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1、1 12 2!單元數(shù)龐大!輸入/輸出引腳數(shù)目有限3 3EPROMROMROM可擦除的可編程可編程掩模RAMRAM動(dòng)態(tài)靜態(tài)4 45 5105v3v四個(gè)二極管與門構(gòu)成地址譯碼器存儲(chǔ)矩陣是四個(gè)二極管或門組成編碼器四個(gè)三態(tài)門構(gòu)成輸出緩沖器6 6A0An-1W0W(2n-1)D0Dm7 7字線位線圖7.2.3 CMOS管構(gòu)成存儲(chǔ)矩陣二極管構(gòu)成存儲(chǔ)矩陣8 8圖7.2.2二極管ROM電路圖圖7.2.3 CMOS管構(gòu)成存儲(chǔ)矩陣9 9寫是一次性編程,不能改編程時(shí)將不用的熔斷有熔絲出廠時(shí),每個(gè)結(jié)點(diǎn)上都熔絲由易熔合金制成1010一次性編程:16X8位的PROM,編程時(shí):輸入地址代碼,找出需要寫入0的單元地址。然后使
2、Vcc和字線加上編程電壓約21V,在位線上加編程脈沖。脈沖電流流過(guò)熔絲將其熔斷為0.11111212管疊柵注入MOSMOSInjuctiongateStackedSIMOS)(浮置柵控制柵:fcGG通處正常邏輯高電平下導(dǎo)上未充負(fù)電荷,則若導(dǎo)通處正常邏輯高電平下不上充以負(fù)電荷,則若管。溝道增強(qiáng)型是工作原理:cfcfGGGGSIMOSMOSN1313年)光燈下分鐘(陽(yáng)光下一周,熒紫外線照射空穴對(duì),提供泄放通道生電子“擦除”:通過(guò)照射產(chǎn)形成注入電荷到達(dá)吸引高速電子穿過(guò)寬的正脈沖,上加同時(shí)在發(fā)生雪崩擊穿)間加高壓(“寫入”:雪崩注入33020502525202,fcGSiOmsVGVSD1414)(管
3、浮柵隧道氧化層采用慢,操作不便的缺點(diǎn)為克服(紫外線)擦除MOSFLOTOX“隧道效應(yīng)”電子會(huì)穿越隧道)當(dāng)場(chǎng)強(qiáng)達(dá)到一定大?。ê穸戎g有小的隧道區(qū),與,/cmVmSiODGf782101021515導(dǎo)通)下,電壓(未充電荷時(shí),正常讀出截止)下,電壓(充電荷后,正常讀出工作原理:TVGTVGGCCf33fjCiGBmsVGW電子隧道區(qū)接的正脈沖,加充電:01020,上電荷經(jīng)隧道區(qū)放電加正脈沖,接放電:fjiCGBWG,01616(隧道區(qū))區(qū)有極小的重疊區(qū)與)更薄(與襯底間SGnmOSGfif15102的正脈沖,加接),加正壓(,充電利用雪崩注入方式向工作原理:usVGVVSDGcssf101206*
4、上電荷經(jīng)隧道區(qū)放電的正脈沖加放電,利用隧道效應(yīng)fsscfGnsVVGG100120,171718181919中存入位代碼記憶單元觸發(fā)器,作存儲(chǔ)為基本Q,1,41SRTT相通、與、導(dǎo)通,行中被選中,時(shí),能在jjiBBQQTTX6511,單元與緩沖器相連列第行第導(dǎo)通,這時(shí)時(shí),所在列被選中,jiTTYj871,,讀操作截止,與導(dǎo)通,則若時(shí),當(dāng)OIQAAAWRSC32110,,寫操作導(dǎo)通,與截止,則若QOIAAAWR3210,六管N溝道增強(qiáng)型MOS管202021212222SCWRAAOIOI片選信號(hào):寫信號(hào):讀地址線:數(shù)據(jù)線:/70701024 x 8RAM70OIOI.9870AAAA,.WRWRAAAAOIOI寫信號(hào):讀地址線:數(shù)據(jù)線:/987070,2323):(110025625670A個(gè)地址個(gè)字,需要每一片提供SCYYAAAA分別接四片的譯成即將兩位代碼區(qū)分四片用,3089891023768767
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