GB/T 14140.1-1993硅片直徑測(cè)量方法光學(xué)投影法

標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 14140.1-1993 是一項(xiàng)中國國家標(biāo)準(zhǔn)，規(guī)定了硅片直徑的測(cè)量方法，具體采用光學(xué)投影法進(jìn)行測(cè)定。這項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體工業(yè)中硅片或其他類似材料圓片的直徑測(cè)量，確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性和一致性。

標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容概覽：

1. 范圍：明確了該標(biāo)準(zhǔn)適用的對(duì)象為單晶硅片或其他功能相似材料的圓片直徑測(cè)量，通過光學(xué)投影原理實(shí)現(xiàn)尺寸檢測(cè)。

2. 術(shù)語和定義：對(duì)標(biāo)準(zhǔn)中涉及的專業(yè)術(shù)語進(jìn)行了解釋，確保讀者對(duì)關(guān)鍵概念有統(tǒng)一的理解。

3. 符號(hào)與單位：規(guī)定了測(cè)量中使用的符號(hào)及其對(duì)應(yīng)的國際單位制單位，例如直徑用“D”表示，單位為毫米（mm）。

4. 測(cè)量原理：詳細(xì)闡述了光學(xué)投影法的原理，即利用光學(xué)系統(tǒng)將硅片邊緣投影到觀察屏上，通過測(cè)量投影圖像的直徑來間接獲得硅片的實(shí)際直徑。這種方法依賴于精確的光學(xué)放大和定位系統(tǒng)，以確保測(cè)量精度。

5. 測(cè)量設(shè)備：描述了實(shí)施該測(cè)量方法所需設(shè)備的基本要求，包括光學(xué)投影儀的構(gòu)造、分辨率、照明條件及校準(zhǔn)方法等，確保所有設(shè)備滿足測(cè)量精度標(biāo)準(zhǔn)。

6. 測(cè)量步驟：

   • 準(zhǔn)備工作：確保硅片表面清潔，無損傷，選擇合適的測(cè)量位置。
   • 調(diào)整設(shè)備：調(diào)整光學(xué)投影儀的焦距和光源，使得硅片邊緣清晰投射。
   • 測(cè)量與記錄：在觀察屏上測(cè)量投影圖像的直徑，并記錄數(shù)據(jù)。
   • 數(shù)據(jù)處理：根據(jù)設(shè)備的校準(zhǔn)系數(shù)對(duì)測(cè)量值進(jìn)行必要的修正，得到最終直徑。

7. 測(cè)量不確定度評(píng)估：指導(dǎo)如何評(píng)估測(cè)量過程中的不確定度來源，包括儀器誤差、環(huán)境因素和操作者影響，以提高測(cè)量結(jié)果的可靠性。

8. 質(zhì)量控制：提出了實(shí)施質(zhì)量控制的措施，如定期校驗(yàn)設(shè)備、比對(duì)試驗(yàn)等，以維持測(cè)量系統(tǒng)的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。

9. 安全注意事項(xiàng)：簡要提及了在操作過程中應(yīng)注意的安全事項(xiàng)，確保操作人員的安全。

實(shí)施意義：

該標(biāo)準(zhǔn)為硅片生產(chǎn)、加工及應(yīng)用領(lǐng)域提供了一套標(biāo)準(zhǔn)化的直徑測(cè)量流程，通過統(tǒng)一的測(cè)量方法和要求，不僅提升了測(cè)量結(jié)果的互換性和可比性，還促進(jìn)了半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)的技術(shù)交流與合作，對(duì)保證產(chǎn)品質(zhì)量和促進(jìn)產(chǎn)業(yè)升級(jí)具有重要意義。

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