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文檔簡介
1、新型無機非金屬材料1.下列有關(guān)材料的說法不正確的是()傳統(tǒng)無機非金屬材料雖有不少優(yōu)點,但質(zhì)脆,經(jīng)不起熱沖擊新型無機非金屬材料雖然克服了傳統(tǒng)無機非金屬材料的缺點,但強度比較差高溫結(jié)構(gòu)材料具有能受高溫、不怕氧化、耐酸堿腐蝕、硬度大、耐磨損、密度小等優(yōu)點 D.新型無機非金屬材料的特性之一是具有電學特性:質(zhì)地較脆、經(jīng)不起熱沖擊是傳統(tǒng)無機非金屬材料的缺點;新型無機非金屬材料不但克服了傳統(tǒng)無機非金屬材料的缺點,而且同時還具有如能承受高溫、強度較高、具有電學特性等若干優(yōu)點;高溫結(jié)構(gòu)材料具有能受高溫、不怕氧化、耐酸堿腐蝕、硬度大、耐磨損、密度小等優(yōu)點。:B2.下列屬于新型無機非金屬材料的特性是()能承受高溫、
2、強度高 具有電學特性 具有光學特性 具有生物功能 可塑性好A.B.C.D.:本題考查新型無機非金屬材料的特性。:D3.下列哪些材料是新型無機材料()氧化鋁陶瓷 氮化硅陶瓷 碳化硅陶瓷 氮化鋁陶瓷 氮化鈦陶瓷 硅化硼陶瓷 二硅化鉬陶瓷A.C.B.D.:新型無機材料有氧化鋁陶瓷、氮化硅陶瓷、碳化硅陶瓷、氮化鋁陶瓷、氮化鈦陶瓷、硅化硼陶瓷、二硅化鉬陶瓷等。:D4.第一架航天飛機“哥倫比亞號”能抵擋住高速穿行稠密大氣時摩擦產(chǎn)生的高溫,全靠它那三萬一千塊硅瓦拼砌成的外殼。下列關(guān)于硅的性質(zhì)敘述中正確的是()A.Si 在常溫下可以與 Cl2 反應生成 SiCl4B.碳在氧氣中不完全燃燒生成的是 CO,則 S
3、i 也可以和氧氣反應生成 SiOC.度的單晶硅是重要的半導體材料D.硅不能溶于酸:硅在常溫下只能與 F2、NaOH 溶液、氫氟酸三種物質(zhì)反應,與 Cl2 的反應需要加熱,A 錯誤;+2 價的硅不穩(wěn)定,硅和氧氣反應只能生成 SiO2,B 錯誤;C 選項正確,制作半導體是硅的重要用途;Si 可以溶于氫氟酸,D 選項錯誤。:C5.磷酸鈣陶瓷是一種新型無機非金屬材料,它可用于制造人造骨骼,這是利用了磷酸鈣陶瓷的()A.耐高溫特性B.電學特性C.光學特性D.生物功能:該題四個選項是新型無機非金屬材料的四個特點,但應該注意:不是每種材料都同時具備這四個特點。該題可利用排除法求得,作為人造骨骼的材料沒有必要
4、耐高溫,更沒必要具備電學、光學特性,而且人造骨骼也是生物體的一部分,所以用于制造人造骨骼的磷酸鈣陶瓷應該具備生物功能。:D6.下列具有特殊性能的材料中,由主族元素和副族元素形成的化合物是( A.半導體材料砷化鎵B.吸氫材料鑭鎳合金 C.透明陶瓷材料硒化鋅D.超導材料 K3C60):本題借用新材料來考查元素是主族元素還是副族元素,即考查對元素的粗淺認識。A 項中,砷位于第A 族,鎵位于第A 族,全為主族元素;B 項中,鑭位于第B 族,鎳位于第族,沒有主族元素;C 項中,硒位于第A 族,鋅位于第B 族,符合題目要求;D 項中,K、C 均為主族元素。:C7.精細陶瓷(又稱為特種陶瓷)在現(xiàn)代科技中的應
5、用前景很廣。以 SiO2 加少量 PdCl2 研磨成極細的顆粒,經(jīng)高溫燒結(jié)制成多孔燒結(jié)體,具有半導體的性質(zhì),它具有相當大的表面積,將它和電子元件及儀表組成“電子鼻”,被稱為“人工神鼻”,冰箱泄漏的氟利昂濃度只有十萬分之一時也能被“嗅”出。關(guān)于“電子鼻”的下列敘述中不正確的是( A.“電子鼻”大大突破了人的嗅覺B.“電子鼻”吸附氣體的能力極強)C.“電子鼻”可廣泛應用于易燃、易爆、D.“電子鼻”易溶于水氣體的自動檢測和:“電子鼻”能夠“嗅”到人嗅不到的物質(zhì),所以它大大突破了人的嗅覺極限;它的原理是其表面積極大,容易吸附氣體,這樣才能檢測氣體;由于它能夠吸附氣體,所以它應能夠檢測到易燃、易爆、氣體
6、。從“電子鼻”所用的原料來看,燒結(jié)后的陶瓷應屬于硅酸鹽材料,所以應難溶于水。:D8.A、B、C、D、E 代表單質(zhì)或化合物,它們之間的相互轉(zhuǎn)換關(guān)系如下圖所示。A 為地殼中含量僅次于氧的非金屬元素的單質(zhì)。請?zhí)羁?單質(zhì) A 的原子的結(jié)構(gòu)示意圖為,它的最高化合價為。B 的化學式(分子式)為。B 和碳反應生成A 和 E 的化學方程式是 。C 的化學式(分子式)為,D 的化學式(分子式)為。:(1)+14 +4(2)SiO2SiO2+2CSi+2CO(3)CaSiO3Na2SiO39.氮化硅是一種高溫陶瓷材料,它的硬度大、硅與純氮氣在 1 300 反應獲得。高、化學性質(zhì)穩(wěn)定,工業(yè)上曾普遍采用(1)根據(jù)性質(zhì)
7、,推測氮化硅陶瓷的用途是。(填序號)A.制汽輪機葉片B.制有色玻璃D.制造柴油機C.制性模具寫出 N 的原子結(jié)構(gòu)示意圖:,根據(jù)元素周期律知識,請寫出氮化硅的化學式:。氮化硅陶瓷抗腐蝕能力強,除氫氟酸外,它不與其他無機酸反應。試推測該陶瓷被氫氟酸腐蝕的化學方程式: 。(4)現(xiàn)用四氯化硅和氮氣在氫氣氣氛保護下,加強熱發(fā)生反應,的化學方程式為較度的氮化硅,反應 。:(1)氮化硅陶瓷硬度大、耐磨損、抗腐蝕、抗冷熱沖擊,所以可用來制造汽輪機葉片、性模具以及柴油機等。(2)氮化硅中,氮的非金屬性強,應顯-3 價,硅的還原性強,且+4 價穩(wěn)定,故應顯+4 價。由氮化硅的化學式:Si3N4。:(1)ACD(2
8、) +7 Si3N4此(3)Si3N4+12HF3SiF4+4NH3(4)3SiCl4+2N2+6H2Si3N4+12HCl10.晶體硅是一種重要的非金屬材料,高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅;純硅的主要步驟如下:粗硅與干燥 HCl 氣體反應制得 SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2;SiHCl3 與過量 H2 在 1 1001 200 反應制得純硅。已知 SiHCl3 能與 H2O 強烈反應,在空氣中易自燃。請回答下列問題:第步粗硅的化學反應方程式為。粗硅與 HCl 反應完全后,經(jīng)冷凝得到的 SiHCl3(沸點 33.0 )中含有少量 SiCl4(沸點57.6 )和 HCl(沸點-8
9、4.7 ),提純 SiHCl3 采用的方法為。(3)用 SiHCl3 與過量 H2 反應純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):裝置 B 中的試劑是,裝置 C 中的燒瓶需要加熱,其目的是。反應一段時間后,裝置 D 中觀察到的現(xiàn)象是,裝置 D 不能采用普通玻璃管的原因是,裝置 D 中發(fā)生反應的化學方程式為。為保證及純硅實驗的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實驗裝置的氣密性,控制好反應溫度以 。為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫字母代號)是。a.碘水 b.氯水 c.NaOH 溶液溶液e.Na2SO3 溶液:分離沸點不同的液體的方法是分餾;根據(jù)題干,SiHCl3 能與H2O 強烈反應,在空氣中自燃,可知 H2 的作用之一就是排盡裝置內(nèi)的空氣,防止 SiHCl3 自燃,而此 H2 必須是干燥的,可知 B 的作用就是干燥 H2,所以選用濃硫酸。由于通入 D 中的應是穩(wěn)定的 SiHCl3 與過量 H2 的氣流,所以 C 裝置要加熱,并且是水浴加熱。由于 D 裝置應加熱到 1 1001 200 ,所以必須用石英管。鑒定是否含鐵單質(zhì),用稀鹽酸溶解后生成 Fe2
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