2021年中國掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈分析

2021年中國掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈分析一、產(chǎn)業(yè)鏈概述

掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基版上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC、平版顯示器、印刷電路版、微機電系統(tǒng)等。掩膜版產(chǎn)業(yè)的上游為各類原材料及生產(chǎn)加工設(shè)備等，中游是掩膜版的制造，下游是掩膜版的應用，包括平版顯示、半導體以及觸控版等領(lǐng)域。

二、上游產(chǎn)業(yè)

掩膜版產(chǎn)業(yè)的上游光刻機、掩膜基版等重要原料及設(shè)備等。光刻機作為最重要的生產(chǎn)設(shè)備，由于國外企業(yè)具有國際專利，處于壟斷地位。其中光刻機產(chǎn)量最大的企業(yè)ASML，2021年出貨EUV光刻機42臺，銷售額達到了63億歐元。

另一項重要原料為掩膜基版按基版材料的不同可分為，石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他掩模版。其中石英掩膜基版占比最大。2020年全球石英掩膜基版規(guī)模達到了97億元，中國石英掩膜基版市場規(guī)模也達到了17億元。且預計2025年，全球石英掩膜基版市場規(guī)模有望突破120億元，中國市場規(guī)模也能達到27億元。

三、中游產(chǎn)業(yè)

掩膜版產(chǎn)業(yè)的中游為掩膜版制造。目前我國推出了一系列政策促進掩膜版制造產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，體現(xiàn)了我國政府對發(fā)展國內(nèi)平板顯示、半導體產(chǎn)業(yè)及其關(guān)鍵材料的積極態(tài)度和堅定決心，為掩膜版行業(yè)的發(fā)展創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

掩膜版相關(guān)技術(shù)的發(fā)展也相當迅猛。2021年中國掩膜版技術(shù)專利申請數(shù)量為690項。國產(chǎn)掩膜版目前已突破多項關(guān)鍵核心技術(shù)，包括掩膜版制造和光阻涂布等部分技術(shù)，一舉打破了國外廠商在上述產(chǎn)品和技術(shù)領(lǐng)域的長期壟斷，雖仍有差距，但未來可期。注：僅搜索“掩膜版“相關(guān)技術(shù)的專利申請情況

四、下游產(chǎn)業(yè)

掩膜版是下游平板顯示、半導體、觸控等行業(yè)生產(chǎn)制造過程中的核心材料之一。掩膜版行業(yè)的發(fā)展與其下游行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)，下游行業(yè)市場規(guī)模的不斷增長也為掩膜版行業(yè)提供了更為廣闊的市場空間。中國平板顯示掩膜版需求不斷升高，2020年中國平版顯示掩膜版需求全球占比約為56%，且預計未來中國平板顯示掩膜版需求占比將進一步擴大。

作為半導體芯片制造的關(guān)鍵材料，掩膜版市場的發(fā)展順風順水，全球半導體掩膜版市場持續(xù)保持高速發(fā)展的態(tài)勢。據(jù)估計2020年全球半導體掩膜版市場為315億