中國(guó)半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)容量及現(xiàn)狀分析

中國(guó)半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)容量及現(xiàn)狀分析

目前中國(guó)已成為了全球最大的電子產(chǎn)品生產(chǎn)消費(fèi)市場(chǎng)，對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品的需求大。2019年，中國(guó)大陸地區(qū)的半導(dǎo)體銷(xiāo)售額占全球的35%，且銷(xiāo)售額的增速持續(xù)高于國(guó)際市場(chǎng)，中國(guó)已經(jīng)成為全球最具活力和前景的半導(dǎo)體產(chǎn)品市場(chǎng)。2019年第四季度以來(lái)全球半導(dǎo)體行業(yè)逐漸復(fù)蘇，產(chǎn)業(yè)開(kāi)啟了新一輪的補(bǔ)庫(kù)存周期，因此2020年第一季度國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)表現(xiàn)良好，1月、2月的半導(dǎo)體銷(xiāo)售額分別同比增長(zhǎng)5.2%、5.5%，第一季度的集成電路產(chǎn)量同比大幅增長(zhǎng)16%。

隨著晶圓廠投資的增加，國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體設(shè)備的需求也在迅速增加。2019年中國(guó)大陸地區(qū)的設(shè)備銷(xiāo)售額為134.5億美元，占全球市場(chǎng)的22.5%，成為全球第二大半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)。在國(guó)內(nèi)的設(shè)備市場(chǎng)中，臺(tái)積電、英特爾、三星、SK海力士等非大陸地區(qū)廠商的設(shè)備需求約占50%，因此大陸地區(qū)芯片廠的設(shè)備需求占全球的11%左右。

清洗設(shè)備在半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)中價(jià)值量占比約5-6%，相較光刻、刻蝕等核心設(shè)備價(jià)值量較低，同時(shí)技術(shù)門(mén)檻較低，比較容易首先實(shí)現(xiàn)全面國(guó)產(chǎn)化。

《2020-2026年中國(guó)半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)經(jīng)營(yíng)管理及競(jìng)爭(zhēng)策略建議報(bào)告》數(shù)據(jù)顯示：2015年全球半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為26億美元，預(yù)計(jì)2020年將達(dá)37億美元，復(fù)合增長(zhǎng)率為7%。預(yù)計(jì)中國(guó)大陸地區(qū)每年的濕法清洗設(shè)備的空間在15-20億美元，到2023年清洗機(jī)的國(guó)產(chǎn)化率可達(dá)40%-50%，即國(guó)產(chǎn)設(shè)備的市場(chǎng)空間在40-70億元；且預(yù)計(jì)未來(lái)12寸晶圓的槽式和單片式清洗設(shè)備將是市場(chǎng)的主要增量。其中單片式清洗機(jī)領(lǐng)域公司有望成為少數(shù)幾家具備核心技術(shù)的國(guó)產(chǎn)設(shè)備商。

清洗為半導(dǎo)體制程重要環(huán)節(jié)，是影響器件成品率及可靠性最重要的因素之一。為減少雜質(zhì)對(duì)芯片良率的影響，實(shí)際生產(chǎn)中不僅需要提高單次清洗效率，還需要在幾乎所有制程前后都進(jìn)行頻繁的清洗，清洗步驟約占整體步驟的1/3。

集成電路制程升級(jí)，清洗環(huán)節(jié)重要性日益凸顯。隨著半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)的發(fā)展，工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入28納米、14納米等更先進(jìn)等級(jí)，工藝流程不斷延長(zhǎng)且越趨復(fù)雜，產(chǎn)線(xiàn)成品率也會(huì)隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個(gè)原因就是先進(jìn)制程對(duì)雜質(zhì)的敏感度更高，小尺寸污染物的高效清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟，晶圓清洗將變得更加復(fù)雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。

按照清洗原理來(lái)分，清洗設(shè)備可分為干法清洗設(shè)備和濕法清洗設(shè)備。濕法工藝是指使用腐蝕性或氧化性較強(qiáng)的溶劑進(jìn)行噴霧或擦洗，使硅表明的雜質(zhì)與溶劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成可溶性物質(zhì)或氣體，從而將晶圓表明的顆?；蚱渌饘匐x子清洗掉。干法工藝指不使用化學(xué)試劑的清洗技術(shù)，包含等離子清洗、氣相清洗等。在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中一般將兩種方法結(jié)合使用，目前90%以上的清洗步驟以濕法設(shè)備為主，少部分特定站點(diǎn)使用干法清洗來(lái)提高清洗效率。至純科技主要生產(chǎn)濕法清洗設(shè)備。

目前中國(guó)市場(chǎng)主要濕法設(shè)備廠商以日本和歐美為主，本土設(shè)備商主要有至純科技、北方華創(chuàng)和盛美半導(dǎo)體，但三家合計(jì)市場(chǎng)份額不到10%。目前來(lái)看，盛美半導(dǎo)體目前主要產(chǎn)品是單片式清洗設(shè)備，至純科技的單片式清洗設(shè)備正在客戶(hù)驗(yàn)證階段，北方華創(chuàng)和至純科技目前仍主要以槽式清洗為主，三者核心產(chǎn)品存在差異，正面競(jìng)爭(zhēng)較少。

中國(guó)國(guó)內(nèi)的半導(dǎo)體清洗設(shè)備的主要廠家有三家，體量都不大，分別是盛美半導(dǎo)體，北方華創(chuàng)和至純科技。盛美股份2019年收入為7.57億元，凈利潤(rùn)為1.35億元。產(chǎn)品主要是單片式清洗設(shè)備，占比總收入的72.81%，槽式清洗機(jī)設(shè)備占比總收入的6%。北方華創(chuàng)主要清洗設(shè)備產(chǎn)品為單片及槽式清洗設(shè)備，可適用于技術(shù)節(jié)點(diǎn)為65nm、28nm工藝的芯片制造。其中，北方華創(chuàng)自有低端的單片清洗設(shè)備，并通過(guò)收購(gòu)美國(guó)Akrion實(shí)現(xiàn)了槽式清洗設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化。北方華創(chuàng)2019年收入40.58億元，凈利潤(rùn)3.09億元。清洗機(jī)業(yè)務(wù)大約占比北方華創(chuàng)總收入的5%左右。盛美半導(dǎo)體在國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體清洗行業(yè)單片式領(lǐng)域市占率為第一。產(chǎn)品線(xiàn)最為豐富，具有顯著技術(shù)優(yōu)勢(shì)。其SAPS、TEBO技術(shù)使兆聲波能量均勻分布在晶圓上，避免其對(duì)晶圓電路的損害，同時(shí)又提高了清洗效果。北方華創(chuàng)和至純科技主要以槽式清洗為主，至純科技的單片式清洗設(shè)備正在客戶(hù)驗(yàn)證階段，目前三者核心產(chǎn)品存在差異，正面競(jìng)爭(zhēng)較少。至純科技是單片