場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書

1、附件：場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡技術(shù)標(biāo)書、設(shè)備用途掃描電鏡是一種多功能的儀器，的斷口分析、 材料的晶粒度分析、 進(jìn)行表面形貌的觀察及成分分析。 細(xì)晶材料尤其是納米材料的表征。廣泛地用于材料的微觀組織觀察、 微區(qū)成分分析、 材料 夾雜物分析及織構(gòu)表征等， 可對(duì)導(dǎo)電及不導(dǎo)電的固體材料 場(chǎng)發(fā)射電鏡能夠?qū)崿F(xiàn)更高分辨率的形貌觀察， 可實(shí)現(xiàn)對(duì)超 基于相關(guān)附件， 也可以對(duì)材料在溫度及應(yīng)力作用下的動(dòng)態(tài) 變化進(jìn)行原位觀察。儀器包括電子光學(xué)系統(tǒng)、 真空系統(tǒng)、 樣品室和樣品臺(tái)、探測(cè)器及成像系統(tǒng)、 圖像處理系 統(tǒng)、應(yīng)用軟件及數(shù)據(jù)處理軟件、 X 射線能譜分析儀 （EDS）、背散射電子衍射分析儀 （ EBSD）、 原位加熱臺(tái)。二、技

2、術(shù)參數(shù)1運(yùn)行環(huán)境1.1工作溫度：可以在 1525 環(huán)境溫度工作1.2 相對(duì)濕度：濕度小于 60%RH 時(shí)正常工作1.3工作電壓：在 220V（ 10%）、50Hz 電壓下，儀器可連續(xù)使用 2電子光學(xué)系統(tǒng)2.1電子槍： Schottky 場(chǎng)發(fā)射電子槍2.2 加速電壓： 0.2kV30KV ，步長(zhǎng) 10V 連續(xù)可調(diào)2.3 電子束流：束流連續(xù)可調(diào)，穩(wěn)定性優(yōu)于0.2%/h2.4放大倍數(shù)： 15倍100 萬倍2.5 工作距離： 550mm ，粗調(diào)、精調(diào)兩種模式2.6 物鏡：無漏磁物鏡，能有效觀測(cè)磁性樣品2.7 物鏡光闌：具備自清潔功能 3真空系統(tǒng)3.1 機(jī)械泵、分子泵、離子泵三級(jí)抽真空系統(tǒng)*3.2 真空

3、模式： 能夠滿足基本的成像、 分析的高真空模式， 同時(shí)滿足原位加熱臺(tái)等附件工作 的需要模式3.3 真空度：電子槍真空度優(yōu)于 10-7Pa、樣品室高真空優(yōu)于 10-4Pa3.4 抽真空時(shí)間：不高于 5min4檢測(cè)器及成像系統(tǒng)4.1 成像模式：背散射成像、二次電子成像、任意比例混合模式成像4.2檢測(cè)器：電子探測(cè)器不少于 3 個(gè)，鏡筒內(nèi)二次電子探測(cè)器 1 個(gè)，高靈敏度低電壓固體背 散射探測(cè)器 1 個(gè)4.3相機(jī)：樣品室紅外高清 CCD 相機(jī)4.4 檢測(cè)器分辨率*4.4.1 二次電子分辨率： 30kV 時(shí)小于 1.0nm 或 20kV 時(shí)小于 1.3nm， 1kV 時(shí)優(yōu)于 3.0 nm *4.4.2 背

4、散射電子分辨率： 30kV 時(shí)小于 2.5nm ，1kV 時(shí)優(yōu)于 3.0nm 5樣品室和樣品臺(tái)5.1樣品臺(tái)：自動(dòng)馬達(dá)驅(qū)動(dòng) 5軸以上 （X、Y、Z 、T 、R）*5.2 移動(dòng)范圍： X100mm、 Y 100mm 、Z 50mm、 T=-570 、R=360連續(xù)旋轉(zhuǎn)5.3 移動(dòng)精度：優(yōu)于 2m5.4 樣品室尺寸：內(nèi)徑不小于 300mm，高度不小于 200mm，可容納樣品直徑不小于 200mm5.5 樣品室有 EDS、EBSD 接口*5.6 可加配加熱臺(tái)和原位拉伸臺(tái)，加熱臺(tái)運(yùn)行時(shí)應(yīng)保證成像系統(tǒng)和 EBSD 能夠同步運(yùn)行6圖像處理系統(tǒng)6.1存儲(chǔ)分辨率：不低于 30002000 像素6.2 活動(dòng)窗口：

5、多個(gè)活動(dòng)窗口，可同時(shí)顯示背散射及二次電子圖像6.3 圖像格式： TIFF 、 BMP 、 JPEG等多種圖像格式6.4圖像幀數(shù)：不小于 256 幀，可降噪處理6.5 能夠進(jìn)行數(shù)字動(dòng)畫記錄6.6 具有圖像注釋、測(cè)量等圖像處理功能7控制和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)7.1 基于以太網(wǎng)架構(gòu)的數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng)7.2 軟件平臺(tái)適用于 windows 操作系統(tǒng)7.3 顯示器： 24”LED 顯示器8X 射線能譜分析儀（ EDS ）8.1 能量探測(cè)器：電制冷硅漂移探測(cè)器（ SDD）*8.2 有效采集面積： SDD 晶體有效活區(qū)面積不小于 30mm2，窗口有效面積不小于 20mm2， 可實(shí)現(xiàn)低電壓或者小束流條件下的高質(zhì)量、高效率

6、分析*8.3 探測(cè)器定位：探測(cè)器由馬達(dá)控制精確定位， 軟件可控，能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)和控制采集計(jì)數(shù)率， 保證不同樣品的數(shù)據(jù)重復(fù)性和測(cè)試條件重復(fù)性的目的*8.4能量分辨率： Mn K優(yōu)于 127eV，C Ka優(yōu)于50eV，F(xiàn) Ka優(yōu)于 60eV8.5 元素分析范圍：至少為 Be4U92*8.6 峰背比：優(yōu)于 20000:18.7譜峰穩(wěn)定性：分辨率變化在 1eV以內(nèi)， 48小時(shí)內(nèi)峰位漂移小于 1.5eV8.8 計(jì)數(shù)率：輸出最大計(jì)數(shù)率大于 800,000CPS，可處理最大計(jì)數(shù)率大于 1,500,000CPS 8.9具有輕元素定量分析和修正功能，可對(duì) Be、B、C、N 等進(jìn)行濃度定量檢測(cè)以及修正8.10 采集

7、界面：采用 32位和 64位雙系統(tǒng)，采集界面方便簡(jiǎn)單， 智能化設(shè)定參數(shù)，兼容原有 EBSD 數(shù)據(jù)，能實(shí)現(xiàn)能譜的采集與定量分析、線掃描及全息面掃描，包含常規(guī)面分布、定量 面分布和快速面分布、快速智能面分布等*8.11 定性分析：具備點(diǎn)、線、面掃描分析功能，可自動(dòng)和手動(dòng)進(jìn)行全譜元素譜峰識(shí)別，并 具有檢驗(yàn)重疊峰剝離準(zhǔn)確性以及合峰效應(yīng)的有效方法， 能夠分析夾雜和偏析等微量元素和微 量相8.12 定量分析：采用最先進(jìn)的修正技術(shù)和虛擬標(biāo)樣數(shù)據(jù)庫， 系統(tǒng)能夠自動(dòng)有效修正元素之間 的相互吸收，可對(duì)拋光表面或粗糙表面進(jìn)行點(diǎn)、線和面的分析，譜峰穩(wěn)定，數(shù)據(jù)重現(xiàn)性好， 不需要多元素校準(zhǔn)峰位。 具備方便的虛擬標(biāo)樣分析方

8、法， 且可以得到高級(jí)的非歸一化定量結(jié) 果，各元素定量誤差沒有相互干擾， 數(shù)據(jù)格式可以和電子探針等高級(jí)分析方式的數(shù)據(jù)直接對(duì) 應(yīng)；*8.13 智能軟件系統(tǒng)：中英文任意切換的軟件界面，能譜與電鏡一體化，可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)讀取和 控制電鏡參數(shù)，完整的離線能譜分析軟件，具備實(shí)時(shí)跟蹤能力和智能定性，定量分析能力，自動(dòng)漂移校正*8.14 低電壓分析： 在電鏡低電壓條件下能正常分析， 3KV 下可獲取輕元素的定性定量信息， 5KV 下具備虛擬標(biāo)樣數(shù)據(jù)庫，可實(shí)現(xiàn)全譜定性定量分析8.15 系統(tǒng)可靠性： 采用獨(dú)立的圖像采集處理器和波形采集處理器， 各自獨(dú)立封裝， 防止集成 式設(shè)計(jì)存在的故障可能點(diǎn)多、更換零部件成本高的問題8

9、.16 計(jì)算機(jī)：原裝工作站， CPU 四核，主頻高于 3 GHz，三級(jí)緩存不小于 8M ，內(nèi)存 32G， 硬盤 500G*2 ，可實(shí)時(shí)備份， 27” LCD顯示器，可刻錄 DVD 光驅(qū)8.17 配有彩色激光打印機(jī)8.18 與電鏡操作臺(tái)一體化風(fēng)格的原裝進(jìn)口實(shí)驗(yàn)臺(tái)9背散射電子衍射分析儀（ EBSD ）9.1與 EDS 一體化的用戶界面，所有應(yīng)用軟件均可在同一個(gè)平臺(tái)上打開，操作簡(jiǎn)單方便9.2 支持包括中文在內(nèi)的多種語言的智能能譜與EBSD 系統(tǒng)*9.3 能夠與能譜儀同時(shí)實(shí)現(xiàn)同步原位分析， EDS 面分布和 EBSD 面分布掃描能夠同時(shí)進(jìn)行， 并且任意切換圖片顯示9.4 可根據(jù)能譜數(shù)據(jù)對(duì) EBSD 花

10、樣進(jìn)行預(yù)過濾，實(shí)現(xiàn)對(duì)未知相的相鑒定*9.5 高靈敏度的 CCD 相機(jī)，焦距始終固定在熒光屏上，熒光屏和 CCD 相機(jī)像素對(duì)應(yīng)，像 素能完全利用，沒有縮錐比9.6 加速電壓 5V ，束流小于 100pA 時(shí)可采集到明顯的衍射花樣*9.7 直插式探頭，具備馬達(dá)自動(dòng)伸縮控制和防碰撞功能，能夠?qū)崟r(shí)顯示探頭位置*9.8 工作距離范圍： 具備專門的設(shè)計(jì)和接口， 可以在 540mm 范圍的任何 WD 位置進(jìn)行 EBSD 采集分析，充分靠近樣品而不遮擋能譜探頭9.9 在線解析速度高于 100 點(diǎn) /秒，可以記錄原始菊池花樣進(jìn)行離線二次標(biāo)定*9.10 在低束流條件下（ 5nA ），用單晶鎳（ Ni ）為標(biāo)樣，標(biāo)

11、定的成功率保證在 100% *9.11 取向測(cè)量精度：優(yōu)于 0.05 度的取向精準(zhǔn)度*9.12 花樣像素分辨率高于 134410249.13提供專用的由電子衍射獲得的 EBSD 晶體學(xué)數(shù)據(jù)庫，支持所有主要的第三方數(shù)據(jù)庫， 可分析不少于 6 萬種的晶體結(jié)構(gòu)，能方便自建數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入 CIF 數(shù)據(jù)9.14 背景扣除技術(shù)： 采用動(dòng)態(tài)和靜態(tài)扣除技術(shù)和自動(dòng)曝光設(shè)定， 可以自動(dòng)扣除包括單晶在內(nèi) 的 7 個(gè)晶系的各種材質(zhì)的背景花樣9.15 具備常用的 EBSD 分析功能，包括晶體結(jié)構(gòu)模擬、晶粒尺寸、極圖、ODF 、取向差、晶界分析等全部的表征，同時(shí)可以對(duì)材料的彈性模量、泰勒因子、施密特因子等進(jìn)行表征， 所有分

12、析功能全部集成在一個(gè)軟件平臺(tái)*9.16 核心算法和誤差評(píng)判技術(shù)：具備 4 條以上條帶一次標(biāo)定的核心算法，提高角分辨率， 可采用帶寬標(biāo)定技術(shù)改善相似相結(jié)構(gòu)的剝離準(zhǔn)確性， 自動(dòng)分析復(fù)雜材料和區(qū)分相似相， 每一 點(diǎn)的標(biāo)定誤差可以量化顯示和控制，且具備角度單位9.17 軟件具有智能相分布、智能跟蹤、智能數(shù)據(jù)復(fù)查、智能相機(jī)、智能背底處理、智能標(biāo)定 等功能9.18 具備透射 EBSD 分析專用算法，自動(dòng)修正透射菊池花樣畸變和中心偏移問題；具備能 譜儀輔助的 EBSD 物相鑒定功能，剝離相似的相結(jié)構(gòu)10原位加熱臺(tái)*10.1 Gatan 系列 Murano 525 熱臺(tái)*10.2 保護(hù)措施：帶有熱量屏蔽裝置，

13、對(duì)物鏡和樣品倉不產(chǎn)生明顯的熱影響，需有效保護(hù)電 鏡探測(cè)器，能夠使電鏡正常使用，并保證 EBSD 在加熱臺(tái)運(yùn)行時(shí)正常工作10.3 結(jié)構(gòu)：結(jié)構(gòu)緊湊，方便安裝和取出，可以方便地用于 EBSD 的幾何配置，同時(shí)保持適 當(dāng)?shù)墓ぷ骶嚯x*10.4 溫度控制： PID 自動(dòng)控制和手動(dòng)控制兩種模式，可存儲(chǔ)所有的加熱參數(shù)，能夠精確同步 EBSD 的面分布與溫度曲線10.5 加熱速度：最大加熱速度不小于 100/min10.6 溫度范圍：最高使用溫度在 950 以上*10.7 溫度精度： 0.510.8 溫度穩(wěn)定性： 1/h11配套設(shè)備11.1數(shù)據(jù)處理計(jì)算機(jī)一臺(tái)， 要求 CPU 主頻高于 3 GHz，內(nèi)存大于 8G

14、，硬盤容量大于 500G， 可刻錄 DVD 光驅(qū)， 24” LCD顯示器，操作系統(tǒng)采用 Microsoft Windows 7 系統(tǒng)11.2 離子濺射儀11.2.1 Cressington 108Auto 全自動(dòng)離子濺射儀 1 套11.2.2 靶材為鉑金11.2.3 可鍍最大樣品直徑大于 60mm11.2.4 鍍金速率大于 30nm/min11.2.5 鍍金顆粒小，鍍層均勻11.3 電解拋光儀11.3.1進(jìn)口品牌電解拋光儀 1 套11.3.2 輸出電壓： 0100V11.3.3 輸出電流： 020A11.3.4 溫度范圍：室溫 400，可恒溫控制11.3.5 可恒流和恒壓操作，負(fù)載調(diào)解率 0.

15、01%11.3.6 穩(wěn)定度：電壓 0.02%，電壓偏移 1mV ，電流 0.1%11.4 UPS穩(wěn)壓保護(hù)電源 1 套，整機(jī)供電不低于 2h，電子槍系統(tǒng)供電不低于 200h11.5備用場(chǎng)發(fā)射燈絲系統(tǒng) 1 套（燈絲 +光闌）11.6 空氣壓縮機(jī) 1 臺(tái)11.7 冷卻循環(huán)水機(jī) 1臺(tái)11.8 帶除濕功能的空調(diào)一部三、技術(shù)及售后服務(wù)發(fā)貨時(shí)間：合同生效后 6 個(gè)月內(nèi)。* 廠商要求：同款型號(hào)設(shè)備國內(nèi)用戶不低于30 家，同種品牌國內(nèi)用戶不低于 200 家。安裝驗(yàn)收： 賣方負(fù)責(zé)派技術(shù)員在買方確定的時(shí)間內(nèi)到設(shè)備現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行免費(fèi)的安裝、調(diào)試， 按驗(yàn)收指標(biāo)逐項(xiàng)測(cè)試至達(dá)到驗(yàn)收要求， 出具驗(yàn)收?qǐng)?bào)告， 由用戶確認(rèn)簽字， 完成儀器驗(yàn) 收工作。*人員培訓(xùn)：電鏡廠家需提供初級(jí)培訓(xùn)、中級(jí)培訓(xùn)和高級(jí)培訓(xùn)三級(jí)培訓(xùn)模式： 初級(jí)培訓(xùn)：安裝調(diào)試完畢后，馬上對(duì)用戶人員進(jìn)行初級(jí)培訓(xùn)。培訓(xùn)時(shí)間不少于 7 天， 培訓(xùn)內(nèi)容包括電鏡及附件的操作、電鏡及附件的日常維護(hù)、樣品觀測(cè)、 分析、 獲 取圖象。中級(jí)培訓(xùn)：儀器運(yùn)行一段時(shí)間后，針對(duì)用