光學(xué)零件磁流變拋光磁流變拋光液材料去除率表面粗糙度去除深度碩士論文

1、高效率磁流變拋光技術(shù)的研究與應(yīng)用【摘要】 隨著激光核聚變、航空、航天、宇宙探測(cè)、軍事偵察等高科技領(lǐng)域的發(fā)展,人們對(duì)光學(xué)零件的表面精度要求越來(lái)越高。在常規(guī)光學(xué)玻璃加工中,研磨、拋光是最常用的制造光滑鏡面的方法,但是傳統(tǒng)的拋光技術(shù)存在著效率低、精度不能滿足現(xiàn)代光電技術(shù)發(fā)展的要求的問(wèn)題。在過(guò)去的幾十年里,磁流變液已被廣泛的應(yīng)用于各種工程領(lǐng)域,其性能也逐步提高。磁流變拋光技術(shù)(MRF)正是在磁流變液發(fā)展的基礎(chǔ)上被提出的,是一種新興的光學(xué)表面精密加工技術(shù)。隨著人們對(duì)超精密拋光技術(shù)的深入研究和超光滑檢測(cè)技術(shù)水平的提高,磁流變拋光技術(shù)以其優(yōu)越的性能越來(lái)越受到廣泛重視。本文主要做了以下幾個(gè)方面的研究工作：1.

2、研制磁流變拋光液。根據(jù)磁流變拋光的機(jī)理和特點(diǎn),提出了適用于K9光學(xué)玻璃拋光的磁流變液的要求。根據(jù)這一標(biāo)準(zhǔn),分析了磁流變拋光液各組成成分的作用原理及特性要求,由此確定了磁流變拋光液的各組成成分和配置工藝路線,成功研制了性能良好的磁流變拋光液。2.材料去除率實(shí)驗(yàn)研究。利用制備的磁流變拋光液進(jìn)行材料去除實(shí)驗(yàn),根據(jù)正交實(shí)驗(yàn)法以及單因素法的補(bǔ)充,得到了各因素對(duì)材料去除率的影響主次關(guān)系和影響規(guī)律,為材料去除的定量控制和磁流變拋光液的性能改良打下了基礎(chǔ).更多還原【Abstract】 With the laser fusion, aviation, aerospace, space exploration,

3、military reconnaissance and other high-tech developments in the field, requirements of people on the surface of precision optical components increasing. In conventional optical glass machining, grinding and polishing are most commonly used method of manufacturing smooth mirror. However, there are is

4、sues that the traditional low efficiency polishing technology, accuracy can not meet the requirements of modern optical technology.In the.更多還原 【關(guān)鍵詞】 光學(xué)零件； 磁流變拋光； 磁流變拋光液； 材料去除率； 表面粗糙度； 去除深度； 【Key words】 Optical Components； Magnetorheological Finishing； MR Fluids for Finishing； Material Removal Rate；

5、Surface Roughness； Removal Depth； 摘要 5-7 ABSTRACT 7-8 目錄 9-11 第一章 緒論 11-17 1.1 前言 11-12 1.2 磁流變拋光技術(shù)國(guó)內(nèi)外發(fā)展及研究現(xiàn)狀 12-15 1.3 高效率磁流變拋光技術(shù)的研究背景及意義 15 1.4 論文的主要研究?jī)?nèi)容及章節(jié)安排 15-17 第二章 磁流變拋光機(jī)理分析及其裝置實(shí)現(xiàn) 17-24 2.1 光學(xué)零件的傳統(tǒng)加工方法 17-19 2.2 磁流變拋光機(jī)理 19-21 2.3 磁流變拋光裝置實(shí)現(xiàn) 21-23 2.4 本章小結(jié) 23-24 第三章 磁流變拋光液的研究 24-38 3.1 磁流變液的研究與

6、發(fā)展 24-26 3.2 磁流變拋光液的性能要求 26-27 3.3 磁流變拋光液的組成選取 27-33 3.3.1 磁敏微粒選取 27-29 3.3.2 基載液選取 29-31 3.3.3 添加劑選取 31-32 3.3.4 拋光磨粒選取 32-33 3.4 磁流變拋光液的制備工藝路線 33-34 3.5 磁流變液本構(gòu)模型比較 34-37 3.5.1 Bingham粘塑性模型 34-35 3.5.2 雙粘度模型 35 3.5.3 Herschel-Bulkley模型 35-36 3.5.4 其他模型研究 36-37 3.6 本章小結(jié) 37-38 第四章 磁流變拋光液的初步應(yīng)用及實(shí)驗(yàn) 38-6

7、3 4.1 磁流變拋光的實(shí)驗(yàn)?zāi)康募皩?shí)驗(yàn)條件 38-39 4.2 實(shí)驗(yàn)工藝參數(shù)的選定 39-40 4.3 材料去除實(shí)驗(yàn)及結(jié)果分析 40-57 4.3.1 實(shí)驗(yàn)方案設(shè)計(jì)及結(jié)果 40-42 4.3.2 對(duì)材料去除率影響的顯著性水平分析 42-44 4.3.3 拋光磨粒濃度對(duì)材料去除率的影響規(guī)律分析 44-46 4.3.4 拋光磨粒粒徑對(duì)材料去除率的影響規(guī)律分析 46-48 4.3.5 磁敏微粒含量對(duì)材料去除率的影響規(guī)律分析 48-50 4.3.6 材料去除深度微觀形貌的初步研究 50-57 4.4 表面粗糙度實(shí)驗(yàn)及結(jié)果分析 57-61 4.4.1 實(shí)驗(yàn)方案設(shè)計(jì)及結(jié)果 57-60 4.4.2 對(duì)表面粗糙度影響的顯著性水平分析 60-61 4.5 本章小結(jié) 61-63 第五章 總結(jié)與展望 63-66 5.1 研究工作總結(jié) 63-64 5.2 進(jìn)一步的展望 64-66 參考文獻(xiàn)【索購(gòu)全文】Q聯(lián)系Q：138113721 1030850491