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1、2021年中國光刻膠行業(yè)市場競爭格局晶瑞電材:光刻膠產(chǎn)銷量總體增長 HYPERLINK /hs/zhengquan_300346.SZ.html 光刻膠行業(yè)主要上市公司:南大光電(300346)、上海新陽(300236)、容大感光(300576)、飛凱材料(300398)、廣信材料(300537)、雅克科技(002409)、晶瑞電材(300655)、彤程新材(603650)本文核心數(shù)據(jù):光刻膠產(chǎn)能情況、光刻膠業(yè)務收入等1、中國光刻膠行業(yè)本土企業(yè)全方位對比:晶瑞電材VS彤程新材VS南大光電VS雅克科技受技術限制,我國中低端光刻膠產(chǎn)品在全球占有一席之地,但高端光刻膠基本全部依賴進口,其中可生產(chǎn)高端

2、光刻膠的企業(yè)較少,競爭力較強的公司主要有晶瑞電材、彤程新材等企業(yè):2、晶瑞電材:光刻膠業(yè)務布局歷程情況公司是一家微電子材料的平臺型高新技術企業(yè),圍繞泛半導體材料和新能源材料兩個方向。早于1976年布局光刻膠業(yè)務。2001年公司成立,并于2011年收購蘇州瑞紅;2017年,公司上市,蘇州瑞紅成為全資子公司;2018年,公司I線光刻膠量產(chǎn),產(chǎn)能達100噸/年。3、晶瑞電材:光刻膠業(yè)務布局及運營現(xiàn)狀分析1)晶瑞電材-光刻膠業(yè)務占比不斷提升晶瑞電材的光刻膠產(chǎn)品由公司的子公司蘇州瑞紅生產(chǎn),蘇州瑞紅作為國內光刻膠領域的先驅,規(guī)模生產(chǎn)光刻膠近30年,產(chǎn)品主要應用于半導體及平板顯示領域。2017-2020年,

3、公司的光刻膠業(yè)務收入占比總體提升。2020年,晶瑞電材實現(xiàn)營業(yè)收入10.22億元,其中光刻膠收入達1.79億元,占比為17.52%:2)晶瑞電材-主要光刻膠產(chǎn)品均有布局從光刻膠技術布局來看,晶瑞電材子公司-蘇州瑞紅,近30年致力于光刻膠產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn),光刻膠產(chǎn)品類型覆蓋高中低分辨率的I線、G線紫外正性光刻膠、環(huán)化橡膠型負性光刻膠、化學增幅型光刻膠、厚膜光刻膠等類型:從光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)能布局來看,晶瑞電材及其子公司目前可量產(chǎn)i/g line膠、觸屏用光刻膠,KrF膠正處于客戶驗證階段,而ArF膠和TFT光刻膠正處于產(chǎn)能建設階段:3)晶瑞電材-光刻膠產(chǎn)能擴張、產(chǎn)能利用率高光刻膠產(chǎn)能方面,2018-

4、2020年,公司光刻膠及配套材料產(chǎn)能總體增長,2020年設計產(chǎn)能達8100噸/年;同時,公司光刻膠產(chǎn)能利用率也較高,2018年以來均維持在90%左右。4)晶瑞電材-光刻膠產(chǎn)銷量總體增長產(chǎn)銷量方面,2018-2020年,公司光刻膠及配套材料產(chǎn)銷量也總體增長,2020年,產(chǎn)量為7610噸、銷量為7552噸,結合來看,公司的產(chǎn)銷率也較為均衡,接近100%:同時,從光刻膠售價來看,2018-2020年,公司光刻膠產(chǎn)品銷售均價也有小幅增長,2020年為2.37萬元/噸。5)晶瑞電材-光刻膠優(yōu)質客戶資源較穩(wěn)定 HYPERLINK /hs/zhengquan_600460.SH.html 在銷售布局方面,晶

5、瑞電材主要采用直銷模式,產(chǎn)品以內銷為主,目前已建立了遍布全國的銷售網(wǎng)絡。公司客戶包括半導體行業(yè)的華虹、長江存儲、士蘭微,鋰電池行業(yè)的比亞迪、三星環(huán)新,LED行業(yè)的三安光電、華燦光電等,客戶資源較為優(yōu)質。4、晶瑞電材-光刻膠業(yè)務經(jīng)營業(yè)績:光刻膠業(yè)務收入總體增長 HYPERLINK /hs/zhengquan_300655.SZ.html 在經(jīng)營業(yè)績方面,2018-2020年,公司光刻膠業(yè)務收入總體增長、毛利率小幅下降但仍維持在較高水平,2020年,公司光刻膠業(yè)務實現(xiàn)收入1.79億元,毛利率為39.19%;2021年上半年,晶瑞股份光刻膠及配套材料實現(xiàn)收入1.43億元,同比增長70.98%,毛利率

6、達36.54%。5、晶瑞電材:光刻膠業(yè)務發(fā)展規(guī)劃情況公司為提升國家關鍵材料領域“自主可控”水平,實現(xiàn)半導體材料的“”,公司于2020年啟動了集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目并于2020年下半年購買了ASML1900Gi型光刻機設備。該研發(fā)項目系由公司牽頭發(fā)起的超大規(guī)模集成電路用高端光刻膠技術攻關及產(chǎn)業(yè)化工程的攻關任務之一,旨在通過自主研發(fā),打通ArF光刻膠用樹脂的工藝合成路線,完成ArF光刻膠用樹脂的中試示范線建設,研發(fā)滿足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻膠,滿足當前集成電路產(chǎn)業(yè)關鍵材料市場需求。目前ArF高端光刻膠研發(fā)工作已正式啟動,已完成光刻機、勻膠顯影機、掃描電鏡、臺階儀等設備購置,其中ASML1900Gi型光刻機設備

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