![XPS分峰的分析實(shí)例_第1頁(yè)](http://file2.renrendoc.com/fileroot_temp3/2021-11/15/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d1/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d11.gif)
![XPS分峰的分析實(shí)例_第2頁(yè)](http://file2.renrendoc.com/fileroot_temp3/2021-11/15/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d1/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d12.gif)
![XPS分峰的分析實(shí)例_第3頁(yè)](http://file2.renrendoc.com/fileroot_temp3/2021-11/15/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d1/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d13.gif)
![XPS分峰的分析實(shí)例_第4頁(yè)](http://file2.renrendoc.com/fileroot_temp3/2021-11/15/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d1/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d14.gif)
![XPS分峰的分析實(shí)例_第5頁(yè)](http://file2.renrendoc.com/fileroot_temp3/2021-11/15/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d1/6d57ae1a-c8d3-40d7-8417-b661fe0750d15.gif)
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1、材料射線光電子能譜數(shù)據(jù)處理及分峰的分析實(shí)例例:將劑量為1´107ions/cm2,能量為45KeV的碳離子注入單晶硅中,然后在1100C退火2h進(jìn)行熱處理。對(duì)單晶硅試樣進(jìn)行XPS測(cè)試,試對(duì)其中的C1s高分辨掃瞄譜進(jìn)行解析,以確定各種可能存在的官能團(tuán)。分析過(guò)程:1、在Origin中處理數(shù)據(jù) 圖1 將實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)用記事本打開(kāi),其中C1s表示的是C1s電子,299.4885表示起始結(jié)合能,-0.2500表示結(jié)合能遞減步長(zhǎng),81表示數(shù)據(jù)個(gè)數(shù)。從15842開(kāi)始表示是光電子強(qiáng)度。從15842以下數(shù)據(jù)選中Copy到Excel軟件B列中,為光電子強(qiáng)度數(shù)據(jù)列。同時(shí)將299.4885C
2、opy到Excel軟件A列中,并按照步長(zhǎng)及個(gè)數(shù)生成結(jié)合能數(shù)據(jù),見(jiàn)圖2圖2將生成的數(shù)據(jù)導(dǎo)入Origin軟件中,見(jiàn)圖3。圖3此時(shí)以結(jié)合能作為橫坐標(biāo),光電子強(qiáng)度作為縱坐標(biāo),繪出C1s譜圖,檢查譜圖是否有尖峰,如果有,那是脈沖,應(yīng)把它們?nèi)サ?,方法為點(diǎn)Origin 軟件中的Data-Move Data Points,然后按鍵盤上的¯或箭頭去除脈沖。本例中的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)沒(méi)有脈沖,無(wú)需進(jìn)行此項(xiàng)工作。將column A和B中的值復(fù)制到一空的記事本文檔中(即成兩列的格式,左邊為結(jié)合能,右邊為峰強(qiáng)),并存盤,見(jiàn)圖4。圖42、打開(kāi)XPS Peak,引入數(shù)據(jù):點(diǎn)Data-Import(ASCII),
3、引入所存數(shù)據(jù),則出現(xiàn)相應(yīng)的XPS譜圖,見(jiàn)圖5、圖63、選擇本底:點(diǎn)Background,因軟件問(wèn)題, High BE和Low BE的位置最好不改,否則無(wú)法再回到Origin,此時(shí)本底將連接這兩點(diǎn),Type可據(jù)實(shí)際情況選擇,一般選擇Shirley 類型,見(jiàn)圖7。圖74、加峰: 點(diǎn)Add peak,出現(xiàn)小框,在Peak Type處選擇s、p、d、f等峰類型(一般選s),在Position處選擇希望的峰位,需固定時(shí)則點(diǎn)fix前小方框,同法還可選半峰寬(FWHM)、峰面積等。各項(xiàng)中的constraints可用來(lái)固定此峰與另一峰的關(guān)系。點(diǎn)Delete peak可去掉此峰。然后再點(diǎn)Add peak選第二個(gè)
4、峰,如此重復(fù)。 在選擇初始峰位時(shí),如果有前人做過(guò)相似的實(shí)驗(yàn),可以查到相應(yīng)價(jià)鍵對(duì)應(yīng)的峰位最好。但是如果這種實(shí)驗(yàn)方法比較新,前人沒(méi)有做過(guò)相似的,就先用標(biāo)準(zhǔn)的峰位為初始值。最優(yōu)化所有的峰位,然后看峰位位置的變化。本例中加了三個(gè)峰,C元素注入單晶硅后可能形成C-C、C-Si和C-H三個(gè)價(jià)鍵。根據(jù)這三個(gè)價(jià)鍵對(duì)應(yīng)的結(jié)合能確定其初始峰位,然后添加。具體過(guò)程見(jiàn)圖8、9、10。圖8圖9圖105、擬合。選好所需擬合的峰個(gè)數(shù)及大致參數(shù)后,點(diǎn)Optimise region進(jìn)行擬合,觀察擬合后總峰與原始峰的重合情況,如不好,可以多次點(diǎn)Optimise region。最終擬合結(jié)果見(jiàn)圖11。圖116、參數(shù)查看。擬合完成后,
5、分別點(diǎn)另一個(gè)窗口中的Rigion Peaks下方的0、1、2等可看每個(gè)峰的參數(shù),此時(shí)XPS峰中變紅的為被選中的峰。如對(duì)擬合結(jié)果不region滿意,可改變這些峰的參數(shù),然后再點(diǎn)Optimise。7、點(diǎn)擊Save XPS存圖,下回要打開(kāi)時(shí)點(diǎn)Open XPS就可以打開(kāi)這副圖繼續(xù)進(jìn)行處理。8、數(shù)據(jù)輸出。 點(diǎn)擊DataPrint with peak parameters,可打印帶各峰參數(shù)的譜圖,通過(guò)峰面積可計(jì)算此元素在不同峰位的化學(xué)態(tài)的含量比。點(diǎn)擊DataExport to clipboard,則將圖和數(shù)據(jù)都復(fù)制到了剪貼板上,打開(kāi)文檔(如Word文檔),點(diǎn)粘貼,就把圖和數(shù)據(jù)粘貼過(guò)去了。 點(diǎn)擊DataEx
6、port (spectrum),則將擬合好的數(shù)據(jù)存盤,然后在Origin中從多列數(shù)據(jù)欄打開(kāi),則可得多列數(shù)據(jù),并在Origin中作出擬合后的圖。XPS能譜數(shù)據(jù)處理王博 呂晉軍 齊尚奎能譜數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化成ASC碼文件后可以用EXCEL、ORIGIN等軟件進(jìn)行處理。這篇文章的目的是向大家介紹用ORIGIN軟件如何處理能譜數(shù)據(jù),以及它的優(yōu)勢(shì)所在。下面將分三部分介紹如何用ORIGIN軟件處理能譜數(shù)據(jù):1、多元素譜圖數(shù)據(jù)處理 2、剖面分析數(shù)據(jù)處理 3、復(fù)雜譜圖的解疊一、多元素譜圖的處理: 1、將ASC碼文件用NOTEPAD打開(kāi):元素名稱X軸起始點(diǎn)采集的數(shù)據(jù)點(diǎn)總數(shù)X軸步長(zhǎng)Y軸數(shù)值 2、復(fù)制Y軸數(shù)值。打開(kāi)ORIGI
7、N,將Y軸數(shù)據(jù)粘貼到B(Y):3、如圖:點(diǎn)擊工具欄plot,選擇line4、出現(xiàn)下圖:點(diǎn)擊B(Y),再點(diǎn)擊<->Y,使B(Y)成為Y軸數(shù)據(jù)。然后在“set X values”中輸入起始值和步長(zhǎng)。5、點(diǎn)擊OK,得到下圖:6、利用ORIGIN提供的工具可以方便的進(jìn)行平滑、位移。A. 位移:1)如圖:選擇analysisàtranslateàvertical或horizontal可以進(jìn)行水平或垂直方向的位移。我們以水平位移為例進(jìn)行講解。2)在圖中雙擊峰頂,如圖示(小窗口給出的是此點(diǎn)的X,Y值) 3)然后在圖中單擊其他位置找到合適的X值(小窗口給出的是紅十字的X,Y值)
8、 4)雙擊紅十字的位置,峰頂就會(huì)位移到此處:位移可以反復(fù)多次的進(jìn)行,垂直方向的位移和水平方向的一樣。B、平滑1)如圖選擇:2)出現(xiàn)下面的小窗口3)點(diǎn)擊settings出現(xiàn)下面的界面(如果想用平滑后的代替原始的,選擇”replace original”,如果想重新做圖選”add to worksheet”,下面的數(shù)值不用改變)4)點(diǎn)擊operation,選擇savizky-golay進(jìn)行平滑。得到下圖: 二、剖面分析數(shù)據(jù)處理:1、用寫字板打開(kāi)ASC碼文件,選取所需要的元素Y軸數(shù)據(jù)起始值及步長(zhǎng)元素名稱剖面分析中的CYCLE 數(shù) 2、打開(kāi)ORIGIN軟件,如圖示:選擇columnàadd
9、new columns 如果你的數(shù)據(jù)有九個(gè)cycle那么你要在下面的窗口選擇8。然后在B(Y).J(Y)中依次輸入不同cycle的Y軸數(shù)值點(diǎn)擊圖中下方工具欄的waterfallwaterfall然后在下圖中先輸入X軸起始值及步長(zhǎng),再將Y值輸入(點(diǎn)擊B(Y),然后按住SHIFT鍵不放,再點(diǎn)擊最后一個(gè)Y值選項(xiàng):如E(Y),松開(kāi)SHIFT 鍵,點(diǎn)擊ADD 鍵。點(diǎn)擊OK得到下圖:顏色代表字母,對(duì)應(yīng)于cycle數(shù)前后翻轉(zhuǎn)工具,用上法作圖,得到的譜圖需翻轉(zhuǎn)選項(xiàng)X OFFSET 決定視角,Y OFFSET 決定兩條譜線間距譜圖修改工具欄應(yīng)用修改工具得:(X OFFSET 設(shè)為0,Y OFFSET 設(shè)為100
10、)注意譜線對(duì)應(yīng)的CYCLE數(shù)如果想要得到其中某一個(gè)cycle的譜圖,只要調(diào)出原來(lái)的worksheet(數(shù)據(jù)表),再次點(diǎn)擊waterfall。輸入X軸數(shù)據(jù),然后只選一組Y軸數(shù)據(jù)(和多元素分析一樣),就可以了。注:不同樣品同種元素比較也可以用此種方法三、譜圖解疊:和多元素分析步驟一樣,經(jīng)過(guò)平滑、位移,得到下圖:(注:畫圖時(shí),先輸入X軸步長(zhǎng)等,再輸入Y軸數(shù)據(jù))1、 去本底:選擇toolsàbaseline2、 出現(xiàn)下面的窗口,選擇baseline,將number of points后的參數(shù)改小一些,比如2,點(diǎn)擊create baseline4、出現(xiàn)下圖:選擇小窗口中的modify:5、拖動(dòng)
11、每一點(diǎn)到合適的位置(點(diǎn)住鼠標(biāo)左鍵不放一直拖到合適的位置):如圖6、然后選擇substract得到7、分別點(diǎn)擊X軸、Y軸將坐標(biāo)更換為原來(lái)順序和數(shù)值:8、如圖:選擇analysisàFit multi-peaksàgaussian9、出現(xiàn)下面的窗口:按需要擬合的子峰個(gè)數(shù)輸入10、點(diǎn)擊ok,得到:11、點(diǎn)擊OK默認(rèn)選擇,根據(jù)譜圖的形狀雙擊選擇子峰位置(紅十字代表峰頂):如圖12、剛才設(shè)置為兩個(gè)子峰,所以雙擊兩個(gè)位置,這時(shí)電腦自動(dòng)計(jì)算出相關(guān)數(shù)據(jù):如果想要看擬合后的曲線,需激活(調(diào)出)譜圖窗口。然后,選擇analysisànon liner curve fit 如圖:13、得到:14、上圖不合理,兩子峰半峰寬相差太大,需要加入新的子峰進(jìn)行調(diào)整。點(diǎn)擊下圖中more按鈕15、出現(xiàn)下圖:更改為2增加一個(gè)子峰,依次類推點(diǎn)擊此按鈕出現(xiàn)此圖界面16、選擇basic modeàstart fitting回到原界面,點(diǎn)擊1 lter和10 lter 直到出現(xiàn)新的子峰峰位置、半峰寬和面積17、上圖明顯也不合理,調(diào)節(jié)小窗口中各個(gè)子峰的數(shù)值 18、然后點(diǎn)擊下圖中done按鈕,再次選擇analysisànon-linear curve fit,反復(fù)修改直到得到滿意的譜圖多元素分析注意事項(xiàng):l 不能
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