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1、本文格式為Word版,下載可任意編輯 制程異常分析改善匯總 防焊前五項制程問題分析: 一、防焊空泡: 造成理由:1、前處理不良。(H 2SO 4 濃度、水質(zhì)、吹干段角度及風量,吸水海棉清潔度、 烘干溫度)。 2、磨刷后放置時間過長,室內(nèi)濕度偏低。 3、印刷臺面沾有油墨及其它有機溶劑,反沾板面,油墨攪拌不均。 4、預烤不足。 5、曝光能量太低或太高。 6、顯影側(cè)蝕太多。 7、HAL浸助焊劑時間太長,錫槽溫度太高,浸錫時間太長。 預防措施:1、前處理作業(yè)務(wù)必按SOP要求生產(chǎn)。 2、磨刷后放置時間不得超過2H ,室內(nèi)濕度操縱在50-60%之間。 3、印刷臺面保持清潔,印第一面時臺面上墊一張白紙,以保
2、證板面清潔 度。 4、預烤溫度保持702,烤后之板保證不粘棕片。 5、曝光能量保持在9-13格。 6、顯影點操縱在50-60%,避免過多側(cè)蝕。 7、后烤通風保持良好,塞孔板務(wù)必分段烘烤。 8、HAL作業(yè)須完全依照SOP操作,不可有違規(guī)作為。 二、L/Q內(nèi)圈陰影: 理由分析:1、油墨過期。 2、預烤時間過長,溫度過高。 3、擋點印刷時,孔環(huán)處積墨過多,印刷房濕度不夠。 4、曝光前,靜置時間過長。 5、顯影速度過快,壓力過小。 6、棕片遮光度不夠。 7、曝光時吸真空壓力未能達到要求。 改善對策:1、油墨依照先進先出的方式使用,保證在油墨保質(zhì)期內(nèi)使用。 2、預烤時間和溫度按SOP要求作業(yè),且烤好后及
3、時取出防止冷烤。 3、印刷房濕度保持在50-60%之間,擋點印刷保持連貫,且印一PNL刮一 次網(wǎng)版。 4、預烤后板靜置時間不能眼過12H,最連貫4H以內(nèi)對位完。 第 1 頁 5、顯影點保持在50-60%之間。 6、選用遮光度及質(zhì)量較好之棕片生產(chǎn)。 7、吸真空不得低于600Hg,且須保持導氣良好。 三、卡錫珠: 理由分析:1、印刷塞孔不滿(量產(chǎn)板)。 2、退洗板導通孔內(nèi)油墨未剝除潔凈。 3、油墨本身質(zhì)量問題。 4、HAL貼膠未貼好,某些孔呈半覆蓋狀態(tài)。 5、HAL浸助焊劑及浸錫時間過短。 改善對策:1、從印刷各條件去改善塞孔程度。(刮刀壓力、角度、確度、速度、網(wǎng)目T數(shù)量) 2、選用適合的退洗液,
4、盡可能洗凈導通孔內(nèi)油墨,保證塞孔效果。 3、針對油墨收縮性較嚴重之廠家,要求其作調(diào)整。 4、加強HAL貼膠人員的專業(yè),技能保證貼膠品質(zhì)。 5、HAL作業(yè)參數(shù)須嚴格按SOP所規(guī)定的去執(zhí)行。 四、防焊臟點: 理由分析:1、水洗不凈,表面還有銅粉。 2、風刀口不潔,有碳化物殘留。 3、烘干段滾輪清潔度不夠。 4、無塵室內(nèi)環(huán)境太臟。 5、印刷機保養(yǎng)未到位。 6、印刷用墊板殘留太多油墨。 7、預烤箱內(nèi)太臟,鐵架上殘留太多油墨。 改善對策:1、依照保養(yǎng)規(guī)范及時換水,且每天須檢查噴嘴,保證水洗效果。 2、風刀口定時保養(yǎng)。(15天/次) 3、烘干段滾輪每15天擦拭一次,且所有退洗板務(wù)必經(jīng)烘烤后方可磨刷, 防止
5、油墨及沾滾輪。 4、無塵室內(nèi)環(huán)境按保養(yǎng)計劃落實執(zhí)行。 5、各機臺保養(yǎng)須按保養(yǎng)規(guī)范,嚴格落實執(zhí)行。 電鍍前五項制程問題分析: 一、孔破: 理由分析:1、除膠渣不凈,未將孔內(nèi)膠渣去除掉,導致內(nèi)層銅箔無法袒露出來。 第 2 頁 2、中和槽藥水濃度偏低,未將除膠渣槽內(nèi)之錳離子去除潔凈。 3、整孔槽、槽液成份偏低或偏高,造成整孔不良。 4、活化槽鐵離子污染嚴重,活化強度偏低導致沉鈀不良。 5、化學銅各藥水成份偏低或偏高,藥水失調(diào)導致孔壁上沉銅不良。 6、CUII微蝕時間過長。 7、CUII鍍錫時孔內(nèi)汽泡未及時排出導致鍍錫不良。 改善對策:1、除膠時間按規(guī)定時間提放,并按化驗單調(diào)整藥水。 2、按化驗分析結(jié)
6、果補加中和槽藥水。 3、按化驗分析結(jié)果調(diào)整孔槽藥水濃度,并確認溫度。 4、每班定時對活化槽周邊槽壁雜質(zhì)進行清理,并補加活化劑。 5、根據(jù)化驗結(jié)果調(diào)整化學銅藥水。 6、按規(guī)定時間提放板。 7、錫槽加裝搖擺及振動馬達。 二、蝕刻不凈: 理由分析:1、CUI鍍銅不均勻,重工板鍍銅偏厚。 2、去膜未去除潔凈夾膜。 3、板面濺酸流錫。 4、蝕刻機噴咀堵塞,均勻性差。 5、蝕刻液藥水使調(diào),PH值偏低。 改善對策:1、調(diào)整CUI鍍銅均勻性,重工板分開蝕刻。 2、延長去膜時間,提高去膜溫度做到每片洗到位。 3、定時清洗站板及鐵架以免上面殘留有酸性藥水。 4、按規(guī)定時間對蝕刻機葉咀、噴管進行清理。 5、調(diào)整蝕刻
7、藥水,添加氨水提高PH值。 三、線路撞傷: 理由分析:1、板與板之間未墊紙皮。 2、扦架時兩片板相互碰撞。 3、搬運過程中,隨便拖拉。 4、轉(zhuǎn)板過程中,倒板。 改善對策:1、板與板之間需用紙皮隔開。 2、扦架時垂直扦下以免板與板相撞。 3、搬運過程中,輕拿輕放。 第 3 頁 4、轉(zhuǎn)板時堆放不可超過三層。 四、打氣不良: 理由分析:1、板面水洗未清潔潔凈。 2、槽液中有機污染嚴重。 3、打氣開得太大。 4、搖擺幅度過小,不能將氣泡打破。 5、過濾機漏氣或壓力太大。 改善對策:1、CUII前處理水洗時,務(wù)必有搖搖擺作,水洗時間3秒以上。 2、銅槽按規(guī)定時間做活性碳過濾。 3、調(diào)整打氣,將打氣開至1
8、/3。 4、增加搖擺幅。 5、調(diào)整檢修過濾系統(tǒng)。 五、金手指針點: 理由分析:1、干膜顯影不潔。 2、CUII前處理水洗未清潔潔凈。 3、板與陽極相靠太近。 4、銅槽藥水中有機污染嚴重。 5、銅槽氯離子過低。 6、過濾機漏氣或壓力過大。 改善對策:1、知會前站改善。 2、CUII前處理水洗時,務(wù)必有搖搖擺作,水洗時間3秒以上。 3、針對排版長度過長之板,采用雙根掛具生產(chǎn)。 4、銅槽藥水按規(guī)定時間做活性碳過濾。 5、根據(jù)化驗添加HCL。 6、調(diào)整檢修過濾系統(tǒng)。 D/F課前三項制程問題分析: 一、斷線: 理由分析:1、黑片菲林棕片有缺失漏檢修,或生產(chǎn)中操作不規(guī)范致刮傷漏看首件。 2、對位、曝光時臺
9、面清潔不到位,有顆粒狀雜物,形成板面局部曝光過 度,形成線細斷線。 3、顯影不凈,造成板面電鍍不上銅錫,而蝕刻斷線。 4、棕片蓋邊不夠透光,工具孔及NPTH孔封孔膜破附著板面。 第 4 頁 5、干膜油,水垢反粘,及水洗不凈。 6、顯影槽噴嘴堵塞,使板面藥液噴灑壓力過低。 7、板面因前站沾膠或磨刷機烘干段膠管,磨刷膠粉吹附板面。 改善對策:1、底片室及D/F課各崗位生產(chǎn)操作務(wù)必按作業(yè)標準規(guī)范作業(yè),避免刮傷棕片及漏檢首件。 2、曝光玻璃臺面之膜碎及固定顆粒雜物,要完全清潔后才曝光。 3、生產(chǎn)前和生產(chǎn)中確認好顯影點,以顯影液負荷量來確認顯影點顯影速 度。 4、棕片邊上貼紅膠紙,工具孔NPTH孔膜破,
10、避免膜碎附著板銅面。 5、定期對顯影機作維護保養(yǎng),用液堿清顯影槽之油垢及水垢后用高壓水 槍沖洗。 6、大保養(yǎng)時將顯影搖擺拆洗,用牙簽疏通噴嘴,更換過濾棉芯。 7、對前站板作自檢及知會其改善,定時清潔磨刷機烘干段之套管。 二、臟點: 理由分析:1、無塵室防塵環(huán)境不完善,室內(nèi)塵埃未清潔。 2、棕片上有黃菲林紅丹點及線路突出。 3、壓膜、刮膜不完全留有膜碎及刀片砘割膜碎多。 4、粘塵動作及對位臺面和棕片未及時清潔不良臟點。 5、曝光玻璃臺面及麥拉面未及時清潔不良臟點。 改善對策:1、D/F無塵室每班下班前,部分員工用膠盆將毛巾擰濕把地面及機臺角落擦拭潔凈。 2、在生產(chǎn)及首件中,加強自檢意識,避免臟點
11、產(chǎn)生,首件和棕片采取交 換輪番檢查。 3、壓膜操作員按規(guī)定以200-300PNL更換刀片,保持刀片鋒利,使板邊不 留干膜碎。 4、板面粘塵前,先用粘塵墊對板四端清潔再沾板面,對位手依照每套棕 片生產(chǎn)100PNL后用碧麗珠作清潔。 5、曝光員在上班前須對曝光機上、下架臺面玻璃、麥拉及架下燈光臺面 進行完全清潔,并且在生產(chǎn)對位同時,每架曝光10PNL后且清洗臺面一 次。 三、滲鍍: 理由分析:1、磨板速度過快,板面氧化板面水份無完全烘干。 第 5 頁 2、磨刷痕跡不平,過小破水試驗不成立。 3、曝光能量過低,無作靜置。 4、壓膜滾輪使用過久,壓膜輪磨刷留有空隙。 5、壓膜輪刮傷,或無給傳送齒輪加油,輸送不良,壓力過小,溫度過低。 6、顯影點未確認好,顯影過度。 改善對策:1、調(diào)整磨刷速度,對吸水海棉作清洗。 2、每周定時作整刷工作,定期給磨板機作清潔保養(yǎng)。 3、依曝光尺來確定曝光能量,且曝光后之板務(wù)必靜置15min以上。 4、壓膜輪使用在1.2萬以內(nèi)務(wù)必更換,有空隙側(cè)作更換。 5、操縱好貼膜壓力和溫度,壓膜輪刮傷則更換新。 負荷量來調(diào)理檢查 6、上班前作好顯影條件,調(diào)理顯影速度,中途依NaCO 3 顯影點。 四、線細: 理由分析:1、曝光過度。 2、棕底片上暗區(qū)之遮光密度不夠或原始黑底片線路太細。 3、曝光時棕氏片與干膜
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