光化學(xué)保護(hù)基課件

1、光 化 學(xué) 保 護(hù) 基宋 琎2009.9.12一.簡 介二.常用幾種保護(hù)基介紹三. 未來的發(fā)展方向一. 簡 介在大部分情況下，酸性或堿性試劑是作為去保護(hù)基。同樣還有金屬和酶催化劑。而光保護(hù)基在去保護(hù)過程中不需要添加類似的化學(xué)試劑，并且去保護(hù)過程在大部分時(shí)候非?？焖俸透蓛?。這些特性使它特別適用于生化和微生物領(lǐng)域。同時(shí)，在復(fù)雜的多官能團(tuán)化合物的合成中，光保護(hù)基處于一個(gè)重要的地位，并且要小心選擇。一方面，他們要承受的住其它官能團(tuán)轉(zhuǎn)化時(shí)的條件，另一方面，在移出保護(hù)基的時(shí)候不能損壞中心結(jié)構(gòu)。the caging group should comply with the following require

2、mentsHigh quantum and chemical yields, as well as a fast rate of substrate release;Substantial absorbance above 300 nm; Good dark stability;Byproducts of the uncaging reaction should ideally be transparent at the wavelength of irradiation and possess low reactivity.二常用幾種保護(hù)基介紹1.鄰硝基芐基衍生物(應(yīng)用最為廣泛)（1）活潑N

3、-H位的保護(hù)* in the last step of the synthesis of ent-fumiquinazolineB.B.Snider. M.V.Busuyek. Tetrehedron. 2001, 57, 3301-3307.Hoffmann. Chemical Review. 2008, 108, 1086.(3) 溶膠凝膠法中通過自由基羧酸官能團(tuán)改良硅膠 硅烷偶聯(lián)試劑通過與無機(jī)材料通過表面含有的OH形成共價(jià)鍵，對無機(jī)材料進(jìn)行表面修飾改性，通過混合自組裝在硅膠層表面形成單層，通過不同的鏈長度對生物分子進(jìn)行分離。而因?yàn)樵诤铣蛇^程中氯和烷氧基對羧酸反應(yīng)很活潑.于是,含有羧酸根的

4、硅烷偶聯(lián)試劑得不到有效應(yīng)用，于是硅烷偶聯(lián)試劑合成中羧酸根的保護(hù)就很重要。Chemistry Letters.2000, 228(4)其它含硝基的苯基化合物 很多研究著重于結(jié)構(gòu)的改良使得保護(hù)基水溶性更好，或者進(jìn)行結(jié)構(gòu)改造使之適用于新的反應(yīng)，或者對照射光波長進(jìn)行選擇以提高收率。a. 對醛酮的保護(hù)J. Org. Chem. 2003, 68, 1138-1141長鏈端酮，大環(huán)酮，長鏈共軛醛產(chǎn)率較好Tetrahedron .2005, 61, 58495854Machanism：（b）對醇的保護(hù)*此類二聚保護(hù)基產(chǎn)率更高Chem.Commun. 2004, 27282729* alcohol：poor

5、leaving groupsAngew. Chem. Int. Ed. 2004, 43, 2008 2012Michael C. Pirrung*, Organic letters. 2001, 3, 1105* in automated photochemical DNA synthesis2苯甲酰甲基衍生物Petr Klan,* Organic Letters. 2000, 2, 1569-1571.* 氨基酸中羧基的保護(hù)Peter G. Conrad II, Organic Letters, 2000, 2, 1545-1547.Mechanism：3其他保護(hù)基Lin, W.; Lawrence, D. S. J. Org. Chem. 2002, 67, 2723. 該保護(hù)基含有的醛基或是二醇結(jié)構(gòu)可以用于保護(hù)二醇或是醛酮。(1)保護(hù)二醇或醛酮(2) 保護(hù)醇及羧酸結(jié)構(gòu)Alexey P. Kostikov. JOC. 2007, 72, 9190-9194 4.含硅保護(hù)基* 含硅保護(hù)基在一般有機(jī)合成，核苷合成中得到了有效的應(yīng)用。(2)對氨基的保護(hù)Tetrahedron Letters. 2000,