超微細(xì)研磨技術(shù)在奈米科技上的應(yīng)用

1、超威細(xì)研磨技術(shù)在奈米科技上之應(yīng)用傳統(tǒng)型之研磨機(jī)因受限于研磨室內(nèi)之熱交換只旅研磨室表而之熱夾套層來(lái)做熱交換， 因此半研磨室之大小從實(shí)驗(yàn)型放大到量產(chǎn)型時(shí)，熱交換面枳之放大比例因無(wú)法與研磨室體 積之放大比例均一，導(dǎo)致無(wú)法將實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)所得到之結(jié)果等比例地放大到量產(chǎn)型之機(jī) 臺(tái)。同時(shí)，對(duì)于對(duì)溫度較敏感或奈米級(jí)材料之應(yīng)用.往往因熱交換而枳無(wú)法隨研磨室之體 枳等比例放大，導(dǎo)致其最產(chǎn)型研磨機(jī)之產(chǎn)能無(wú)法等比例放大，其至質(zhì)量因研磨室內(nèi)所承受 之動(dòng)力密度不夠而無(wú)法達(dá)到要求。本文所介紹之新一代雙缸型設(shè)計(jì)之研磨機(jī)則將研磨室之 體積縮小，并增加熱交換面枳且使其與研磨室之體積成固定比例，如此不管研磨室之體枳 大小為何，其熱

2、交換而積與研磨室大小成固定比例.可使單位研磨室體積之動(dòng)力密度不受 研磨室大小之影響，達(dá)到實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)之研發(fā)結(jié)果與量產(chǎn)型研磨機(jī)在同一質(zhì)量卜之產(chǎn)能等 比例放大之目的，同時(shí)對(duì)于較難分散研磨或?qū)囟容^敏感之應(yīng)用及奈米級(jí)材料之分散研磨 皆能運(yùn)用無(wú)礙。關(guān)鍵訶：傳統(tǒng)型研磨機(jī)(Conventional full space agitation mills)> 放大(Scaleup)、奈米級(jí) *才料(Nano-size material)動(dòng)力密度(Power density)>新一代雙缸型喪計(jì)之亦磨 機(jī)(Double cylindrical annular gap mills)引言隨著3C產(chǎn)品之輕、

3、薄、短小化及奈米尺度材料應(yīng)用之白熱化，如何將超威細(xì)研磨技 術(shù)應(yīng)用于奈米材料之制作及分散研磨己成為當(dāng)卜之重要課題。傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)所需之染料、涂料 及油墨之產(chǎn)品粒徑需求只到微米級(jí)，所需之分散研磨技術(shù)門坎較低，同時(shí)伏I為該產(chǎn)品之單 價(jià)較低，所以研發(fā)較不受到重視。但目前國(guó)內(nèi)上述大部分之傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)業(yè)者己逐漸將其產(chǎn)品 從傳統(tǒng)之微米級(jí)尺寸產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域轉(zhuǎn)型到高科技所需之之奈米級(jí)尺寸產(chǎn)品所需之材料，如 薄膜型液晶顯示器(TFT LCD)所需之彩色光阻(color resist).打印機(jī)所需之噴墨(je【 inks).被動(dòng)組件、光電產(chǎn)業(yè)及生化產(chǎn)業(yè)所需之奈米級(jí)材料等，因上述高科技所需之奈米 級(jí)尺寸之材料單價(jià)較高，每公斤約為

4、數(shù)千到數(shù)萬(wàn)元，且不同產(chǎn)品或廠家所需之規(guī)格亦不 同，所以研發(fā)便成為產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型之重要課題。但由于傳統(tǒng)型設(shè)計(jì)之單缸型研僭機(jī)受限于熱交換只來(lái)自于研磨室表而之熱夾套層，故 對(duì)丁不同研磨室體積之研磨機(jī)之產(chǎn)能無(wú)法滿足線性放大之需求。相反地，本文所介紹之新 一代雙缸型設(shè)計(jì)之研磨機(jī)則將研磨室之體枳縮小，并增加熱交換面積口使其與研磨室之體 枳成固定比例，如此不管研磨室之體枳大小為何，其熱交換面枳與研磨室大小成固定比 例，可使單位研磨室體積之動(dòng)力密度不受研磨室大小之影響，達(dá)到實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)之研發(fā)結(jié) 果與量產(chǎn)型研磨機(jī)在同一質(zhì)量卜之產(chǎn)能等比例放大之目的，同時(shí)對(duì)于較難分散研磨或?qū)?度較敏感之應(yīng)用及奈米級(jí)材料之分散研磨皆能運(yùn)

5、用無(wú)礙，本文將詳細(xì)地對(duì)上述之論點(diǎn)做一 報(bào)告并以實(shí)例來(lái)說(shuō)明11 輸入比能量(Mass specific energy input)與動(dòng)力密 1(power density)之定義11輸入之比能量：一般而言，研磨機(jī)之研磨或分散效果為 比能最之函數(shù)，即研磨之品質(zhì)=f (比能量)1為以連續(xù)式操作方式(tluouglifeed ope i a (ion mode)而言，比能帚之計(jì)算方式為單位 重量之漿料于經(jīng)過(guò)研磨室分散研磨時(shí)每小時(shí)所受到之有效消耗動(dòng)力，即-POPPO(P-MrL研磨機(jī)馬達(dá)之消耗動(dòng)力 未加磨球時(shí)，研磨機(jī)馬達(dá)之消耗動(dòng)力 研磨室內(nèi)有效消耗動(dòng)力 流量EmkWlvl比能量，即每噸漿料每小時(shí)所消耗之

6、有效動(dòng)力當(dāng)以循環(huán)式操作(lecuculatioii opeiatmg mode)時(shí)，比能量Z計(jì)算為口啟動(dòng)研磨機(jī) 后到停機(jī)時(shí)之總累積消耗之有效動(dòng)力除以漿料之批次量，即GrindingEm, Recirculation+(PP°)dt032#若己從實(shí)驗(yàn)型機(jī)臺(tái)得到某漿料達(dá)到某質(zhì)量所需之比能量，則可以卜列方式得到重復(fù)Z 質(zhì)量：當(dāng)以連續(xù)式方式操作時(shí):PP_廠廠om Prod.Pass_匚m當(dāng)以循環(huán)式方式操作時(shí)：tGnndmg+ (pp°)dt°m _ _om Prod,Recicubtion 匚 .I Grinding匕 m 丫 Grinding由上可知，每單位時(shí)間之產(chǎn)能與

7、該研磨室所承受之有效消耗動(dòng)力成正比，但此關(guān) 系只適用于當(dāng)研磨機(jī)在合理的參數(shù)操作下方可成立。限于篇幅，本文不再對(duì)此做更深 一步探討。1.2研磨室所承受之動(dòng)力密度(Power density in the grinding chamber)：在分散及研磨的 應(yīng)用實(shí)例中，有很多應(yīng)用的質(zhì)量要求唯有在單位體積之研磨室在受到某一程度之動(dòng)力強(qiáng)度時(shí)方可達(dá)到。以定量來(lái)分析，若以Pv來(lái)表示單位體枳研磨室所受到之動(dòng)力消耗，即Pv =P嘰63#Pv =kW/1動(dòng)力密度Vmr =1 研磨室體積則本文往后所述之高動(dòng)力密度之定義如F：7Pv 8 2kW/l例如卜列針對(duì)奈米尺度材料之要求或溫度很敏感或之應(yīng)用，除作在高動(dòng)力密度

8、條 件卞來(lái)分散研磨，否則很困難達(dá)到所欲之質(zhì)量要求。D于分散研磨過(guò)程中，漿料溫度不得超過(guò)口需將顏料研磨到20-80 1U)奈米級(jí) 之粒徑，以期達(dá)到故佳之透明度、色濃度或光澤之要求，如彩色光阻、噴墨,.，于分散研磨過(guò)程中，漿料溫度不得超過(guò)35-40°C,且需將水性之顏料分散研磨并達(dá) 到最大之色濃度。D于分散研磨過(guò)程中，漿料溫度不得超過(guò)50°C. 口需將印刷油墨之色膏分散研僭到 色片等級(jí)之色澤及透明度要求之油墨。于分散研磨過(guò)程中，漿料溫度不得超過(guò)40。0 II需將碳黑分散研磨成色膏以應(yīng)用 于工業(yè)用或汽車用之表面漆，并達(dá)到最高之質(zhì)最要求。D于分散研磨過(guò)程中，漿料溫度不得超過(guò)45七之

9、靠紫外線熟化型(UVYinmg)之印刷 油墨色骨。2.傳統(tǒng)型研磨機(jī)于不同研磨室尺寸放大時(shí)所遇到之因難2.1動(dòng)力密度與研磨室大小之關(guān)系：如圖一所示，傳統(tǒng)型研磨機(jī)之原理為幫浦(pump)將 漿料從研磨室之一端打入研磨室內(nèi)，研磨室內(nèi)之?dāng)嚢鑶卧掷m(xù)地打動(dòng)磨球，使磨球在研磨室內(nèi)均勻地運(yùn)動(dòng)，漿 料于研磨室內(nèi)的移動(dòng)過(guò)程中，依流量或黏滯性(MSCOSltV)大小不同而打磨球產(chǎn)生不 同大小之剪切力以產(chǎn)生分散研磨之效果，當(dāng)然為了避免磨球流出研磨室，在研磨室 的另一端設(shè)計(jì)有濾網(wǎng)以避免磨球跑出研磨室。#cm,門圖一傳統(tǒng)型研磨機(jī)之示意圖傳統(tǒng)之研磨機(jī)中只能旅研磨室外層之熱夾套層作熱交換，通常此型之研磨機(jī)于 研磨空體積較小

10、時(shí)。如實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)之研磨室1 L,要達(dá)到對(duì)溫度敏感口較難分散 研磨之漿料要求，Pv = 2kW/l.或許沒(méi)有問(wèn)題，但一旦欲將實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)之研磨機(jī) 參數(shù)放大到量產(chǎn)機(jī)型時(shí)則產(chǎn)生問(wèn)題，理由如下： d 1其研磨室熱夾套層之熱交換而枳為8研磨室體積（忽略攪拌單元體枳）為”2910Vmr = 14所以每單位研磨室體積之熱交換而積為= 4VR d因此當(dāng)研磨室之直徑越大時(shí)，其單位研磨室體積之熱交換面積越小。由此町知此型之研磨機(jī)，當(dāng)研磨室體積越大或研磨室長(zhǎng)度越短時(shí)，其熱交換效果越差。假設(shè)1/d為常數(shù)時(shí)，從式 得Sk<d2及從式（9）可得Vmr-/故可推得SO/11假設(shè)實(shí)驗(yàn)機(jī)型之熱交換而積為研嗜室體枳為若利

11、用該實(shí)驗(yàn) 型研磨機(jī)之規(guī)格，于放大到量產(chǎn)機(jī)臺(tái)后之研磨室之熱交換面積為skprod,其研磨室 大小為VMR, prod， 則從公式（11）可延伸出下列公式：23S&Prod = Spjot *R. Prod12(F Po)Prod = (F _ Po)Pxlot *2314MRPilot由上可知，當(dāng)研磨室體積放大10倍時(shí)，從式(12)可得知熱交換面枳只能放 大1023 = 4.6 fg,為了避免漿料溫度上升，動(dòng)力密度必然只能增加4.6倍而非10倍。 原因如下： 假設(shè)動(dòng)力密度與研磨室熱交換面積成正比.艮】13P-Po Sk #將公式(10)帶入公式(13)可得下列公式15P-Pq魚=羊Vmr

12、 Vmr d由上可得知，傳統(tǒng)型研磨機(jī)于放大時(shí).其熱交換面積并無(wú)法與動(dòng)力密度等比例 放人，而是與研磨室直徑成反比。所以當(dāng)傳統(tǒng)型研磨機(jī)欲將實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)之參數(shù)放 大到量產(chǎn)型研磨機(jī)時(shí)，受限于熱龍換面積無(wú)、比例隨研磨室體積之增加而等比例 増加，為了避免漿料溫不過(guò)高，勢(shì)必降低動(dòng)力密度。如此將導(dǎo)致產(chǎn)能降低，或研磨 效果降低，其至對(duì)此上述奈米尺寸材料之分散研磨或?qū)囟容^敬感之應(yīng)用則無(wú)法勝 任。所以傳統(tǒng)研磨機(jī)若欲從事大量生產(chǎn)，唯一方法為選購(gòu)多部小型研磨機(jī)，如此雖 可達(dá)到量的要求，但在設(shè)備數(shù)量及人員之營(yíng)運(yùn)成本上將大大提高，已無(wú)竟?fàn)幜Α?.2研磨室體枳放大(ScMe Up)之估算力法：從實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)可以得到欲達(dá)到茱

13、一質(zhì)量耍 求所需之比能最Em值，若欲放大到量產(chǎn)之產(chǎn)能nWd (t/h)時(shí)，從公式(2)可計(jì)算出所需之右效動(dòng)力消耗為(P - Po)prod = m PZ Em16從公式(14)及(16)可以計(jì)算出在同一質(zhì)量卜欲放大到量產(chǎn)之產(chǎn)能時(shí)，所需之研 磨室大小如下式所示llKPgd173新一代研磨機(jī)之設(shè)計(jì)-研磨室體積小.高效率、磨球在研磨室可依特定軌跡而循環(huán) (Small-volume high-performance mills with a defined internal grinding media circulation)31研磨機(jī)產(chǎn)能依研磨室體積線性放大之條件：若欲使研磨機(jī)在高動(dòng)力密度卜，口J

14、以任 意放大且維持漿料之溫度不變下而得到一樣的質(zhì)量，唯一方法為需讓研磨機(jī)之熱交換面積與動(dòng)力密度成固定比例。如此任 何尺寸之研磨機(jī)之研磨效率將不受研磨機(jī)研磨室體積大小而影響，同時(shí)熱交換效果 亦將不受研磨室大小之變化而變化，即需滿足下列之條件£=常數(shù) （研磨室大?。?8VMRP-Po =常數(shù)（研磨室大?。?9由式（4）可知，當(dāng)應(yīng)用于低比能量需求之分散研磨時(shí)，髙動(dòng)力密度將導(dǎo)致較大的 流量（或產(chǎn)能），即流量（或產(chǎn)能）可以隨動(dòng)力密度等比例提高，當(dāng)然研磨機(jī)之設(shè)計(jì) 需避免磨球運(yùn)動(dòng)因流量之變大而造成磨球分布不均以導(dǎo)致局部溫度過(guò)熱或壓力上升 之情形發(fā)生，由公式（19）可得知：(P 一 P0)Prod

15、= (P 一 P0)PilotMRProd206#由上列方程式可知，若欲從實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)所得到之研磨參數(shù)放大到量產(chǎn)機(jī)臺(tái)時(shí)，放 大后之量產(chǎn)機(jī)臺(tái)對(duì)其放大后之產(chǎn)能所需之研磨室大小需設(shè)計(jì)如下：' MKProd21mprod Em(P P°)PHOI3.2新一代研磨機(jī)之構(gòu)造-動(dòng)力密度之大小可以不受研磨室之大小而改變(Structure and function of a multiple-zone Perl mill with a non size-dependent power density)#Bf prooud ojttet廠，.阿曲 inletgrinding mediirecr

16、cURior圖:44 Drais Advantis®*噺一代雙缸型高效率研磨機(jī)之原理及構(gòu)造圖三Drais Advantis新一代量產(chǎn)型雙缸型研磨機(jī)之外觀7ata MTomnnAtMr圖四新一代研磨機(jī)之轉(zhuǎn)子(rotor)設(shè)計(jì)圖五新一代實(shí)驗(yàn)型雙缸型研磨機(jī)之外觀如圖二所示“Advanus®”型研磨機(jī)之設(shè)計(jì)即可滿足上述動(dòng)力密度之大小不受研磨室大小而改變。Advanus之構(gòu)造乃將一個(gè)中空之轉(zhuǎn)子套在由二個(gè)靜置之內(nèi)外缸所形成之 研曆室間，內(nèi)外缸及轉(zhuǎn)子皆仃熱夾套層設(shè)計(jì)以供熱交換使用，漿料由研磨室上方進(jìn) 入研磨室后，將經(jīng)過(guò)三個(gè)階段的分散研磨而后利用離心力原理由濾網(wǎng)流出研磨室。 第一階段為經(jīng)由

17、轉(zhuǎn)子之轉(zhuǎn)動(dòng)而生強(qiáng)力渦流區(qū)以進(jìn)行預(yù)分散效果，然后經(jīng)由轉(zhuǎn)子外層 上之插梢與外缸上插梢撞擊磨球所產(chǎn)生之強(qiáng)力之撞擊及剪切力區(qū)來(lái)分散研磨漿料， 最后漿料與磨球一起流經(jīng)轉(zhuǎn)動(dòng)之轉(zhuǎn)子之內(nèi)層與靜置之內(nèi)缸所形成之間隙區(qū)產(chǎn)生之剪 切力做瑕后一階段之分散研磨。磨球與漿料一起運(yùn)動(dòng)到內(nèi)缸之上緣后，受到離心力作用之影響磨球?qū)⑼馑Χ?由轉(zhuǎn)子上設(shè)計(jì)之間隙(gap)跑回強(qiáng)力渦流區(qū)，即預(yù)分散區(qū)，然后隨著漿料再進(jìn)行第： 階段之研磨，如此在研磨室內(nèi)循環(huán)，而漿料則受到離心力之影響往內(nèi)甩，經(jīng)由濾網(wǎng)而 流出。因磨球一直在研磨宣內(nèi)循環(huán)，所以可以避免因磨球擠壓所產(chǎn)生之壓力，此設(shè)計(jì) 可以適用于大流量之應(yīng)用。一般對(duì)同一研磨室體積大小而言，Adva

18、nus之流量可為傳 統(tǒng)型之10倍以上，且壓力不致上升。此設(shè)計(jì)于研磨室放大時(shí)，僅需將研磨室之直徑與長(zhǎng)度做等比例之放大即可。故從 實(shí)驗(yàn)型到量產(chǎn)型之各種機(jī)種皆可以任意放人，熱交換而積少研磨室大小之比例將固定, 不受研磨室之大小而改變。由于本機(jī)型之熱交換面積非常大（內(nèi)缸、外缸、轉(zhuǎn) 子皆有熱交換之夾套層設(shè)計(jì)），所以無(wú)論研磨室之大小為何，皆可以維持單位體枳 研磨室之動(dòng)力密度為P V = 4 kW 1,同時(shí)可確保從實(shí)驗(yàn)到量產(chǎn)Z各機(jī)型之應(yīng)用皆可 以將產(chǎn)能等比例放大，質(zhì)量亦可以均一。33如何提高研磨之產(chǎn)能及質(zhì)量之方法：本文以透明性顏料色膏應(yīng)用為例，以循環(huán)式操作方式，采用量產(chǎn)型之研磨機(jī)臺(tái)來(lái)比較在不同之轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速卜而

19、產(chǎn)生之不同動(dòng)力密度時(shí)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量及產(chǎn)能所產(chǎn)生之影響 做一探討。從圖3.a之制作乃以動(dòng)力密度為2.1 kW/1時(shí)，定義所需色膏之透明之質(zhì)量要求為 X=to3d3rd,其所需之研磨時(shí)間定義為tstand3rd,然后再利用提高轉(zhuǎn)子之轉(zhuǎn)速以提高不同之 動(dòng)力密度，于動(dòng)力密度分別為3.0及3.3 kW/1時(shí)，分別做出透明度與研磨時(shí)間Z關(guān)系 圖，當(dāng)然為了維持色育質(zhì)量不受漿料溫度改變之影響，于不同之轉(zhuǎn)子運(yùn)速時(shí)，需調(diào)整 冷卻水之大小以維持相同之漿料溫度。由圖3.a可以得知：當(dāng)動(dòng)力密度為2.1 kW/1時(shí)，即使延長(zhǎng)研磨時(shí)間，對(duì)質(zhì)量之影響亦非常仃限，如圖所 示當(dāng)延長(zhǎng)時(shí)間到100%時(shí)，透明度只增加到104%o當(dāng)動(dòng)力密度

20、提高到3kW/l時(shí)，僅需動(dòng)力密度為2.1 kW/1時(shí)之61%之時(shí)間即町達(dá)到 質(zhì)量要求若延長(zhǎng)研磨時(shí)間，則仍可以繼續(xù)提高透明度，如圖所示，故后 可提高27%之透明度。D當(dāng)動(dòng)力密度在提高到3.3 kW/1時(shí)，僅需相對(duì)于動(dòng)力密度為2.1 kW/1時(shí)之50%之時(shí)間 即可達(dá)到質(zhì)量要求百?zèng)妫粞娱L(zhǎng)研磨時(shí)間，則透明度可以提高37%。9150K 024 X/X AOUQIBdswBK OA書40 S0 607 BI 90101 121 1S4 140 190 160 170relative (tindmc Hie t/t ? 00 %”rAodtyt«B> cratwcPJH/10| co49t

21、krettled4tb ssfill50圖3總于不同動(dòng)力密度卞，色膏透明度與研磨時(shí)間之關(guān)系圖若將圖3.a X軸之研磨時(shí)間改為相對(duì)于當(dāng)動(dòng)力密度為2kW/1達(dá)到透明度要求 時(shí)所需之相對(duì)比能量值時(shí)，即當(dāng)比能量為540 kVVlvt時(shí)，定義為X/X=t3nd3rd=100%, 則可以得知下列結(jié)果：D當(dāng)動(dòng)力密度為2.1 kW/1時(shí)，即使增加比能量之值，亦無(wú)法冇效地增加透明度。當(dāng)動(dòng)力密度為3.0kW/1時(shí)，當(dāng)比能最增加時(shí)，透明度亦隨之增加，但到127%時(shí)即 無(wú)法再增加。當(dāng)動(dòng)力密度在提高到3.3kW/l時(shí)，隨著比能量增加透明度可以增加到137%。M 00 = M M Kvrtey Ag-F.I “ spec

22、ific pover input IB / k Vh/t10#圖3.b不同之動(dòng)力密度在不同之比能屋卞所產(chǎn)生之透明度關(guān)系圖#由上述可得下列之結(jié)論：1. 當(dāng)提高動(dòng)力密度時(shí)，達(dá)到同一透明度要求卜所需之比能最大大地減少，即產(chǎn)能口J以 大大地提升。2. 當(dāng)采用較高動(dòng)力密度時(shí)，質(zhì)量可以往上提升。但若采用傳統(tǒng)型之研磨機(jī)時(shí)，因?yàn)槟?最密度無(wú)法提高，所以即使增長(zhǎng)研磨時(shí)間、增加比能最或降低流最（當(dāng)采用連續(xù)式 操作時(shí)）亦無(wú)法提高質(zhì)量，例如當(dāng)動(dòng)力密度為2.1 Kw/1時(shí)，即使增加比能量之輸入, 透明度亦無(wú)法高于104%。4傳統(tǒng)型與新一代雙缸型研磨機(jī)設(shè)計(jì)Z比較范例以分散研磨一個(gè)對(duì)溫度敏感或奈米尺寸 之漿料而言，假設(shè)漿料

23、之最大允許溫度為45°C：對(duì)傳統(tǒng)型研磨機(jī)及新一代研磨機(jī)于實(shí)驗(yàn)機(jī)種得知達(dá)到質(zhì)最需求時(shí)，所需之比能 童皆為Em = 200 kVvli/t：若欲將產(chǎn)能放大到500 kg/h時(shí)，此時(shí)傳統(tǒng)型機(jī)臺(tái)及新一代研 磨機(jī)為達(dá)到該放大后產(chǎn)能需求所需之研磨機(jī)相關(guān)規(guī)格比較表如表一所示，并說(shuō)明如 下：于實(shí)驗(yàn)型研磨機(jī)時(shí)，新一代研磨機(jī)之研磨室大小只需傳統(tǒng)型之1/4左右。對(duì)于同一動(dòng)力需求100k*而言，傳統(tǒng)型研磨機(jī)之研磨室體積為4971,而新一代研 磨機(jī)之研磨室體積只需251。相差約20倍。因?yàn)闊峤粨Q之問(wèn)題，放大后之動(dòng)力密度，傳統(tǒng)型研磨機(jī)僅為新一代研磨機(jī)之20分 之1,此時(shí)由傳統(tǒng)型研磨機(jī)所放大后之量產(chǎn)型機(jī)臺(tái)可能因此

24、而無(wú)法達(dá)到其實(shí)驗(yàn)型研 磨機(jī)所得到之質(zhì)量要求。事實(shí)上，上述之結(jié)果不僅反應(yīng)傳統(tǒng)型之機(jī)臺(tái)于放大后之動(dòng)力密度降為新一代研磨機(jī) 之20分之1,其研磨室體積亦增大為新一代研磨機(jī)之20倍左右，對(duì)于研磨機(jī)清洗 將因漿料殘余量之人人增加而困難度增加,如何處理因其所產(chǎn)生之人量廢溶劑將是傳 統(tǒng)型研磨機(jī)面對(duì)之令一大難題。表一：傳統(tǒng)型研磨機(jī)與新一代研磨機(jī)于產(chǎn)能放大時(shí)之研磨機(jī)規(guī)格設(shè)計(jì)比較表(Paianieter)Defiiuuon | Umt|傳統(tǒng)型研磨機(jī)新一代雙缸型研磨機(jī)laiPilot plant millGnuding cliambei MR1151,1Cooling siiifaceSknr0,160,13Max. net power foi t (P - Po)kW54,4Power densityPP° vMRIkW Li .14Specific eneigvPP°0m pilotIkWh Ll200200Pioduction outputQm pilotIkgl b h2522,5Industrial scale productionSpecific eneigypp°ITIptodIkWhl o t200200ThioughputHl prodIt