光催化原位標(biāo)準(zhǔn)表格面解析總結(jié)計(jì)劃系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

光催化原位表面分析系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)一、系統(tǒng)用途光催化原位表面分析系統(tǒng)包含兩臺(tái)儀器擁有兩種用途。其一是采納目前先進(jìn)的技術(shù)，通過檢測(cè)樣品表面和微型力敏感元件之間原子的互相作使勁來研究物質(zhì)的表面構(gòu)造及性質(zhì)。能夠?qū)Ω鳂硬灰粯訕有螒B(tài)的樣品進(jìn)行三維相貌察看，圖像的分辨率達(dá)到納米級(jí)。除了獲取三維相貌的圖像外，還可以獲取樣品表面摩擦力及其余物理性質(zhì)方面的信息。其二是采納目前先進(jìn)的技術(shù)，能精準(zhǔn)的對(duì)粉末多晶樣品的物相進(jìn)行定性、定量分析，并且還可以夠應(yīng)用于重疊峰的剝離、晶胞參數(shù)計(jì)算、結(jié)晶系確實(shí)定、晶體粒徑和晶格應(yīng)力的計(jì)算、結(jié)晶度的計(jì)算等。二、原子力顯微鏡的主要技術(shù)指標(biāo)2.1安裝環(huán)境電源：220V；濕度：60%以下；溫度：23±5℃。2.2技術(shù)規(guī)格要求2.2.1分辨率：XY方向：≤0.2nm、Z方向：≤0.01nm（供給制造商的證明文件）。2.2.2成像模式和功能附件1）標(biāo)配模式：接觸模式、動(dòng)向模式、相位模式、水平力模式和力調(diào)制模式；2）增配模式：電流模式、表面電勢(shì)模式。2.2.3光路系統(tǒng)1）激光器及其光路一體化設(shè)計(jì)；2）改換樣品時(shí)，光路系統(tǒng)整體滑動(dòng)，保證光路的高度堅(jiān)固性。2.2.4掃描器：掃描器掃描范圍：XY軸：≤10μm；Z軸：≤1μm。2.2.5Z軸驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)1）Z軸最小驅(qū)動(dòng)步進(jìn)：≤0.01nm；2）驅(qū)近方式：有快進(jìn)模式和慢進(jìn)模式兩種；3）具備探針自動(dòng)保護(hù)、自動(dòng)諧調(diào)功能。2.2.6控制單元1）最大掃描速度：≥50Hz；2）同時(shí)丈量數(shù)據(jù)通道：≥6通道；3）掃描旋轉(zhuǎn)：0～180°；4）控制器控制精度：XY軸：≥10位、Z軸：≥20位。2.2.7減震系統(tǒng)1）第1級(jí)：主機(jī)內(nèi)置減震臺(tái)；2）第2級(jí)：外置專用高性能氣浮式減震臺(tái)。2.2.8光學(xué)系統(tǒng)：1）裝備帶CCD的高倍光學(xué)顯微鏡；2）帶同軸落射式照明；3）可變放大倍率，最大放大倍數(shù)≥50倍；4）可在主機(jī)的監(jiān)測(cè)儀上對(duì)光學(xué)顯微鏡進(jìn)行監(jiān)測(cè)。2.2.9軟件系統(tǒng)1）在線分析軟件：采納無界線拘束的新界面設(shè)計(jì)，具備導(dǎo)航功能，鼠標(biāo)操作即可實(shí)現(xiàn)豐富的3D圖像顯示；2）裝備離線分析軟件。2.3其余隸屬設(shè)施1）裝備原廠探針：接觸模式用探針34根、動(dòng)向模式用探針10根；2）配套電腦打印機(jī)各一臺(tái)；3）配套穩(wěn)壓電源一套。三、X射線衍射儀的主要技術(shù)指標(biāo)3.1X射線發(fā)生器1）X射線發(fā)生器：2-1T控制系統(tǒng)；2）X射線發(fā)生器最大功率：≥3KW；3）對(duì)X光管的保護(hù)：過載，過電流，過電壓，冷卻水異樣。3.2X光管1）光管種類：關(guān)閉式Cu靶；2）最大管電壓：≥60KV；最大管電流：≥80mA；3）管電壓步進(jìn)：≤1KV；4）電流步進(jìn)：≤1mA。3.3測(cè)角儀1）測(cè)角儀半徑：≤200mm；2）掃描模式：-2或-；3）掃描角度范圍：-5至+160；4）最大展轉(zhuǎn)速度：≥800/min；5）操作模式：連續(xù)、步進(jìn)掃描模式、軸回?cái)[功能；6）狹縫系統(tǒng)：發(fā)散狹縫（DS）、防散射狹縫（SS）和接受狹縫（RS）。3.4單色器：石墨彎晶單色器：反射效率≥50%。3.5檢測(cè)器1）最大線性計(jì)數(shù)：2x106cps；2）能量分辨率：≤20%。3.6X射線防備1）安全機(jī)構(gòu)：門鎖聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)（門閉鎖后X射線才能發(fā)生）；2）獨(dú)立X射線光管控制系統(tǒng)：開機(jī)狀態(tài)非測(cè)試條件下保證無X射線發(fā)生。3.7循環(huán)水冷裝置1）工作要求：連續(xù)工作；2）控溫精度：優(yōu)于±1℃；3）供水流量：知足發(fā)生器要求；4）進(jìn)水溫度：可調(diào)；5）保護(hù)：過熱保護(hù)。3.8分析軟件物相檢索定性分析軟件包含以下功能和模塊：擁有半定量分析功能；包含晶粒大小，結(jié)晶度分析軟件；擁有線形分析和點(diǎn)陣參數(shù)計(jì)算功能；含原始數(shù)據(jù)直接檢索功能；包含多重峰分別軟件；精巧晶格常數(shù)計(jì)算軟件；晶粒大小與晶格應(yīng)力計(jì)算軟件；可實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)脫機(jī)辦理等。四、售后服務(wù)許諾1）對(duì)用戶的服務(wù)要求，在

24小時(shí)內(nèi)響應(yīng)，一般問題在

2個(gè)工作日內(nèi)解決；2）儀器制造商在武漢設(shè)有分企業(yè)和維修站，以保證供給實(shí)時(shí)的售后服務(wù)；3）儀器廠商出公章證明：質(zhì)保期以外的售后服務(wù)要求先維修后付款。內(nèi)容總結(jié)

（1）光催化原位表面分析系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

一、系統(tǒng)用途

光催化原位表面分析系統(tǒng)包含兩臺(tái)儀器擁有兩種用途

（2）二、原子力顯微鏡的主要技術(shù)指標(biāo)

2.1安裝環(huán)境

電源：220V

（3）2.2技術(shù)規(guī)格要求

2.2.1分辨率：XY方向：≤0.2nm、Z方向：≤0.01nm（供給制造商的證明文件）

（4）2.2.4掃描器：

掃描器掃描范圍：XY軸：≤10μm

（5）Z軸：≤1μm

內(nèi)容總結(jié)

（1）光催化原位表面分析系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)

一、系統(tǒng)用途

光催化原位表面分析系統(tǒng)包含兩臺(tái)儀器擁有兩種用途

（2）二、原子力顯微鏡的主要技術(shù)指標(biāo)

2.1安裝環(huán)境

電源：220V