《膜材料與膜技術(shù)》課程教學(xué)大綱

1、膜材料與膜技術(shù)教學(xué)大綱課程編號(hào) 100093201課程名稱: 膜材料與膜技術(shù)高等教育層次： 本科課程在培養(yǎng)方案中的地位：課程性質(zhì)：選修對(duì)應(yīng)于電子封裝技術(shù)專業(yè)專業(yè)；屬于：BZ專業(yè)課程基本模塊開課學(xué)年及學(xué)期 非強(qiáng)制先修課程（a必須先修且考試通過的課程，b必須先修過的課程，c 建議先修的課程） b材料科學(xué)基礎(chǔ)，微電子制造工藝基礎(chǔ)課程總學(xué)分：2.0，總學(xué)時(shí):32； 課程教學(xué)形式：0普通課程課程教學(xué)目標(biāo)與教學(xué)效果評(píng)價(jià)課程教學(xué)目標(biāo)（給出知識(shí)能力素養(yǎng)各方面的的具體教學(xué)結(jié)果）(必填)教學(xué)效果評(píng)價(jià)不及格及格，中良優(yōu)1.知悉和理解膜材料與膜技術(shù)中的基礎(chǔ)理論完全不知道，對(duì)膜材料與膜技術(shù)的基礎(chǔ)理論有碎片化的理解1.對(duì)

2、膜材料與膜技術(shù)主要內(nèi)容，薄膜生長(zhǎng)核心過程能理解，但不完整1.對(duì)膜材料與膜技術(shù)主要內(nèi)容，薄膜生長(zhǎng)核心過程能完整理解，但不系統(tǒng)，存在斷點(diǎn)。1.對(duì)膜材料與膜技術(shù)主要內(nèi)容，薄膜生長(zhǎng)核心過程能完整系統(tǒng)地理解2. 知悉和理解物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積的原理與方法，薄膜的成核、生長(zhǎng)過程理論以及薄膜的結(jié)構(gòu)和缺陷完全不知道，對(duì)物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積原理與方法，薄膜的成核、生長(zhǎng)過程理論以及薄膜的結(jié)構(gòu)和缺陷，有碎片化的理解1.對(duì)物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積過程原理與方法，薄膜的成核、生長(zhǎng)過程理論以及薄膜的結(jié)構(gòu)和缺陷主要內(nèi)容，核心過程能理解，但不完整1.對(duì)物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積過程原理與方法，薄膜的成核、生長(zhǎng)過

3、程理論以及薄膜的結(jié)構(gòu)和缺陷主要內(nèi)容，核心過程能完整理解，但不系統(tǒng)，存在斷點(diǎn)。1.對(duì)物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積過程，薄膜的成核、生長(zhǎng)過程理論以及薄膜的結(jié)構(gòu)和缺陷原理與方法主要內(nèi)容，核心過程能完整系統(tǒng)地理解3. 擁有根據(jù)所掌握的薄膜制備技術(shù)與理論，針對(duì)各種需求提出相應(yīng)的現(xiàn)代薄膜制備方案，具有分析薄膜制備方案可行性及可能影響因素的能力，形成先進(jìn)薄膜材料設(shè)計(jì)與分析的思維模式；1.完全沒能力根據(jù)所掌握的薄膜材料制備技術(shù)與理論，針對(duì)各種社會(huì)需求提出相應(yīng)的先進(jìn)薄膜材料制備方案，完全不能分析薄膜材料制備方案可行性及可能影響因素問題；2.具有零碎的現(xiàn)代薄膜設(shè)計(jì)與分析的概念。2.整體上擁有根據(jù)所掌握的薄膜制備技術(shù)

4、與理論，針對(duì)各種社會(huì)需求提出相應(yīng)的先進(jìn)薄膜材料制備方案，具有分析薄膜材料制備方案可行性及可能影響因素的能力，整體上形成了先進(jìn)薄膜材料設(shè)計(jì)與分析思維模式，但缺乏系統(tǒng)性。2.整體上擁有根據(jù)所掌握的薄膜材料制備技術(shù)與理論，針對(duì)各種社會(huì)需求提出相應(yīng)的先進(jìn)薄膜材料制備方案，分析薄膜材料制備方案可行性及可能影響因素的能力，整體上形成了先進(jìn)薄膜材料設(shè)計(jì)與分析的思維模式，有一定的系統(tǒng)性，但系統(tǒng)性方面存在斷點(diǎn)。2. 擁有根據(jù)所掌握的薄膜材料制備技術(shù)與理論，針對(duì)各種社會(huì)需求提出相應(yīng)的先進(jìn)薄膜材料制備方案，分析薄膜材料制備方案可行性及可能影響因素的能力，形成了先進(jìn)薄膜材料設(shè)計(jì)與分析的思維模式。課程教學(xué)目標(biāo)與所支撐的

5、畢業(yè)要求對(duì)應(yīng)關(guān)系畢業(yè)要求（指標(biāo)點(diǎn)）編號(hào)畢業(yè)要求（指標(biāo)點(diǎn)）內(nèi)容課程教學(xué)目標(biāo)（給出知識(shí)能力素養(yǎng)各方面的的具體教學(xué)結(jié)果）1.44.21.將電子封裝和電子制造知識(shí)運(yùn)用于實(shí)際工程（如制造、材料、工藝、測(cè)試以及失效分析等）問題的解釋、分析，提出解決方案；2.熟悉電子封裝和電子制造中相關(guān)器件、組件的結(jié)構(gòu)和作用原理，具備對(duì)電子封裝材料與結(jié)構(gòu)、電子制造和封裝工藝方案設(shè)計(jì)、實(shí)驗(yàn)過程及工藝流程設(shè)計(jì)、相關(guān)材料選取、性能測(cè)試以及可靠性分析的能力，并能夠?qū)?shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行分析1.知悉和理解薄膜材料制備方法基礎(chǔ)理論；2. . 知悉和理解物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積制備原理與方法，薄膜成核過程及微觀結(jié)構(gòu)的形成；3. 擁有根據(jù)所掌握

6、的薄膜制備技術(shù)與理論，針對(duì)各種需求提出相應(yīng)的現(xiàn)代薄膜制備方案，具有分析薄膜制備方案可行性及可能影響因素的能力，形成先進(jìn)薄膜材料設(shè)計(jì)與分析的思維模式；教學(xué)內(nèi)容、學(xué)時(shí)分配、與進(jìn)度安排教學(xué)內(nèi)容學(xué)時(shí)分配所支撐的課程教學(xué)目標(biāo)教學(xué)方法與策略（可結(jié)合教學(xué)形式描述）（選填）第一章 緒 論 1.1膜材料與膜技術(shù)簡(jiǎn)介1.2 真空技術(shù)基礎(chǔ)41,2，3講授、課堂討論，應(yīng)用圖片展示，輔助網(wǎng)絡(luò)課程資源補(bǔ)充相關(guān)拓展知識(shí)。第二章 薄膜材料制備的真空蒸發(fā)法2.1 元素的熱蒸發(fā)2.2 化合物與合金的熱蒸發(fā)23 熱蒸發(fā)技術(shù)61,2，3講授，提問，及視頻展示第三章 濺射法制備薄膜3.1 氣體放電現(xiàn)象與等離子體3.2物質(zhì)的濺射效應(yīng)與濺

7、射產(chǎn)額33各種濺射技術(shù)61,2，3講授，課堂討論、視頻展示及輔助網(wǎng)絡(luò)課程資源補(bǔ)充相關(guān)拓展知識(shí)。第四章 化學(xué)氣相沉積技術(shù)4.1 CVD過程熱力學(xué)和動(dòng)力學(xué)4.2 CVD薄膜沉積裝置43等離子體CVD81.2，3講授，課堂討論、視頻展示及輔助網(wǎng)絡(luò)課程資源補(bǔ)充相關(guān)拓展知識(shí)。第五章 薄膜材料的微觀結(jié)構(gòu)5.1薄膜的形核理論 5.2 薄膜微觀結(jié)構(gòu)的形成5.3 幾種先進(jìn)薄膜介紹81,2，3講授，實(shí)物展示，課堂討論、視頻展示及輔助網(wǎng)絡(luò)課程資源補(bǔ)充相關(guān)拓展知識(shí)?？己伺c成績(jī)?cè)u(píng)定：平時(shí)成績(jī)、期末考試在總成績(jī)中的比例，平時(shí)成績(jī)的記錄方法。考核方式：閉卷考試成績(jī)構(gòu)成：平時(shí)考查：課堂提問及研討，共20分； 期末考試：80分

8、教材，參考書:1 麻時(shí)立男著, 陳國(guó)榮等翻譯, 薄膜制備技術(shù)基礎(chǔ)M.北京: 化學(xué)工業(yè)出版社,2009.2 鄭偉濤，薄膜材料與薄膜技術(shù), 第二版M.化學(xué)工業(yè)出版社，2007.大綱說明：本課程講述各種薄膜材料與制備的原理、方法和技術(shù)。針對(duì)現(xiàn)代信息社會(huì)對(duì)材料發(fā)展的需求，著重介紹各種薄膜制備技術(shù)的基本概念、制備原理、特征，以及其在各類薄膜材料中的應(yīng)用。面向電子封裝專業(yè)學(xué)生。 編寫教師簽名： 責(zé)任教授簽名： 開課學(xué)院教學(xué)副院長(zhǎng)簽名： Film Materials and Film TechnologyCourse code: 100093201Course name: Film Materials an

9、d Film TechnologyLecture Hours:32Credits: 2Prerequisite(s): Materials Science Basis, Microelectronic Fabrication and Process Basis Course Description:This course is to explore the principles and methods for the preparation and applications of thin films. Both traditional thin films preparation metho

10、d and state of art modern developing method are included. The course consists of 5 chapters, including thin films introduction, physical vapor deposition and chemical vapor deposition method. Thin films structure and their formation. Powerpoint and video will be extensively used in the class.Course

11、Outcomes:After completing this course, students should be able to:Master and understand theory and method of thin films preparation.Analyze relationship between structure, composition and properties of thin films.Design appropriate thin films preparation method according to desired thin films perfor

12、mance requirement. Course Content:Lectures and Lecture Hours: Introduction 4- Introduction of thin films.Thermal evaporation method 6-elements and compounds evaporation -different equipments used in thermal method Sputtering method for thin films 6Chemical Vapor Deposition method for thin filmsThermaldynamics and Kinetic of CVD process 8 Different CVD method including plasma CVDThin films structure 8 Nucleation and formation of structureSome examples of thin films materialsGrading: Prerequisite quiz10%Inclass Quizzes10%Final 80%Text & Reference Book: 1. AS