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西安科技大2010年入學(xué)考試試題科目 科目名稱:半導(dǎo)體器件物考生須知1、答案必須寫在答題紙上,寫在試題或草稿紙上不給分2、答題須用藍、黑色鋼筆或圓珠筆,用鉛筆、紅色筆者不給3、答題必須寫清題號,字跡要清楚,卷面要保持整潔4、試題要隨答題紙一起交一、(每小題4分,共40分12、少子3456、能78、MOS910二、簡要回答下列問題(848分1、雙極性晶體管外延層厚度的確定與哪些因素有關(guān)?并分別進行說明23、雙極性三極管工作于放大區(qū)時,對于給定的IB,從載流子傳輸?shù)慕嵌群喴猇CEICVCE的增加卻幾乎不變?4、NMOSVGS,為什么IDSVDS的變化而改變?5、PN6N、P型半導(dǎo)體分別如何實現(xiàn)歐姆接觸?三、根據(jù)要求解答問題(26分)1、NPN晶體管基極偏置的各種不同情況如下圖所示,簡要說明BUCEOBUCES,BUCER,BUCEX,BUCEZ(102PN(83NMOS(8)四、證明題(18分)1、若緩變基區(qū)晶體管的基區(qū)雜質(zhì)分布函數(shù)為NB(x),則其基區(qū)自建電場kTEb
NB
dNB(x)
(10分2NMOS場效應(yīng)晶體管線性區(qū)的電流-電壓關(guān)系為(8
1U2
DSgms
UT 其中 nL,UGS和UDS分別為MOS管的柵源和漏源電壓(18分1NMOSNA=3×l0l6cm-3,柵氧化層200?SiO20.95V(10分)(2(3(2分)(8分PN(3分PN(3分(2分Dn352NPN0=8.85×10-14F/cm,r=3.9,q=1.6×10-
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