想二極管模型、理想二極管串聯(lián)電壓源模型計算電流I和輸出電壓uo,解:(1)采用理想模型分析。,采用理想二極管串聯(lián)電壓源模型分析。,28,(2)如果ui為幅度4V的交
9、流三角波,波形如圖(b)所示,分別采用理想二極管模型和理想二極管串聯(lián)電壓源模型分析電路并畫出相應(yīng)的輸出電壓波形。,解:采用理想二極管 模型分析。波形如圖所示。,29,采用理想二極管串聯(lián)電壓源模型分析,波形如圖所示。,30,三. 二極管的主要參數(shù),(1) 最大整流電流IF,二極管長期連續(xù)工 作時,允許通過二 極管的最大整流 電流的平均值。,(2) 反向擊穿電壓UBR,二極管反向電流 急劇增加時對應(yīng)的反向 電壓值稱為反向擊穿 電壓UBR。,(3) 反向電流IR,在室溫下,在規(guī)定的反向電壓下的反向電流值。硅二極管的反向電流一般在納安(nA)級;鍺二極管在微安(A)級。,31,當(dāng)穩(wěn)壓二極管工作在反向擊
10、穿狀態(tài)下,工作電流IZ在Izmax和Izmin之間變化時,其兩端電壓近似為常數(shù),穩(wěn)定電壓,四、穩(wěn)壓二極管,穩(wěn)壓二極管是應(yīng)用在反向擊穿區(qū)的特殊二極管,正向同二極管,反偏電壓UZ 反向擊穿, UZ ,32,穩(wěn)壓二極管的主要 參數(shù),(1) 穩(wěn)定電壓UZ ,(2) 動態(tài)電阻rZ ,在規(guī)定的穩(wěn)壓管反向工作電流IZ下,所對應(yīng)的反向工作電壓。,rZ =U /I rZ愈小,反映穩(wěn)壓管的擊穿特性愈陡。,(3) 最小穩(wěn)定工作 電流IZmin,保證穩(wěn)壓管擊穿所對應(yīng)的電流,若IZIZmin則不能穩(wěn)壓。,(4) 最大穩(wěn)定工作電流IZmax,超過Izmax穩(wěn)壓管會因功耗過大而燒壞。,33,1.3 半導(dǎo)體三極管,半導(dǎo)體三極
11、管,也叫晶體三極管。由于工作時,多數(shù)載流子和少數(shù)載流子都參與運行,因此,還被稱為雙極型晶體管(Bipolar Junction Transistor,簡稱BJT)。 BJT是由兩個PN結(jié)組成的。,34,一.BJT的結(jié)構(gòu),NPN型,PNP型,符號:,三極管的結(jié)構(gòu)特點: (1)發(fā)射區(qū)的摻雜濃度集電區(qū)摻雜濃度。 (2)基區(qū)要制造得很薄且濃度很低。,35,二 BJT的內(nèi)部工作原理(NPN管),三極管在工作時要加上適當(dāng)?shù)闹绷髌秒妷骸?若在放大工作狀態(tài): 發(fā)射結(jié)正偏:,+ UCE , UBE , UCB ,集電結(jié)反偏:,由VBB保證,由VCC、 VBB保證,UCB=UCE - UBE, 0,36,(1)
12、因為發(fā)射結(jié)正偏,所以發(fā)射區(qū)向基區(qū)注入電子 ,形成了擴(kuò)散電流IEN 。同時從基區(qū)向發(fā)射區(qū)也有空穴的擴(kuò)散運動,形成的電流為IEP。但其數(shù)量小,可忽略。 所以發(fā)射極電流I E I EN 。,(2)發(fā)射區(qū)的電子注入基區(qū)后,變成了少數(shù)載流子。少部分遇到的空穴復(fù)合掉,形成IBN。所以基極電流I B I BN 。大部分到達(dá)了集電區(qū)的邊緣。,1BJT內(nèi)部的載流子傳輸過程,37,(3)因為集電結(jié)反偏,收集擴(kuò)散到集電區(qū)邊緣的電子,形成電流ICN 。,另外,集電結(jié)區(qū)的少子形成漂移電流ICBO。,38,2電流分配關(guān)系,三個電極上的電流關(guān)系:,IE =IC+IB,定義:,(1)IC與I E之間的關(guān)系:,所以:,其值的大
13、小約為0.90.99。,39,(2)IC與I B之間的關(guān)系:,聯(lián)立以下兩式:,得:,所以:,得:,令:,40,三. BJT的特性曲線(共發(fā)射極接法),(1) 輸入特性曲線 iB=f(uBE) uCE=const,(1)uCE=0V時,相當(dāng)于兩個PN結(jié)并聯(lián)。等同PN結(jié)的特性曲線,(3)uCE 1V再增加時,曲線右移很不明顯。,(2)當(dāng)uCE=1V時, 集電結(jié)已進(jìn)入反偏狀態(tài),開始收集電子,所以基區(qū)復(fù)合減少, 在同一uBE 電壓下,iB 減小。特性曲線將向右稍微移動一些。,41,(2)輸出特性曲線 iC=f(uCE) iB=const,現(xiàn)以iB=60uA一條加以說明。,(1)當(dāng)uCE=0 V時,因集
14、電極無收集作用,iC=0。,(2) uCE Ic 。,(3) 當(dāng)uCE 1V后,收集電子的能力足夠強。這時,發(fā)射到基區(qū)的電子都被集電極收集,形成iC。所以uCE再增加,iC基本保持不變。,同理,可作出iB=其他值的曲線。,42,輸出特性曲線可以分為三個區(qū)域:,飽和區(qū)iC受uCE顯著控制的區(qū)域,該區(qū)域內(nèi)uCE0.7 V。 此時發(fā)射結(jié)正偏,集電結(jié)也正偏。,截止區(qū)iC接近零的區(qū)域,相當(dāng)iB=0的曲線的下方。 此時,發(fā)射結(jié)反偏,集電結(jié)反偏。,放大區(qū) 曲線基本平行等 距。 此時,發(fā) 射結(jié)正偏,集電 結(jié)反偏。 該區(qū)中有:,飽和區(qū),放大區(qū),截止區(qū),43,四. BJT的主要參數(shù),1.電流放大系數(shù),(2)共基極
15、電流放大系數(shù):,一般取20200之間,2.3,1.5,(1)共發(fā)射極電流放大系數(shù):,44,2.極間反向電流,(2)集電極發(fā)射極間的穿透電流ICEO 基極開路時,集電極到發(fā)射極間的電流穿透電流 。 其大小與溫度有關(guān)。,(1)集電極基極間反向飽和電流ICBO 發(fā)射極開路時,在其集電結(jié)上加反向電壓,得到反向電流。它實際上就是一個PN結(jié)的反向電流。其大小與溫度有關(guān)。 鍺管:I CBO為微安數(shù)量級, 硅管:I CBO為納安數(shù)量級。,45,3.極限參數(shù),Ic增加時, 要下降。當(dāng)值下降到線性放大區(qū)值的70時,所對應(yīng)的集電極電流稱為集電極最大允許電流ICM。,(1)集電極最大允許電流ICM,(2)集電極最大允
16、許功率損耗PCM 集電極電流通過集電結(jié)時所產(chǎn)生的功耗, PC= ICUCE,PCM, PCM,46,(3)反向擊穿電壓,BJT有兩個PN結(jié),其反向擊穿電壓有以下幾種:, U(BR)EBO集電極開路時,發(fā)射極與基極之間允許的最大反向電壓。其值一般幾伏十幾伏。 U(BR)CBO發(fā)射極開路時,集電極與基極之間允許的最大反向電壓。其值一般為幾十伏幾百伏。, U(BR)CEO基極開路時,集電極與發(fā)射極之間允許的最大反向電壓。,在實際使用時,還有 U(BR)CER、U(BR)CES 等擊穿電壓。,47,1.4 三極管的模型及分析方法,UD=0.7V,UCES=0.3V,iB0 iC0,一. BJT的模型,
17、48,直流模型,49,二. BJT電路的分析方法(直流),1. 模型分析法(近似估算法)(模擬p5859),例:共射電路如圖,已知三極管為硅管,=40,試求電路中的直流量IB、 IC 、UBE 、UCE。,50,+ UBE ,+ UCE ,解:設(shè)三極管工作在放大狀態(tài),用放大模型代替三極管。,UBE=0.7V,51,2. 圖解法 模擬(p5456),iC=f(uCE) iB=40A,M(VCC,0),(12 , 0),(0 , 3),直流負(fù)載線,斜率:,UCEQ 6V,ICQ 1.5mA,Q,52,半導(dǎo)體三極管的型號,第二位:A鍺PNP管、B鍺NPN管、 C硅PNP管、D硅NPN管,第三位:X低
18、頻小功率管、D低頻大功率管、 G高頻小功率管、A高頻大功率管、K開關(guān)管,國家標(biāo)準(zhǔn)對半導(dǎo)體器件型號的命名舉例如下:,3DG110B,53,1.5 場效應(yīng)管,BJT是一種電流控制元件(iB iC),工作時,多數(shù)載流子和少數(shù)載流子都參與運行,所以被稱為雙極型器件。,場效應(yīng)管(Field Effect Transistor簡稱FET)是一種電壓控制器件(uGS iD) ,工作時,只有一種載流子參與導(dǎo)電,因此它是單極型器件。 FET因其制造工藝簡單,功耗小,溫度特性好,輸入電阻極高等優(yōu)點,得到了廣泛應(yīng)用。,54,一. 絕緣柵場效應(yīng)三極管,絕緣柵型場效應(yīng)管 ( Metal Oxide Semiconduc
19、tor FET),簡稱MOSFET。分為: 增強型 N溝道、P溝道 耗盡型 N溝道、P溝道,1.N溝道增強型MOS管 (1)結(jié)構(gòu) 4個電極:漏極D, 源極S,柵極G和 襯底B。,符號:,55,當(dāng)uGS0V時縱向電場 將靠近柵極下方的空穴向下排斥耗盡層。,(2)工作原理,當(dāng)uGS=0V時,漏源之間相當(dāng)兩個背靠背的 二極管,在d、s之間加上電壓也不會形成電流,即管子截止。,再增加uGS縱向電場 將P區(qū)少子電子聚集到 P區(qū)表面形成導(dǎo)電溝道,如果此時加有漏源電壓,就可以形成漏極電流id。,柵源電壓uGS的控制作用,56,定義: 開啟電壓( UT)剛剛產(chǎn)生溝道所需的 柵源電壓UGS。,N溝道增強型MOS
20、管的基本特性: uGS UT,管子截止, uGS UT,管子導(dǎo)通。 uGS 越大,溝道越寬,在相同的漏源電壓uDS作用下,漏極電流ID越大。,57,漏源電壓uDS對漏極電流id的控制作用,當(dāng)uGSUT,且固定為某一值時,來分析漏源電 壓VDS對漏極電流ID的影響。(設(shè)UT=2V, uGS=4V),(a)uds=0時, id=0。,(b)uds id; 同時溝道靠漏區(qū)變窄。,(c)當(dāng)uds增加到使ugd=UT時, 溝道靠漏區(qū)夾斷,稱為預(yù)夾斷。,(d)uds再增加,預(yù)夾斷區(qū) 加長, uds增加的部分基本降落在隨之加長的夾斷溝道上, id基本不變。,58,(3)特性曲線,四個區(qū): (a)可變電阻區(qū)(
21、預(yù)夾斷前)。,輸出特性曲線:iD=f(uDS)uGS=const,(b)恒流區(qū)也稱飽和 區(qū)(預(yù)夾斷 后)。,(c)夾斷區(qū)(截止區(qū))。,(d)擊穿區(qū)。,可變電阻區(qū),恒流區(qū),截止區(qū),擊穿區(qū),59,轉(zhuǎn)移特性曲線: iD=f(uGS)uDS=const,可根據(jù)輸出特性曲線作出移特性曲線。 例:作uDS=10V的一條轉(zhuǎn)移特性曲線:,UT,60,一個重要參數(shù)跨導(dǎo)gm:,gm=iD/uGS uDS=const (單位mS) gm的大小反映了柵源電壓對漏極電流的控制作用。 在轉(zhuǎn)移特性曲線上, gm為的曲線的斜率。 在輸出特性曲線上也可求出gm。,61,2.N溝道耗盡型MOSFET,特點: 當(dāng)uGS=0時,就有溝道,加入uDS,就有iD。 當(dāng)uGS0時,溝道增寬,iD進(jìn)一步增加。 當(dāng)uGS0時,溝道變窄,iD減小。,在柵極下方的SiO2層中摻入了大量的金屬正離子。所以當(dāng)uGS=0時,這些正離子已經(jīng)感應(yīng)出反型層,形成了溝道。,定義: 夾斷電壓( UP)溝道剛剛
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