專利撰寫思路與寫作模板——實(shí)用模板(共11頁)

1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上這段時(shí)間撰寫專利申請文件，在做專利代理的表哥的幫助下，多次修改調(diào)整，每一次校正都收獲很大?？偨Y(jié)部分經(jīng)驗(yàn)如下：1、首先，你需要明確申請專利的主要目的是什么，如果專利不能被授權(quán)的話，相當(dāng)于發(fā)明只是被公開了，你沒有任何獨(dú)占權(quán)。還要考慮這個(gè)發(fā)明有沒有商業(yè)應(yīng)用的前景。如果可能有的話，務(wù)必要下大力氣撰寫好申請文件，力爭授權(quán)，同時(shí)要有個(gè)好的保護(hù)范圍。例如，你的發(fā)明可以申請“*方法”、“*設(shè)備”，等等，而不是“算法”。（“算法”這樣的主題無法得到授權(quán)，應(yīng)該改成“方法”，而其實(shí)質(zhì)上是涉及計(jì)算機(jī)程序的方法，那么最好補(bǔ)充有關(guān)該方法的硬件實(shí)現(xiàn)的實(shí)施例、并寫入權(quán)利要求（這是形式問題）；要確保獨(dú)

2、立權(quán)利要求之間的單一性，等等）總之，申請專利不是把研究成果或者構(gòu)思交上去就行了，而是要符合法律規(guī)定、專利保護(hù)規(guī)則，這樣在未來才可能創(chuàng)造價(jià)值。2、只要文件齊全、交了費(fèi)都可以拿到申請?zhí)枴Ｊ跈?quán)表示你的發(fā)明專利申請通過了專利局的初步審查和實(shí)質(zhì)審查，通常需要兩年左右的時(shí)間。在審查階段有修改說明書和權(quán)利要求書的機(jī)會，但修改的范圍僅限于一開始提交的內(nèi)容，所以，如果一開始沒寫好上述文件，通過修改獲得授權(quán)的希望可能就不大。3、要確保自己沒有公開過自己的發(fā)明，比如沒有在論文或其它公開場合中提到過。至于你的發(fā)明是否已經(jīng)被其它申請人申請過、或者被其他人公開過，那涉及實(shí)質(zhì)審查中的新穎性和創(chuàng)造性問題，可以進(jìn)行下面的檢索工

3、作。4、檢索工作還是很有必要的，你可以通過檢索找到最接近你的發(fā)明的現(xiàn)有技術(shù)（對比文件，可以是任何公開材料，如專利申請、論文等等）。還可以檢索一下世界范圍內(nèi)的專利公開，例如，上歐專局網(wǎng)站?？纯词欠裼蓄愃苾?nèi)容或者借鑒他們的寫法。5、對于有關(guān)計(jì)算機(jī)程序的權(quán)利要求，在邏輯上務(wù)必要簡明。如果造成審查員的理解偏差，后面會很費(fèi)事。對于最重要的獨(dú)立權(quán)利要求1，要仔細(xì)核對一下，最好做個(gè)權(quán)利要求和源程序的對應(yīng)表。確認(rèn)方法權(quán)利要求沒有問題之后，再對應(yīng)地修改有關(guān)設(shè)備的各項(xiàng)權(quán)利要求。6、注意，權(quán)利要求并不是越少越容易通過。多個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求、以及多個(gè)從屬權(quán)利要求這樣的寫法都是為了增大授權(quán)的可能性，因?yàn)槌跏紝懙迷缴伲竺娴?/p>

4、通過修改獲得授權(quán)的余地也就越小。（權(quán)利要求超過10項(xiàng)會有附加費(fèi)）7、權(quán)利要求書是體現(xiàn)專利權(quán)的最重要的法律文本，說明書和附圖實(shí)質(zhì)上是為權(quán)利要求服務(wù)的，摘要和摘要附圖是公益類的非法律文件。說明書的問題主要體現(xiàn)在是否充分公開、對權(quán)利要求的支持、以及形式問題。8、有關(guān)形式問題：一般需要把獨(dú)立權(quán)利要求的內(nèi)容拷貝到“發(fā)明內(nèi)容”部分中；作為慣例，附圖中的框要被編號，并且所有編號要被反映在說明書的“具體實(shí)施方式”中，這可以使申請文件更為工整，但專利法中并沒有這樣的強(qiáng)制規(guī)定。然而，在實(shí)審階段，如果沒有編號，有可能會被指出說明書或附圖不清楚的問題。專利撰寫思路與寫作模板-超實(shí)用1專利撰寫思路與寫作模板此文系本人近

5、年來寫專利的一些心得，引用了北京理工大學(xué)張利萍老師提供的資料以及一些網(wǎng)上的文章。0 寫在前面專利的撰寫是一件費(fèi)時(shí)費(fèi)腦的事，既需要考慮到專利本身類似法律條款的格式性，同時(shí)還需要科學(xué)、嚴(yán)謹(jǐn)?shù)財(cái)U(kuò)大自我保護(hù)范圍。近年來，本人通過撰寫十余個(gè)專利的過程，自認(rèn)為摸清了一些門道，今天將這些心得總結(jié)在一起，得到了這篇文章，希望這個(gè)文檔能為初學(xué)專利的朋友們引出一條線路，少走彎路。最后，希望大家不斷地提出建議、完善此文檔，并互相自由的交流，促進(jìn)知識產(chǎn)權(quán)的普及。孫若端 sunruoduan_v2010-9-8鄭重聲明：由此引用自由軟件的思想，要求此自由文檔所有者服從以下條款：“這里所指的是自由，是確保使您擁有、修改、

6、發(fā)布自由文檔的自由，確保您能夠得到它，確保您能更正文檔或?qū)⑺囊徊糠钟糜谛碌淖杂晌臋n；并且確保您知道您可以做上述的這些事情。為了保障您的權(quán)利，需要做出限制：禁止任何人否認(rèn)您上述的權(quán)利，或者要求您放棄這些權(quán)利。如果您發(fā)布文檔的副本，或者對之加以修改，這些限制就轉(zhuǎn)化成為您的責(zé)任。例如，假如您發(fā)布此文檔的副本，您必須將您所享有的一切權(quán)利給予收受者。您也必須確保他們也能收到或得到原始文檔。而且您必須向他們展示這些條款的內(nèi)容，使他們知到他們所享有的權(quán)利?！比绻呀?jīng)同意服從以上條款，請看下面的正文。專利撰寫思路與寫作模板21 引言此文章主要針對想寫專利的非專業(yè)人員，文中極力避免大而全的概念堆疊，省略了常

7、見專利撰寫書籍中難于理解的法律條文，便于初學(xué)者快速了解專利的撰寫方法，至于專利相關(guān)的法律細(xì)節(jié)以及申報(bào)流程則可以由專利代理人完成。下面介紹此篇文章的思路，便于大家快速理解。文中第二部分“專利申請文檔的結(jié)構(gòu)與主要內(nèi)容”主要描述了專利各個(gè)文檔之間的關(guān)系，以及每個(gè)文檔中各個(gè)段落之間的聯(lián)系，這是構(gòu)建一個(gè)邏輯清晰的專利的基礎(chǔ)知識。如果您具有相關(guān)的基礎(chǔ)知識可直接進(jìn)入第三部分。文中第三部分“專利撰寫要訣”是撰寫專利的一些經(jīng)驗(yàn)，其中涉及新手常犯的錯(cuò)誤，也涉及了專利的一些思想。此段可理解為武功口訣，初次看可能無法完全體會，但是如果能記住，則在以后的練習(xí)中會有所體會。文中第四部分“專利撰寫模版”介紹了作者摸索的一種

8、專利撰寫順序，按照此順序有利于理清思路，避免不必要的混亂。讀者可以按照此段中的套路寫專利，但是也不必拘泥于此，一旦熟悉了專利寫法則可自由發(fā)揮。2 專利申請文檔的結(jié)構(gòu)與主要內(nèi)容2.1 文檔間結(jié)構(gòu)關(guān)系專利申請文件的撰寫，是法律性和技術(shù)性都非常強(qiáng)的工作。申請文件撰寫的好壞直接影響能否獲得專利權(quán)、影響專利保護(hù)范圍的大小，也會影響該申請?jiān)趯＠值膶徟俣?。因此，能否撰寫出一份既適合具體發(fā)明的特點(diǎn)、又符合法律要求的專利申請文件，關(guān)系到專利申請人的切身利益。專利申請需提交的文件：請求書（代理人與發(fā)明人填寫）；說明書（發(fā)明人填寫）；權(quán)利要求書（發(fā)明人填寫）；說明書摘要（發(fā)明人填寫）；說明書附圖和摘要附圖（發(fā)明

9、人填寫）；及其他附件等（代理人填寫）。下面對各文件進(jìn)行詳細(xì)說明。專利撰寫的主要內(nèi)容就集中在權(quán)利要求書、說明書這兩個(gè)文檔上。權(quán)利要求書是整個(gè)專利中的核心文檔，一旦授權(quán)則具有法律效用，其限定了專利保護(hù)范圍。專利保護(hù)范圍的核心是獨(dú)立權(quán)項(xiàng)，一個(gè)權(quán)利要求書可以包含多個(gè)緊密相關(guān)的獨(dú)立權(quán)項(xiàng)，每個(gè)獨(dú)立權(quán)項(xiàng)可以認(rèn)為是一個(gè)保護(hù)的核心，在這個(gè)核心的周圍還可以有多個(gè)從屬權(quán)項(xiàng)用于擴(kuò)大或深化獨(dú)立權(quán)項(xiàng)的保護(hù)范圍，從而實(shí)現(xiàn)對專利保護(hù)范圍的最大化。說明書是對權(quán)利要求書的解釋說明，其中“技術(shù)背景”用于向?qū)＠麑彶閱T說明本專利的來由、背景，表明本發(fā)明的需求迫切性；“發(fā)明內(nèi)容”說明如何解決問題；“有益效果”闡述專利的創(chuàng)新點(diǎn)（審查員判斷

10、是否能夠授權(quán)的關(guān)鍵）；“具體實(shí)施方式”中需要舉出幾個(gè)例子，向?qū)彶閱T證明權(quán)利要求書中所述的技術(shù)特征在現(xiàn)有技術(shù)條件下都是可行的（不可復(fù)現(xiàn)的東西是不能申請專利的）。專利撰寫思路與寫作模板3專利文檔關(guān)系圖其余的文檔還包括說明書附圖、摘要以及摘要附圖，都是專利的輔助文檔，這些格式文檔，按照其說明填寫即可。2.2 權(quán)利要求書權(quán)利要求書是專利申請中的核心，它限定專利申請的保護(hù)范圍（但是需要說明書的支持），它是專利審查員判斷該發(fā)明是否具有新穎性和創(chuàng)造性的依據(jù)（關(guān)系到是否能授權(quán)），同時(shí)也是日后發(fā)生侵權(quán)糾紛時(shí)，判斷是否侵權(quán)的法律依據(jù)。權(quán)利要求書由一組權(quán)利要求（權(quán)項(xiàng)）組成，一份權(quán)利要求書至少有一項(xiàng)權(quán)利要求，權(quán)利要求

11、中所描述技術(shù)特征的總和是該發(fā)明的技術(shù)方案。權(quán)利要求的形式分類1）獨(dú)立權(quán)利要求2）從屬權(quán)利要求獨(dú)立權(quán)利要求（獨(dú)立權(quán)項(xiàng)）獨(dú)立權(quán)利要求是權(quán)利要求書文檔的主體，用于記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征。必要技術(shù)特征是指發(fā)明為解決其技術(shù)問題不可缺少的技術(shù)特征，其涉及內(nèi)容足以構(gòu)成保護(hù)客體，使之區(qū)別于其它技術(shù)方案。例如，為解決擦鉛筆字問題而發(fā)明一種筆，獨(dú)立權(quán)利要求如下撰寫：1 一種鉛筆，包括鉛筆和橡皮頭，其特征在于橡皮頭與鉛筆的末端連接。這里鉛筆和橡皮頭就是必要技術(shù)特征，而如何連接橡皮頭與鉛筆的鐵皮是不必要的。從屬權(quán)利要求（從屬權(quán)項(xiàng)）從屬權(quán)利要求是對另一項(xiàng)權(quán)利要求的進(jìn)一步限定。從屬權(quán)利要求中描述的是附加的技術(shù)特征

12、，是對被引用的權(quán)利要求作進(jìn)一步專利撰寫思路與寫作模板4限定。繼續(xù)上個(gè)例子，還可以添加以下從屬權(quán)項(xiàng)以擴(kuò)大保護(hù)范圍：2 根據(jù)權(quán)利要求 1 所述的一種鉛筆，還包括鐵皮，用于將橡皮頭固定在鉛筆末端。3 根據(jù)權(quán)利要求 1 所述的一種鉛筆，還包括粘合劑，用于將橡皮頭固定在鉛筆末端。權(quán)利要求的內(nèi)容分類1）產(chǎn)品（裝置）權(quán)利要求（物的權(quán)利要求）2）方法權(quán)利要求（活動(dòng)的權(quán)利要求）產(chǎn)品權(quán)利要求是對物的權(quán)利要求，包括人類技術(shù)生產(chǎn)的物，如物品、物質(zhì)、材料、工具、裝置、設(shè)備儀器、部件、元件、線路、合金、涂料、水泥、玻璃、組合物、化合物等。產(chǎn)品（裝置）權(quán)利要求用于描述產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)特征，其中的內(nèi)容需要包括產(chǎn)品（裝置）的部件以及

13、各部件的連接關(guān)系、相互作用。例如上文中鉛筆的例子，“鉛筆和橡皮頭”是部件，“橡皮頭與鉛筆的末端連接”是部件的連接關(guān)系。方法權(quán)利要求涉及時(shí)間與空間，也就是在時(shí)間的先后順序，空間上不同的地點(diǎn)或移動(dòng)， 例如： 制造方法、使用方法、通信方法、處理方法、安裝方法以及將產(chǎn)品用于特定用途的方法。 方法權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)用工藝過程，操作條件，步驟或流程等來描述。再次以鉛筆為例，可以寫出一個(gè)獨(dú)立權(quán)項(xiàng)：4 一種鉛筆，在加工過程中在鉛筆的末端固定一個(gè)橡皮頭，在書寫過程中可以使用鉛筆末端的橡皮頭擦字。2.3 說明書說明書是權(quán)利要求書的支持文檔，也就是說權(quán)利要求書中涉及的所有技術(shù)特征都必須包括在說明書內(nèi)部。并且說明書還需要清

14、楚、完整地公開要求保護(hù)的技術(shù)方案，記載足夠的實(shí)施例，并需要確保本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)，從而實(shí)現(xiàn)向社會充分地公開發(fā)明內(nèi)容。說明書包括以下幾部分：發(fā)明名稱（不多于 25 字）技術(shù)領(lǐng)域（簡要敘述發(fā)明的涉及領(lǐng)域，便于專利審查機(jī)構(gòu)分類）背景技術(shù)（展開介紹本發(fā)明相關(guān)的應(yīng)用背景、現(xiàn)有技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)）發(fā)明內(nèi)容（照抄權(quán)利要求書的全部內(nèi)容）有益效果（說明本發(fā)明的創(chuàng)新性與新穎性）附圖說明（說明書附圖中所有編號對應(yīng)的名稱）具體實(shí)施方式（盡可能的詳盡說明本發(fā)明所屬技術(shù)特征的技術(shù)方案，證明專利的可行性）2.4 說明書附圖專利撰寫思路與寫作模板5附圖是說明書的一個(gè)組成部分，用圖形補(bǔ)充文字部分的描述，幫助理解發(fā)明的每個(gè)技術(shù)

15、特征和整體技術(shù)方案。（1）機(jī)械、電學(xué)、物理領(lǐng)域中涉及產(chǎn)品的發(fā)明，說明書中必須有附圖。（2）發(fā)明有幾張附圖時(shí)，用阿拉伯?dāng)?shù)字順序編圖號。2.5 說明書摘要摘要是說明書公開內(nèi)容的概述，用在專利公開后的文檔首頁，它僅是一種技術(shù)情報(bào)，不具有法律效力。2.6 摘要附圖摘要附圖用在專利公開后的文檔首頁，它僅是一種技術(shù)情報(bào)，不具有法律效力。3 專利撰寫要訣要點(diǎn) 1：將最核心的必要技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求，實(shí)現(xiàn)最大限度的保護(hù)將全部必要技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求是一個(gè)非常重要的原則。如果獨(dú)立權(quán)利要求中沒有記載本專利所必須的技術(shù)特征，可能的結(jié)果是：該權(quán)利要求被宣告無效；或者，他人可能就未揭示的必要技術(shù)特征自行申請專利

16、；并且，利用沒有包含必要技術(shù)特征的專利權(quán)提起侵權(quán)訴訟，無法獲得法律保護(hù)。因此，在撰寫中，應(yīng)該在對必要技術(shù)特征有充分了解的基礎(chǔ)上，將必要技術(shù)記載到獨(dú)立權(quán)利要求中。但并不是說，要將申請專利產(chǎn)品的全部零件都記錄到獨(dú)立權(quán)利要求中，而是要記載：1）用于完成本發(fā)明解決技術(shù)問題必不可少的技術(shù)特征；2）記載到權(quán)利要求里的技術(shù)特征是經(jīng)過對實(shí)際情況進(jìn)行綜合產(chǎn)生的比較上位、比較概括和核心的技術(shù)特征；3）必要技術(shù)特征的描述與現(xiàn)今已有技術(shù)是可區(qū)別的，并需要得到說明書的支持。要點(diǎn) 2：將非必要技術(shù)特征寫入?yún)矔鴻?quán)利要求中，因?yàn)閺膶贆?quán)項(xiàng)具有可選擇性，可實(shí)現(xiàn)最大限度的保護(hù)在獨(dú)立權(quán)利要求記載全部必要技術(shù)特征的同時(shí)，將非必要技術(shù)特

17、征寫入從屬權(quán)利要求中。例 abc 為核心，d 非必要內(nèi)容，若獨(dú)立權(quán)項(xiàng)寫為 abcd，則別人可以稍作修改，重新申請新的專利，例如申請專利 abce 不構(gòu)成侵權(quán)。要點(diǎn) 3：避免一項(xiàng)專利只有一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求而沒有從屬權(quán)利要求，保護(hù)的范圍過小。一項(xiàng)好的專利申請，應(yīng)該在權(quán)利要求 1 里記載較少、較核心、較抽象的技術(shù)特征，以爭取較寬的保護(hù)；同時(shí)，還在從屬權(quán)利要求中，盡可能多地記載細(xì)化的技術(shù)特征或?yàn)榻鉀Q一般問題的技術(shù)方案。要點(diǎn) 4：避免獨(dú)立權(quán)利要求對技術(shù)方案的表述過于具體或過于抽象不能得到說明書的支持，范圍過大，無法授權(quán)。專利撰寫思路與寫作模板6要點(diǎn) 5：避免邏輯上的不一致；權(quán)利要求書及說明書里，避免邏輯上

18、的不一致，注意以下幾個(gè)方面：1）技術(shù)術(shù)語的表述要一致；2）權(quán)利要求之間互相引用關(guān)系要清晰；3）保證說明書的附圖標(biāo)號與實(shí)際圖號一致；要點(diǎn) 6：避免權(quán)利要求記載的技術(shù)方案與現(xiàn)有技術(shù)劃分錯(cuò)誤；與現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行劃界可以表明所申請專利的新穎性，但是如果沒有把握準(zhǔn)確劃分，不如不作劃分，全部作為與現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別特征。這是因?yàn)?，對?shí)用新型專利而言，沒有劃分的權(quán)利要求書被授權(quán)后，不會因?yàn)闆]有劃界或劃界不正確而影響專利的有效性；對發(fā)明專利申請，在實(shí)質(zhì)審查過程中有機(jī)會參考審查員引述的最接近對比文件，在答復(fù)審查意見的同時(shí)，可通過討論明確對權(quán)利要求的劃界。（發(fā)明專利的申請過程中有兩次修改的機(jī)會，可以與專利局的審查員進(jìn)行討

19、論，討論后與代理人協(xié)商專利的修改方法）要點(diǎn) 7：避免背景技術(shù)太簡單、太空泛說明書里的背景技術(shù)撰寫過于簡單，多半是由于對現(xiàn)有技術(shù)的不了解，在不了解現(xiàn)有技術(shù)的情況下，就難以準(zhǔn)確把握主要?jiǎng)?chuàng)新性與新穎性。創(chuàng)新性與新穎性不突出會十分致命，專利審查員會認(rèn)為專利不具有創(chuàng)新性而不予授權(quán)。最好能將檢索到現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行總結(jié)（現(xiàn)有專利、文章、專著），寫入背景技術(shù)中，同時(shí)在技術(shù)背景中介紹本發(fā)明專利的需求來源，進(jìn)一步說明所申請專利的迫切性。要點(diǎn) 8：避免技術(shù)理解錯(cuò)誤使撰寫之表達(dá)無法被理解甚至不可實(shí)現(xiàn)這可能是專利作者的低級錯(cuò)誤，也可能是“垃圾專利戰(zhàn)略”的重要手段。如果屬于前者，可能由于專利審查制度上的缺陷獲得授權(quán)，但在行使

20、專利權(quán)時(shí)可能造成困難或被他人請求宣告無效。要點(diǎn) 9：避免公開不充分專利說明書公開不充分可能導(dǎo)致專利被駁回或被宣告無效，更重要的一點(diǎn)是，權(quán)利要求書的在與審查員溝通后進(jìn)行的修改都必須來自于說明書中，如果專利說明書公開不充分則導(dǎo)致權(quán)利要求書沒有任何的修改余地。4 專利撰寫模版4.1 專利撰寫的順序與文體結(jié)構(gòu)。前文涉及的都是一些抽象的概念與思路，讀者可能難于理解，在這里進(jìn)一步進(jìn)行舉例說明。設(shè)置了一個(gè)專利實(shí)例，基本涉及了常見技術(shù)特征的表述方法。例：一種 “AB 方法與裝置”。其中核心部件包括“ABCE”，部件中 D 非必要，A 已經(jīng)申請了專利，C 可以更換為 G。部件及其連接關(guān)系如下如所示：專利撰寫思路

21、與寫作模板7由于 A 已經(jīng)申請了專利，因此不能申請單獨(dú) A 的權(quán)利要求，所以我們申請ABCE 和 ABGE 的組合專利，創(chuàng)新點(diǎn)就是將 ABCE 或 ABGE 組合在一起，實(shí)現(xiàn)了 A 不能達(dá)到的功能或優(yōu)點(diǎn)。此專利的權(quán)利要求包括方法與裝置兩種類型的權(quán)項(xiàng)，因此需要 4 個(gè)獨(dú)立權(quán)項(xiàng)，同時(shí)由于 D 是非必要的，所以 D 寫入從屬權(quán)項(xiàng)，所以有 ABCE 方法、ABGE 方法、ABCE 裝置、ABGE 裝置 4 個(gè)獨(dú)立權(quán)項(xiàng)，以及ABCDE 方法、ABGDE 方法、ABCDE 裝置、ABGDE 裝置 4 個(gè)從屬權(quán)項(xiàng)。為了進(jìn)一步擴(kuò)大裝置的保護(hù)范圍，考慮到裝置還可能需要添加 F，因此再補(bǔ)充ABCDEF 裝置、AB

22、GDEF 裝置 2 個(gè)從屬權(quán)項(xiàng)。因此，本專利的權(quán)利要求共 10 項(xiàng)，構(gòu)成了一個(gè)知識產(chǎn)權(quán)的保護(hù)網(wǎng)絡(luò)，其關(guān)系如下圖：AB 專利權(quán)項(xiàng)關(guān)系圖理清了專利中權(quán)利要求的相互關(guān)系，下面就可以開始撰寫專利了。4.2 撰寫順序1、完成 6-說明書附圖.doc。在此過程中有助于作者理清專利的大致結(jié)構(gòu)。2、完成 5-說明書.doc 中的附圖說明部分，確定附圖名稱、部件名稱，這有利于名詞統(tǒng)一，避免撰寫權(quán)利要求書、說明書等文檔時(shí)出現(xiàn)技術(shù)名稱不統(tǒng)一的情況。在這個(gè)實(shí)例中，我們將部件 A、B、C、D、E、F、G 分別編號為 1、2、3、4、5、6、7。3、根據(jù)附圖說明，按照上圖中的專利權(quán)利要求的關(guān)系，完成權(quán)利要求書中的 10

23、個(gè)權(quán)項(xiàng)。4、完成 5-說明書.doc 中的技術(shù)領(lǐng)域、技術(shù)背景部分，著重闡述技術(shù)背景的應(yīng)用背景與現(xiàn)有技術(shù)。5、添加 5-說明書.doc 中的發(fā)明內(nèi)容（copy 權(quán)利要求書）、有益效果（創(chuàng)新點(diǎn)專利撰寫思路與寫作模板8優(yōu)點(diǎn)）。6、盡可能詳盡的撰寫 5-說明書.doc 中的具體實(shí)施方式，。7、挑選說明書中的專利核心思想、創(chuàng)新點(diǎn)、優(yōu)點(diǎn)綜合為 2-說明書摘要.doc8、將 6-說明書附圖.doc 中最核心的附圖作為 3-摘要附圖.doc。9、完成余下的 1-發(fā)明專利請求書.doc、7-費(fèi)用減緩.doc、8-要求提前公布聲明.doc、9-實(shí)質(zhì)審查請求書.doc、10-專利代理委托書.doc5 結(jié)束語文章寫到

24、了最后，再補(bǔ)充幾點(diǎn)，發(fā)明專利申請費(fèi)用是 3000 元左右，若申請了費(fèi)用減緩，則申請費(fèi)用是 1070 元。一般國內(nèi)的專利代理費(fèi)用在 10006000 左右（如果自己寫專利，價(jià)格差不多就是 10002000 元代理費(fèi)，全交給代理寫大約在 30006000 元）。專利的申請過程如下，首先與代理人完成申請文檔（包括權(quán)利要求書、說明書等）并遞交給國家知識產(chǎn)權(quán)局，進(jìn)行形式審查，形式審查通過后，如果是實(shí)用新型專利則可以直接授權(quán)，如果是發(fā)明專利則需要審查員進(jìn)行實(shí)質(zhì)審查，審查員若同意授權(quán)，則發(fā)明專利最快可 18 個(gè)月授權(quán)，若審查員不同意授權(quán)，發(fā)明人可以進(jìn)行兩次修改，修改通過后則授權(quán)。專利的實(shí)際撰寫中涉及了許多專

25、利文體結(jié)構(gòu)的形式要求，但重要的是在保證形式符合專利法要求的前提下，盡可能的擴(kuò)大自我保護(hù)范圍。發(fā)明人完成一個(gè)專利的過程中，涉及到了針對發(fā)明本身的深入分析、綜合。發(fā)明人需要與代理人、審查員不斷溝通，每一份授權(quán)的專利都是發(fā)明人（代理人）與審查員之間的交互過程的結(jié)果。如果讀者有機(jī)會與代理人合作多個(gè)專利，就可以脫離代理人，自己直接撰寫。愿本文能夠讓專利初學(xué)者有所借鑒，避免我走過的彎路。專利撰寫思路與寫作模板9附錄 1：說明書附圖圖 1圖 2圖 3圖 4專利撰寫思路與寫作模板10圖 5圖 6專利撰寫思路與寫作模板11附錄 2：權(quán)利要求書1AB 方法，其特征在于：1）光線透過 A 與 B 后會聚 C 的傳感

26、器表面；2）C 將傳感器表面的圖像數(shù)據(jù)傳輸給 E；3）E 由下式計(jì)算結(jié)果：結(jié)果=1+12. 根據(jù)權(quán)利 1 所述的 AB 方法，其特征在于：D 控制 B 的工作狀態(tài)。3AB 方法，其特征在于：1）光線透過 A 與 B 后會聚 G 的傳感器表面；2）G 將傳感器表面的圖像數(shù)據(jù)傳輸給 E；3）E 由下式計(jì)算結(jié)果：結(jié)果=1+14. 根據(jù)權(quán)利 3 所述的 AB 方法，其特征在于：D 控制 B 的工作狀態(tài)。5AB 裝置，包括 A，其特征在于：還包括 B、C、E；其中 A、B、C 依次放在光線的入射方向，E 通過信號線與 C 連接。（注：因?yàn)?A已經(jīng)申請了專利，不屬于本發(fā)明的特征，因此寫在“其特征在于”前。

27、）6根據(jù)權(quán)利 5 所述的 AB 裝置，其特征在于：包括 D 通過數(shù)據(jù)線與 B 連接。7根據(jù)權(quán)利 5 所述的 AB 裝置，其特征在于：包括 F，A 與 B裝配在 F 內(nèi)部。8AB 裝置，包括 A，其特征在于：還包括 B、G、E；其中 A、B、G 依次放在光線的入射方向，E 通過信號線與 C 連接。9根據(jù)權(quán)利 8 所述的 AB 裝置，其特征在于：包括 D 通過數(shù)據(jù)線與 B 連接。10根據(jù)權(quán)利 8 所述的 AB 裝置，其特征在于：包括 F，A 與 B裝配在 F 內(nèi)部。專利撰寫思路與寫作模板12附錄 3：說明書AB 方法與裝置技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明屬于光學(xué)精密測量技術(shù)領(lǐng)域，可用于 XXX 的檢測與裝配過程中的

28、高精度 XXX 測量。技術(shù)背景提出現(xiàn)有問題，突出問題的重要性。列舉現(xiàn)有國內(nèi)、國外的現(xiàn)有方法。分析現(xiàn)有國內(nèi)、國外的現(xiàn)有方法的不足。分析現(xiàn)有方法的通病。（可選）針對不足，引出 AB 方法與裝置.(一種新方法橫空出世，但不作詳細(xì)介紹)以下是范例：近年來，超長焦距透鏡廣泛應(yīng)用于高能激光器、天文望遠(yuǎn)鏡等大型光學(xué)系統(tǒng)領(lǐng)域，此類大尺寸透鏡的加工、檢測與裝配具有很高的難度。作為超長焦距透鏡的重要參數(shù)，其焦距測量一直是光學(xué)測量領(lǐng)域的一個(gè)難點(diǎn)，主要因素在于：數(shù)值孔徑小、焦深長，難以實(shí)現(xiàn)精確定焦；焦距長，難以精密測長；光路長，測量容易受到環(huán)境干擾。因此，放大率法或五棱鏡法等傳統(tǒng)的定焦方法難以實(shí)現(xiàn)超長焦距的高精度測量

29、。針對超長焦距測量，國內(nèi)學(xué)者提出了新的測量方法，發(fā)表的文獻(xiàn)主要包括：中國測試技術(shù)的泰伯莫爾法測量長焦距系統(tǒng)的焦距；光子學(xué)報(bào)的Ronchi 光柵 Talbot 效應(yīng)長焦距測量的準(zhǔn)確度極限研究。此類技術(shù)主要采用了泰伯-莫爾法，利用 Ronchi 光柵、Talbot 效應(yīng)實(shí)現(xiàn)定焦，通過數(shù)字信號處理技術(shù)測量焦距。該類測量方法的靈敏度相比傳統(tǒng)方法有所提高，但光路長、測量過程復(fù)雜、需測量的參數(shù)多。相比較國外的長焦距測量技術(shù)，在The Optical Society of專利撰寫思路與寫作模板13America中 2002 年發(fā)表的Focal length measurements for the Nati

30、onalIgnition Facility large lenses中，采用了菲索干涉組合透鏡超長焦距測量技術(shù)進(jìn)行長焦距測量，并達(dá)到很高的測量精度。該測量方法利用組合透鏡方法減小了光路長度、簡化了測量過程。但此方法測量過程中，采用干涉條紋定焦，干涉圖案易受溫度、氣流、振動(dòng)等環(huán)境狀態(tài)因素的干擾，對測量環(huán)境提出了苛刻的要求。以上幾種測量方法的共性還在于：其評價(jià)尺度都是基于垂軸方向的圖像信息。由于光學(xué)系統(tǒng)的物距變化引起的軸向放大率變化是垂軸放大率變化的平方，如果能夠選取一種軸向信息作為評價(jià)尺度，則可以進(jìn)一步提高焦距測量的靈敏度。近年來，國內(nèi)外顯微成像領(lǐng)域的共焦顯微技術(shù)快速發(fā)展，該技術(shù)以軸向的光強(qiáng)響應(yīng)

31、曲線作為評價(jià)尺度，靈敏度高于垂軸方向的評價(jià)方法，并且由于采用光強(qiáng)作為數(shù)據(jù)信息，相比圖像處理方法具有更高的抗環(huán)境干擾能力。例如中國專利“共焦顯微鏡”(專利號 .8)，提出了共焦顯微技術(shù)，該技術(shù)主要適用于微觀顯微測量領(lǐng)域。迄今為止，尚未見到將該項(xiàng)技術(shù)直接應(yīng)用于超長焦距定焦的報(bào)道。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是為了解決 XXX 問題，而提出一種 AB 方法與裝置。本發(fā)明的目的是通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。（下面照抄權(quán)利要求書）AB 方法，其特征在于：1）光線透過 A 與 B 后會聚 C 的傳感器表面；2）C 將傳感器表面的圖像數(shù)據(jù)傳輸給 E；3）E 由下式計(jì)算結(jié)果：結(jié)果=1+1AB 方法，其特征在于：D 控制

32、B 的工作狀態(tài)。AB 方法，其特征在于：專利撰寫思路與寫作模板141）光線透過 A 與 B 后會聚 G 的傳感器表面；2）G 將傳感器表面的圖像數(shù)據(jù)傳輸給 E；3）E 由下式計(jì)算結(jié)果：結(jié)果=1+1AB 方法， D 控制 B 的工作狀態(tài)。AB 裝置，包括 A，還包括 B、C、E；其中 A、B、C 依次放在光線的入射方向，E 通過信號線與 C 連接。AB 裝置，包括 D 通過數(shù)據(jù)線與 B 連接。AB 裝置，包括 F，A 與 B 裝配在 F 內(nèi)部。AB 裝置，包括 A，還包括 B、G、E；其中 A、B、G 依次放在光線的入射方向，E 通過信號線與 C 連接。AB 裝置包括 D 通過數(shù)據(jù)線與 B 連接。AB 裝置包括 F，A 與 B 裝配在 F 內(nèi)部。有益效果：本發(fā)明對比已有技術(shù)具有以下創(chuàng)新點(diǎn)：1 使用 B 增強(qiáng)效果2 將 A 與 B 結(jié)合本發(fā)明對比已有技術(shù)具有以下顯著優(yōu)點(diǎn)