TFTLCD顯示原理及工藝流程

1、公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 京東方光電科技有限公司京東方光電科技有限公司 產(chǎn)品技術(shù)部產(chǎn)品技術(shù)部 高文寶高文寶 tft-lcdtft-lcd顯示原理及基本構(gòu)成顯示原理及基本構(gòu)成 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ catalog tft-lcdtft-lcd基本構(gòu)成基本構(gòu)成 tft-lcd paneltft-lcd panel 驅(qū)動及控制電路驅(qū)動及控制電路 背光源及組件背光源及組件 tft-lcdtft-lcd基本工作原理基本工作原理 tft-lcd historytft-lcd

2、history 常白模式液晶顯示基本原理常白模式液晶顯示基本原理 tft-lcdtft-lcd液晶顯示器灰度和顏色顯示液晶顯示器灰度和顏色顯示 tft-lcdtft-lcd生產(chǎn)工藝流程生產(chǎn)工藝流程 tft-lcd arraytft-lcd array工藝流程工藝流程 tft-lcd celltft-lcd cell工藝流程工藝流程 tft-lcd mdltft-lcd mdl工藝流程工藝流程 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft-lcdtft-lcd的基本構(gòu)成的基本構(gòu)成 1. lcd屏屏 2. 驅(qū)動及控制電路驅(qū)動及控制電路

3、 3. 背光源及組件背光源及組件 1 2 3 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft-lcd tft-lcd 屏的構(gòu)成屏的構(gòu)成 1、上偏振片 2、陣列基板 tft開關(guān)器件 3、彩膜基板 r,g,b bm oc 4、液晶 5、取向膜 6、cf-ito 7、下偏振片 8、隔墊物 9、邊框膠、轉(zhuǎn)印電極 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft on array substrate cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部

4、學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft-lcd tft-lcd 彩膜基板彩膜基板 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft-lcd tft-lcd 彩膜基板制備彩膜基板制備 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ ps main ps : on tft sub ps : on gate dummy rgb main 1/6 & sub 1/3 total : 1/2 * cf dummy rgb : ps 無無 a b c 10um a b c 10um blue resin e

5、dge d red resin edge 4um 6um main ps sub ps active area dummy rgb cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 驅(qū)動和控制電路部分驅(qū)動和控制電路部分 1、時(shí)序控制器 2、柵驅(qū)動器 3、源驅(qū)動器 4、直流/直流 轉(zhuǎn)換器 5、灰度級電壓電路 6、pcb （x/y） 7、逆變器 8、接口 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ source driver source driver gate driver gate d

6、river lcd controller vga card source driver ic : 為驅(qū)動液晶提供電壓 gate driver ic : 為tft gate on/off供給電壓 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tcp (tape carrier package) cof (chip on film) cog (chip on glass) 外觀形態(tài)外觀形態(tài) 存在形式存在形式tcp的組裝狀態(tài)的組裝狀態(tài) 連續(xù)被卷入連續(xù)被卷入reel里里 cof的組裝狀態(tài)的組裝狀態(tài) 連續(xù)被卷入連續(xù)被卷入reel里里 bumped

7、chip狀態(tài)狀態(tài) 裝在裝在tray里里 安裝形態(tài)安裝形態(tài) 應(yīng)用應(yīng)用lcd驅(qū)動驅(qū)動 以生產(chǎn)大型以生產(chǎn)大型tft lcd為主為主 lcd驅(qū)動驅(qū)動 以生產(chǎn)大型以生產(chǎn)大型tft lcd為主為主 lcd驅(qū)動驅(qū)動 以生產(chǎn)小型以生產(chǎn)小型lcd為主為主 ic ic ic cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 背光源及結(jié)構(gòu)組件背光源及結(jié)構(gòu)組件 1、塑料框（塑料框（frame） 2、燈架燈架 3、反射板反射板 4、導(dǎo)光板導(dǎo)光板 5、集光板集光板 6、擴(kuò)散板擴(kuò)散板 7、散熱板散熱板 8、冷陰極管燈、冷陰極管燈 邊燈式 楔形（單側(cè)） direct blu

8、 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tftlcd history cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tftlcd history cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft-lcdtft-lcd陣列基板尺寸的演變陣列基板尺寸的演變 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 什么是液晶什么是液晶 液晶分子都是有序排列的，根據(jù)排列的不 同，

9、熱致液晶分為向列相、近晶相和膽甾 相三種液晶相 分子結(jié)構(gòu)：分子結(jié)構(gòu)： 在一定溫度范圍內(nèi)，既具有各項(xiàng)異性晶體所具有的雙折射性，又具有液體流動性的物質(zhì)狀態(tài)，被稱為液晶態(tài)。在一定溫度范圍內(nèi)，既具有各項(xiàng)異性晶體所具有的雙折射性，又具有液體流動性的物質(zhì)狀態(tài)，被稱為液晶態(tài)。 液晶態(tài)是介于晶體和液態(tài)之間的一種狀態(tài)，有人稱之為物質(zhì)的第四種形態(tài)。液晶態(tài)是介于晶體和液態(tài)之間的一種狀態(tài)，有人稱之為物質(zhì)的第四種形態(tài)。 側(cè)鏈環(huán)結(jié)構(gòu)端基 director f cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ . 光學(xué)異方性 (birefringence anisotro

10、py) : n = n- n n ncx = c / nx ne nx ny nz .電學(xué)異方性(dielectric anisotropy) : = - ff f f +正正-負(fù)負(fù) 電場 液晶的主要性質(zhì)液晶的主要性質(zhì) cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 常白模式液晶顯示基本原理常白模式液晶顯示基本原理 on off cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 偏光片的偏光性能偏光片的偏光性能 1. 1. normalnormal 偏光片偏光片 2. 2. wvwv 偏光

11、片偏光片3.3. pcfpcf 偏光片偏光片 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ pva tac 剝離 film 1.前處理2.拉伸&laminating 3.coating 4.截?cái)?.檢查6.包裝 保護(hù) film psa cutter 前處理拉伸lamicoatingcutting檢查 偏光片偏光片 制造工藝制造工藝 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 前處理工藝前處理工藝 管理 point 在tac film上進(jìn)行chemical etchin g處理, 使

12、其與偏光元件(pva)的粘著 力加強(qiáng) scratch tension 異物 工藝內(nèi)藝內(nèi)容 winding dry oven 設(shè)備設(shè)備主要數(shù)數(shù)據(jù) film 幅度: 1,330 mm etching水洗水洗中和 chemical etching unwinding tac film 偏光片偏光片 制造工藝制造工藝1 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 拉伸拉伸. .層合工藝層合工藝 管理管理 point工藝內(nèi)容工藝內(nèi)容 將pva膜用碘染著后拉伸5倍后并賦 予偏光特性,并將其支撐體的tac及 保護(hù) film合板的工藝 粘著的均一性 混

13、入異物 tension 及粘著力 設(shè)備設(shè)備主要數(shù)據(jù)數(shù)據(jù) film 幅度: 1330 mm dry o ven dry o ven tac fi lm pva fi lm 拉伸 pr ocess 保護(hù) f ilm 水洗水洗繃直 染著 補(bǔ)色 硼酸 windin g unwinding 偏光片偏光片 制造工藝制造工藝2 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ coating coating 工藝工藝 管理管理 point工藝內(nèi)容工藝內(nèi)容 剝離 pet 偏光片(半成品) 偏光片(完成品) dry oven coater 設(shè)備主要設(shè)備主要數(shù)數(shù)

14、據(jù) 粘著層的均一性 混入異物 粘著力及 tension film 幅度: 1,330 mm unwinding winding 為與glass粘貼的 粘著劑 coating 偏光片偏光片 制造工藝制造工藝3 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft-lcdtft-lcd液晶顯示器灰度顯示液晶顯示器灰度顯示 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ human eyeslcd gammahuman brain gray scale (level) tr. (%) + =

15、 gray scale (level) tr. (%) gray scale (level) tr. (%) sensitive to high brightness insensitive to low brightness linear compensation for hum an eyes r1/2.2r2.2r1 sensitive insensitive linear brightness vari ation 色域色域（color gamut） 顏色系統(tǒng)可以顯示或打印的顏色范圍 a. l*a*b* 色域 b. rgb 色域 c. cmyk 色域 cmyk到到rgb轉(zhuǎn)換個(gè)轉(zhuǎn)換個(gè)公式

16、公式: r=(k*c)/maxval g=(k*m)/maxval b=(k*y)/maxval cmyk 加色模式，用于印刷加色模式，用于印刷 gamma cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft-lcdtft-lcd液晶顯示器顏色顯示液晶顯示器顏色顯示 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tft-lcdtft-lcd液晶顯示器顏色顯示液晶顯示器顏色顯示 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 圖象

17、表示規(guī)格名稱解像度長寬比 color graphics adaptercga3202008:5 enhanced graphics adapterega64035064:35 video graphics arrayvga6404804:3 super vgasvga8006004:3 extended graphics arrayxga10247684:3 engineering work stationsparc115290032:25 super xgasxga128010245:4 ultra xgauxga160012004:3 high definition tvhdtv19201

18、08016:9 quadrable xgaqxga204815364:3 16svga320024004:3 液晶顯示器的圖象表示規(guī)格液晶顯示器的圖象表示規(guī)格 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ lcdlcd相關(guān)性能指標(biāo)相關(guān)性能指標(biāo) 1)分辨率分辨率 亮度的定義是指顯示器在白色畫面之下明亮的程度亮度的定義是指顯示器在白色畫面之下明亮的程度, ,單位單位cd/cd/ 對比度的對比度的crcr定義就是屏幕的純白色亮度和純黑色亮度的比值定義就是屏幕的純白色亮度和純黑色亮度的比值 響應(yīng)速度是指像素由亮轉(zhuǎn)暗并由暗轉(zhuǎn)亮所需的時(shí)間，單位毫秒。

19、響應(yīng)速度是指像素由亮轉(zhuǎn)暗并由暗轉(zhuǎn)亮所需的時(shí)間，單位毫秒。 響應(yīng)速度響應(yīng)速度=rising=rising（上升）（上升）+falling+falling（下降）（下降） 2)亮度亮度 3)對比度對比度 4)響應(yīng)速度響應(yīng)速度 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 可視角度就是指剛好可以看到可視角度就是指剛好可以看到crcr1010的畫面的時(shí)候視線與的畫面的時(shí)候視線與 垂直屏幕的平面的夾角。垂直屏幕的平面的夾角。 5)視角視角 單元開口率透光面積（單元開口率透光面積（a a）/ /象素面積（象素面積（b b） 6)開口率開口率 lcdl

20、cd相關(guān)性能指標(biāo)相關(guān)性能指標(biāo) cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ tn-lcdtn-lcd的主視角的主視角 tn-lcd的主視角方向在on on 狀態(tài)上狀態(tài)上位相差最小，即使改變看像素的方向 也是位相差最小的方向 (6點(diǎn)方向) x y z ab 12點(diǎn)方向 6點(diǎn)方向 6點(diǎn)方向 12點(diǎn)方向 d a b x y c/rc/r 左右對稱 上下不對稱 on 狀態(tài) cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ symmetric brightnesssymmetric brightn

21、ess asymmetric brightnessasymmetric brightnesslight leakagelight leakage discotic film: light leakage control at dark statediscotic film: light leakage control at dark state v vv v v v vth th v = vv = vop op bright statebright stategrey levelgrey leveldark statedark state e e 1 2 1=2 1 2 12 10 30 2

22、cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ offon lightlight light z offon lightlight light electric field metal z offon lightlight light rubbing direction rubbing direction lc cell structure cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ : s/d metal : gate metal : common ito : pixel ito

23、1d : ffs 2d : uffs tft ey rotational direction lc rubbing direction on state off state a p a yellowish color bluish color p same color after applied voltagafter applied voltag e e real pixel imagereal pixel image ffs pixel structure cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ reverse engineer

24、ing for competitor array design rule aperture ratio : cf cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ c/f design rule aperture ratio : bm open reverse engineering for competitor cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ competitiveness of final pixel tight tight high competitiveness l

25、ow cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ boeot layout : cutting align mark : stitch : src (canon mark), tv-aa : pdi (iso) : olb : teg for epm : process (resolution cd) : unit mark : tr : assy vernior : align mark : pad : seal slit cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ cw48

26、status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ gtm and htm cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ arrayarray工藝流程工藝流程 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ sputter cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ pecvd cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 曝光機(jī)曝光

27、機(jī) aligner cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ aligner cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 曝光光帶曝光光帶 ps 搭載搭載 glass進(jìn)行曝光進(jìn)行曝光 動畫動畫演示演示 五代線曝光機(jī)五代線曝光機(jī) mpa 7800 5510 (w) 6091 (l) 3349(h) weight : 26970 kg aligner cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ ip1 euvi/cetch#

28、1etch#2etch#3rinse1rinse2 a/k o/c op1 ip2左右op2 wet etch nozzle spray inner bath roller glass spray, dip, spray + dip nozzle bar nozzle rinse cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ dry etch pe 基板基板連接連接rf power電極電極 受基板和受基板和plasma之之間間的高的高電場電場的影的影響響，產(chǎn)產(chǎn)生高生高energy的的ion,etch靠靠ion進(jìn)進(jìn)行行 高高ion ener

29、gy會影響基板，進(jìn)而影響會影響基板，進(jìn)而影響film的特性的特性 因具有高因具有高energy，可在，可在metal etch, nitrid方面利用方面利用 基板基板不連接不連接rf電極電極 glass和和plasma potential的的電電位差不大，因位差不大，因plasma生成的生成的ion及及radical的的chemica l反反應(yīng)應(yīng)為為主要作用主要作用 ion的的energy低，低，對對film及基板基本不及基板基本不會產(chǎn)會產(chǎn)生生damage 適用于適用于damage少的少的channel etch (n+ etch)及及active layer etch rie cw48 s

30、tatus 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ cutting cell test pi coating vacuum aligner seal/tr module tfttft c/fc/f cleaningrubbing spacer/lc + + tft-lcdtft-lcd成盒工藝流程成盒工藝流程 cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 基板 取向?qū)?apr plate 版胴 doctor roll ( blade) anilox roll pi coating process cw

31、48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ 為了形成一定的為了形成一定的pretiltpretilt角，并且按照一定方向排列液晶分子，對基板上已經(jīng)印刷好的角，并且按照一定方向排列液晶分子，對基板上已經(jīng)印刷好的 polyimidepolyimide進(jìn)行摩擦，在進(jìn)行摩擦，在polyimidepolyimide上形成具有一定方向性溝痕的工藝上形成具有一定方向性溝痕的工藝 pi rubbing process cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ seal & tr process c

32、w48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ bm gate ps pi ito pi ito insulator+pvx bm ito pi ito ball sp acer insulator+pvx pi gate i. post spacer (column spacer, patterned spacer) ii. ball type spacer post spacerball type spacer shapepillar-shape(柱狀)ball shape(球狀) materialphoto resistsio2 adv

33、antagehigh brightnesslow cost disadvantagehigh costlow brightness manufacturingpattern by photo lithographyspray(散布分散) spacer cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ lc dropping process cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ cw48 status 公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！公司保密資料，僅供內(nèi)部學(xué)習(xí)，不得外傳！ t

34、acttact time time 比較比較 1st cut 0.2n/an/an/a pi print in-line0.51.01.0pi print in-line assy in-line0.51.51.5 assy & odf in-lin e hot press8.53.01.0 uv & thermal cur e 2nd cut 0.20.50.52nd cut lc filling10.010.0n/an/a end seal3.03.0n/an/a e/s cleaning & iso.3.33.3n/an/a pol attach in-line0.50.50.5pol attach in-line autoclave1.01.01.0auto clave total27.723.85.0total conventional process lead time(hr) odf processconventional process mother glass process odf cw48 status