礦體縱投影圖制作

1、礦體礦體(層層)垂直縱投影圖的制作垂直縱投影圖的制作 主講人：盧紀(jì)英 一概念 o 從五維給予描述礦體特征：礦體空間位置，礦 體三維形態(tài)，礦體內(nèi)部結(jié)，礦體質(zhì)量和礦體規(guī) 模。 o 投影圖的目的是為了從一個(gè)方向的二維空間 （某一側(cè)面），表征礦體空間位置、礦體結(jié)構(gòu)、 礦體形態(tài)、礦體產(chǎn)狀的變化、礦體側(cè)伏現(xiàn)象、 礦體的勘探程度等。有時(shí)也為了儲(chǔ)量計(jì)算之用。 投影圖可分三種：即垂直投影圖、水平投影圖 及平行礦體傾斜投影圖。 o 投影圖件是根據(jù)勘探線剖面圖及探礦工程資料 編制而成。 o 投影圖件編制首先確定兩個(gè)基本問(wèn)題：即投影圖件編制首先確定兩個(gè)基本問(wèn)題：即 投影基準(zhǔn)面及投影方法。投影基準(zhǔn)面及投影方法。 投影基

2、準(zhǔn)面的確定： 采用何種投影面制圖，主要取決于礦體(層)產(chǎn)狀 的陡緩。一般情形下，當(dāng)?shù)V體傾斜較陡時(shí)(例如 45)，適于作垂直投影圖，反之，適于作水 平投影圖。從理論上說(shuō)，當(dāng)?shù)V體傾斜中等(例如 45左右)，宜于作平行礦體傾斜投影圖，但實(shí) 際上，由于這種圖紙編制比較復(fù)雜，一般只有在 當(dāng)?shù)V體傾斜中等，尤其是構(gòu)成較為舒緩的波狀褶 曲，同時(shí)又必須利用投影圖作為儲(chǔ)量計(jì)算圖紙時(shí)， 才制作這種圖紙。 o 投影基準(zhǔn)面又分投影圖基準(zhǔn)面即被投影的理投影基準(zhǔn)面又分投影圖基準(zhǔn)面即被投影的理 想平面想平面(簡(jiǎn)稱(chēng)投影面簡(jiǎn)稱(chēng)投影面)及代表礦體特征的投影及代表礦體特征的投影 基準(zhǔn)曲面基準(zhǔn)曲面(礦體投影基準(zhǔn)面有兩種選擇：礦礦體投影

3、基準(zhǔn)面有兩種選擇：礦 體中心曲面或礦體底板曲面體中心曲面或礦體底板曲面)。 o 礦體投影基準(zhǔn)面有兩種選擇：礦體中心曲 面或礦體底板曲面：一般情形下，多投影 礦體底板(下盤(pán))曲面。當(dāng)投影礦體底板 (下盤(pán))曲面時(shí)，一切工程位置及構(gòu)造線、 地質(zhì)界線的投影均以它們截穿礦體底板 (下盤(pán))曲面的交點(diǎn)為準(zhǔn)。 o 衡量礦體的工程控制程度及勘探深度，是以工 程截穿礦體下盤(pán)(底板)的距離為準(zhǔn)。 o 當(dāng)?shù)V體形態(tài)變化非常復(fù)雜時(shí)，應(yīng)選擇產(chǎn)狀變化 比較穩(wěn)定的而作為礦體投影基準(zhǔn)面。例如，如 礦體中心曲面的產(chǎn)狀變化較下盤(pán)(底板)曲面為 穩(wěn)定時(shí)，應(yīng)選擇前者，或相反。無(wú)論投影那一 個(gè)基準(zhǔn)面，均應(yīng)在圖上或報(bào)告中加以說(shuō)明。 o 投影

4、方法：投影方法： 垂直投影圖及水平投影圖一般情形下多使用正垂直投影圖及水平投影圖一般情形下多使用正 投影法。有時(shí)在一定范圍需用走向投影。投影法。有時(shí)在一定范圍需用走向投影。 二礦體垂直縱投影圖圖面的內(nèi)容 o 二礦體垂直縱投影圖圖面的內(nèi)容 o 露頭線，標(biāo)高水平線，勘探線。 o (2)探礦工程及其編號(hào)其中鉆孔一般表示或所截 礦體(層) 底板標(biāo)高，見(jiàn)礦厚度、平均品位，鉆 孔見(jiàn)礦的礦心采取率。控制礦體邊界的工程。 o (3)各種礦體邊界的投影線、各儲(chǔ)量類(lèi)別、各儲(chǔ) 量級(jí)別的投影界線及代號(hào)、各種投影線分別以不 同圖例表示；礦體不同礦石類(lèi)型、品級(jí)和礦體 (層)氧化帶、混合帶、原生帶的界線，礦段、塊 段的界線

5、 。 o (4)礦段編號(hào)，礦段的平均厚度和平均品位、面 積（及編號(hào)）、體積（及編號(hào)）、儲(chǔ)量數(shù)字，以 上內(nèi)容可采用圖示或列表。 火成巖體與圍巖界限，破壞礦體(層)的主要 構(gòu)造線(帶)及各類(lèi)地質(zhì)界線(各種切割礦體的地 質(zhì)體)的投影線及編號(hào)或代號(hào)。 (6)儲(chǔ)量計(jì)算成果匯總表。 o (7)對(duì)部份薄而結(jié)構(gòu)復(fù)雜的礦體(層)，可在各工 程點(diǎn)旁側(cè)或下方附繪礦層小柱狀圖(比例尺1： 501：200)。 o (8)圖名，比例尺，圖例，圖簽，圖廓，投影面 方向。（座標(biāo)線可不表示） o 其它：如采空區(qū)等。 三礦體垂直縱投影圖（儲(chǔ)量估算用） 的編繪方法 o 1、編制原則 ：一般一個(gè)礦體作一份圖。當(dāng)?shù)V區(qū)具 有兩個(gè)以上礦體

6、(層)或不同的礦體(層)時(shí)，應(yīng)分別 編制投影圖。如兩個(gè)以上礦體畫(huà)在同一圖上時(shí)，以 清晰為原剛，否則分別制作，并須分別以不同圖例 表示各類(lèi)投影線及有關(guān)參數(shù)。注明礦體編號(hào)。 o 投影面方位，一般要求應(yīng)垂直于礦體的勘探線的方 向。即：一般為礦體的平均走向線方位。兩者不一 致時(shí)，以前者為主。投影面應(yīng)垂直于勘探線，以避 免編圖時(shí)工程定位的困難，并導(dǎo)致儲(chǔ)量計(jì)算不夠準(zhǔn) 確。 當(dāng)?shù)V體平均走向有變化，不得不采用二個(gè)以上的投影面方位以 便分別與兩組不同方向的勘探線正交時(shí)，在兩組勘探線交接 處的投影圖，一般要裂開(kāi)表示，當(dāng)?shù)V體為傾伏向斜時(shí)，裂口 向下，為傾伏背斜時(shí)，裂口向上。通?？砂聪率鲛k法處理： 當(dāng)交接處相鄰兩剖面

7、的勘探線交角小于3時(shí)，按平行剖面處理。 當(dāng)相鄰兩剖面交角大于3，小于10時(shí)，按下式確定地表及各水平剖面 圖上兩勘探線的間距H。 當(dāng)相鄰兩剖面交角大于10時(shí)，按下式確定地表及各水平剖面圖上兩勘探 線的間距： 式中：H1、H2為地表及各水平剖面圖上礦體走向變化處相鄰勘 探線橫截礦體部份的中點(diǎn)至另一勘探線的垂線長(zhǎng)； 兩勘探線之交角； 之弧度。 2 HH H 21 2 HH sin H 21 o 確定自地表及各不同水平切面圖上的H的數(shù) 值后，即可以確定裂口的幅度及形態(tài)，如圖 26。 o 當(dāng)投影圖不作為儲(chǔ)量計(jì)算用，或者雖作儲(chǔ) 量計(jì)算用，但情況特殊，例如：或者礦體厚 度及傾斜自地表至深部變化不大，或者不計(jì)

8、 算高級(jí)工業(yè)鍺量，或者雖計(jì)算高級(jí)工業(yè)儲(chǔ)量， 但礦體傾斜較陡而且變化不大時(shí)，裂口的表 示方法可以簡(jiǎn)化，即：按地表及最低水平或 礦體厚度最大部份(大致估計(jì)為礦體重心所在) 的水平的兩勘探線之間的距離(H1及H2)所確 定之點(diǎn)連成直線；或者以地表和各不同水平 剖面圖上的H的平均數(shù)代表兩勘探線間的統(tǒng)一 間距，在圖上不表示裂口。 2. 編繪方法 1）按比例尺繪制標(biāo)高線與勘探線，投影圖方位與勘探線方向正 交時(shí)，勘探線在圖上為鉛垂線，其在圖上的間距，即為勘探線 的實(shí)際間距。當(dāng)一組勘探線中夾有一條斜方位的勘探線時(shí)，該 勘探線與礦體投影基準(zhǔn)面的交切線在投影圖上的跡線，是一條 斜線。礦體傾斜愈緩，該斜線的斜度愈大

9、。一般可以用下列方 法之一得出： 依下列公式計(jì)算出偏斜勘探線在垂直投影圖上的傾伏角(即在投 影圖上，偏斜勘探線與水平標(biāo)高線之間的夾角)x： X=90 arctg 式中： 偏斜勘探線與垂直于投影面之勘探線之間的夾角； 礦脈垂直于投影面的平均傾角。 根據(jù)X，在投影圖上，通過(guò)偏斜勘探線與礦體投影基準(zhǔn)面的地表交 點(diǎn)，畫(huà)成斜線。 tg tg o 用作圖法：即在地表及不同水平剖面上，求 得礦體投影基準(zhǔn)面與該偏斜勘探線及其相鄰勘 探線的交點(diǎn)，如圖一25圖中、為正交 于投影面的勘探線，為偏斜勘探線，A、C、 B為在2500米水平上礦體投影基準(zhǔn)面分別與， ，勘探線的交點(diǎn)，ACB為平行礦體平均 走向方向線，CA為

10、C點(diǎn)至勘探線的垂直距離， 自水平剖面上求得C點(diǎn)，依CA落C點(diǎn)于垂直投 影圖的2500米水平，其他水平類(lèi)推，即得勘 探線的投影跡線。一般情形下，只按礦體平均 傾斜作一個(gè)水平剖面圖，取得該水平面上的交 點(diǎn)C，連結(jié)地表及該交點(diǎn)而取一直線，不必聯(lián) 成折線或曲線。 o (3)當(dāng)一組正交于投影面的勘探線間，連續(xù) 夾有兩條以上的斜交予投影面的勘探線，但 偏斜勘探線為數(shù)不多，影響不大，不足以采 取兩個(gè)以上的投影面方位時(shí)，一般處理方法 同(1)。但如用作圖法，由于偏斜勘探線較 多，容易出錯(cuò)，故作圖后，應(yīng)注意依各勘探 線沿投影面方向的間距(通過(guò)換算求得)進(jìn)行 檢查。 o 2）圖上的礦體(層)露頭線，可采用穿過(guò) 礦

11、體(層)中心厚而復(fù)雜的礦體(層)或礦體 (層)的底板薄而簡(jiǎn)單的礦體(層)的標(biāo)高點(diǎn) 及其連線投影確定。 o 礦體露頭線(即礦體投影基準(zhǔn)面與地形表面 的交切線)的畫(huà)法，有兩種： (1)將地表所見(jiàn)的礦體尖滅點(diǎn)，斷層、穿截礦體的地質(zhì)體以及地 表工程等分別截穿礦體投影基準(zhǔn)面的交點(diǎn)，按其標(biāo)高及其與正交 于投影面的勘探線的垂直間距，投影到投影圖上。 地形很復(fù)雜時(shí)，還須將礦體投影基準(zhǔn)面與地形變化點(diǎn)的交點(diǎn) 全部投影。參考地形地質(zhì)平面圖連結(jié)各點(diǎn)成一曲線，即為礦體露 頭線。這種方法用于：當(dāng)利用該圖為儲(chǔ)量計(jì)算圖紙，同時(shí)礦體投 影基準(zhǔn)面的地形曲線太復(fù)雜，地表工程較稀或者沒(méi)有控制礦體投 影基準(zhǔn)面地形變化的特點(diǎn)時(shí)使用之。

12、(2)用勘探線及各地表工程截穿礦體投影基準(zhǔn)面的各交點(diǎn)，按其 標(biāo)高及其與正交于投影面的勘探線間的垂直距離，投影到投影圖 上，連成折線。此法適用于：當(dāng)該圖不作儲(chǔ)量計(jì)算用，或雖作儲(chǔ) 量計(jì)算用，但礦體投影基準(zhǔn)面的地形曲線變化不大，地表工程可 以控制其地形變化特點(diǎn)，不致影響儲(chǔ)量計(jì)算成果太大時(shí)使用之。 無(wú)論使用哪種方法，為與深部線條相區(qū)別，礦體露頭線，應(yīng)自投影無(wú)論使用哪種方法，為與深部線條相區(qū)別，礦體露頭線，應(yīng)自投影 礦體尖滅點(diǎn)或最邊部的工程依走向向外切出一段地形線。礦體尖滅點(diǎn)或最邊部的工程依走向向外切出一段地形線。 o 3）當(dāng)投影盲礦體時(shí)，其地形曲線的處置，按下列）當(dāng)投影盲礦體時(shí)，其地形曲線的處置，按下

13、列 三種方式：三種方式： (1)不切地形曲線。這種方法，只有在礦體埋藏較深， 切取地形曲線，使圖紙內(nèi)容安排失調(diào)時(shí)方使用。 (2)投影礦體頂部垂直向上處的地形曲線，以示其頂部 的垂深。 (3)投影礦體投影基準(zhǔn)面沿傾斜向上的延展面與地表面 的交切線。這種方法使用于礦體埋深較淺，或者有必 要說(shuō)明礦體頂部及以上無(wú)礦部分的控制程度時(shí)，才使 用之。當(dāng)使用第(2)、(3)種方法時(shí)，應(yīng)在圖紙上加 以注明。 4）各類(lèi)工程及各種地質(zhì)界線的投影： o (1)凡是截穿礦體投影基準(zhǔn)面或其延展面的工程或 地質(zhì)界線，或說(shuō)明礦體勘探和控制程度的工程，都 應(yīng)投影到圖上，但對(duì)截穿礦體投影基準(zhǔn)面或其延展 面者，分別用不同圖例。 o

14、 (2)一般均按各工程或地質(zhì)界線與礦體投影基準(zhǔn)面 或其延展面的交點(diǎn)的標(biāo)高及其與正交于投影面的勘 探線間的垂直距離為準(zhǔn)，進(jìn)行投影定位。當(dāng)有斜交 于投影面的勘探線而交角又小于87時(shí)，與該勘 探線有關(guān)的深部工程或地質(zhì)界線的投影定位，可按 下列兩法處理： o 按標(biāo)高及由下式換算而得的間距按標(biāo)高及由下式換算而得的間距(d)，依投影圖上，依投影圖上 的偏斜勘探線，投影定位：的偏斜勘探線，投影定位： 式中：L有關(guān)工程至偏斜勘探線的垂直距離； 偏斜勘探線與投影面方位間的夾角。 但當(dāng)?shù)V體自淺而深傾角有變化時(shí)，按此法進(jìn)行的投影 定位不甚準(zhǔn)確，因此時(shí)偏斜勘探線在投影圖上的跡線， 實(shí)際上是一條曲線；當(dāng)傾角變化較大時(shí)，

15、準(zhǔn)確性較低， 傾角變化較小時(shí)，此種差異可忽略不計(jì)。 o 按解析法投影定位。按解析法投影定位。 sin L d o (3)沿脈坑道按實(shí)際標(biāo)高投影。根據(jù)坑道(中段) 地質(zhì)平面圖的資料，取其平行于投影面方向的投 影長(zhǎng)度及位置，以坑道頂板的地質(zhì)界線與礦體投 影基準(zhǔn)面的交點(diǎn)為準(zhǔn)。 o (4)礦體邊界線的投影參考礦體零點(diǎn)邊界及外邊 界線的圈定方法，但應(yīng)與勘探線剖面及水平剖面 圖或中段地質(zhì)平面圖相適應(yīng)。為圈定礦體(層)邊 界，要標(biāo)示出礦體(層)內(nèi)及礦體(層)邊緣未見(jiàn)礦 的探礦工程。 o (5)在投影圖上連接各種地質(zhì)界線及構(gòu)造線時(shí)， 應(yīng)研究各種地質(zhì)界線在地表的不同區(qū)間、不同深 度的產(chǎn)狀要素變化情況，必要時(shí)，根

16、據(jù)相鄰剖面 上工程揭露的情況編制若干輔助剖面圖(或草圖)。 o 連接地質(zhì)界線時(shí)，可用直線或平滑的曲線。 但構(gòu)造變動(dòng)部分，礦體投影基準(zhǔn)面因構(gòu)造變 動(dòng)而有重復(fù)或裂開(kāi)時(shí)，表示重復(fù)或裂開(kāi)的范 圍的兩條線應(yīng)互相適應(yīng)，如無(wú)依據(jù)，不得有 任意膨大或收縮的現(xiàn)象。地質(zhì)界線的推定部 分按與礦體相同的推定原則處理。 o (6)礦體上的第四系厚度線，一般情形下可忽 略不計(jì)，但當(dāng)?shù)谒南档貙雍穸容^大，足以影 響儲(chǔ)量計(jì)算成果時(shí)，應(yīng)標(biāo)出第四系厚度界線。 以每一地表工程的第四系平均厚度為準(zhǔn)，各 工程間的第四系厚度，以內(nèi)插法畫(huà)出。第四 系厚度界線應(yīng)與礦體露頭線相適應(yīng)。 o 5）. 礦體垂直縱投影圖圖面內(nèi)，礦體各儲(chǔ) 量級(jí)別塊段的編

17、號(hào)，一般分級(jí)別采取從上到 下、從左到右的原則進(jìn)行。 o 四儲(chǔ)量估算時(shí)，采用礦體垂直縱投影圖法 的條件。 o 1.礦體傾斜較陡，礦體傾角大于450。 o 2.礦體形態(tài)簡(jiǎn)單，變化不大的層狀，似層狀， 脈狀。 o 3.礦體產(chǎn)狀于走向上和傾向上變化較穩(wěn)定。 o 4.礦體主要用鉆探以勘探網(wǎng)勘查。 o o 附：縱剖面圖附：縱剖面圖 o 本圖的目的是說(shuō)明礦床沿走向或長(zhǎng)軸方向的地質(zhì)構(gòu) 造及礦體產(chǎn)狀、形態(tài)、規(guī)模等方面的變化情況，有 時(shí)也為了說(shuō)明礦體兩端或長(zhǎng)軸尖滅部分的控制程度。 需要而可能時(shí)，也可闡明沿縱剖面方向的礦石品級(jí) 及礦石類(lèi)型變化情況。一般在沿走向或長(zhǎng)軸方向有 比較復(fù)雜的地質(zhì)構(gòu)造或礦體地質(zhì)特征時(shí)，才有必要 制作，多用于盆形礦床、穹窿狀礦床及傾斜比較小 的礦床。 o 本圖一般有兩種情況，一是沿縱剖面有工程的圖， 如用正方形或菱形勘探網(wǎng)勘探的礦床，二是沿縱剖 面沒(méi)有工程的圖。兩種圖紙的編制方法，大同小異： 1縱剖面線為一條直線，必要時(shí)，也可以為 一條角度不大的折線。縱剖面線的選擇：對(duì) 于沿剖面線有工程的圖紙，應(yīng)選擇工程比較 多的線，對(duì)于沿剖面線無(wú)工程的圖紙，應(yīng)選 擇在勘探工程范圍，最好是勘探工程比較多 的范圍以內(nèi)。縱剖面的選擇還應(yīng)對(duì)沿走向或 長(zhǎng)軸方向的地質(zhì)構(gòu)造、礦體形態(tài)、產(chǎn)狀、規(guī) 模有代表性。 o 2沿縱剖面線要盡可能取得實(shí)測(cè)剖面資料。 o 3地形曲線從礦