標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 16841-1997是一項中國國家標(biāo)準(zhǔn)，全稱為《能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則》。該標(biāo)準(zhǔn)主要針對使用電子束進(jìn)行輻射加工的領(lǐng)域，規(guī)定了在能量范圍從300千電子伏特(keV)至25兆電子伏特(MeV)的電子束輻射加工裝置中，進(jìn)行劑量測量和控制的相關(guān)要求與指導(dǎo)原則。

標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容概覽：

  1. 適用范圍：明確了本標(biāo)準(zhǔn)適用于利用電子束進(jìn)行材料改性、消毒滅菌、聚合反應(yīng)促進(jìn)等輻射加工過程中的劑量學(xué)控制，確保加工質(zhì)量和安全性。

  2. 術(shù)語定義：詳細(xì)界定了輻射劑量、劑量率、吸收劑量、劑量均勻性等關(guān)鍵術(shù)語，為后續(xù)規(guī)范提供基礎(chǔ)語言框架。

  3. 劑量測量方法：介紹了常用的劑量測量儀器和技術(shù)，如電離室、薄膜劑量計等，以及它們在不同條件下的應(yīng)用和校準(zhǔn)方法，確保測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性。

  4. 劑量分布測量：規(guī)定了如何測量和評估電子束在加工物料中的劑量分布，包括采用掃描技術(shù)和固定照射模式下的劑量均勻性要求，以達(dá)到加工的預(yù)期效果。

  5. 安全要求：強(qiáng)調(diào)了輻射防護(hù)的重要性，包括操作人員的安全培訓(xùn)、輻射防護(hù)措施、工作區(qū)域的劃分與標(biāo)識、應(yīng)急處理程序等，確保作業(yè)環(huán)境的安全性。

  6. 質(zhì)量保證與控制：提出了建立劑量學(xué)質(zhì)量保證體系的必要性，涉及設(shè)備定期校驗、數(shù)據(jù)記錄與分析、不確定度評估等方面，確保加工過程的穩(wěn)定性和可靠性。

  7. 驗證與確認(rèn)：要求對新安裝或重大維修后的電子束輻射加工裝置進(jìn)行劑量學(xué)驗證與性能確認(rèn)，確保其滿足既定的工藝和安全標(biāo)準(zhǔn)。

標(biāo)準(zhǔn)核心價值：

此標(biāo)準(zhǔn)旨在為電子束輻射加工行業(yè)提供一套統(tǒng)一、科學(xué)的劑量控制指南，通過標(biāo)準(zhǔn)化的操作流程和測量方法，保障加工產(chǎn)品的質(zhì)量和加工過程的安全性，同時促進(jìn)技術(shù)交流與進(jìn)步，增強(qiáng)國際競爭力。它不僅是輻射加工企業(yè)執(zhí)行質(zhì)量管理和安全生產(chǎn)的基礎(chǔ)，也是監(jiān)管機(jī)構(gòu)進(jìn)行監(jiān)督審核的重要依據(jù)。


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  • 1997-06-03 頒布
  • 1998-05-01 實施
?正版授權(quán)
GB/T 16841-1997能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則_第1頁
GB/T 16841-1997能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則_第2頁
GB/T 16841-1997能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則_第3頁
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文檔簡介

5e.13.280F74中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T16841-1997能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則Guidefordosimetryinanelectronbeamfacilityforradiationprocessingatenergiesbetween300kevand25Mev1997-06-03發(fā)布1998-05-01實施國家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

GB/T16841-1997前言范圍2引用標(biāo)準(zhǔn)3定義意義和用途福射源特性6福照裝置的主要組成和加工參數(shù)劑量測量系統(tǒng)8輻照裝置的確認(rèn)9加工確認(rèn)………·10日常生產(chǎn)加工………11證書、文件和檔案12不確定度…附錄A(標(biāo)準(zhǔn)的附錄)電子束深度劑量分布、材料加工速率和輻照期間溫升的估算方法附錄B（標(biāo)準(zhǔn)的附錄）能量大于300keV的電子加速器的特性附錄C(標(biāo)準(zhǔn)的附錄）通通過深度劑量分布確定電子束能量附錄D(標(biāo)準(zhǔn)的附錄)掃描寬度和掃描劑量不均勾度的計算附錄E(提示的附錄）相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)和參考文獻(xiàn)………·

GB/T16841-1997前電子束輻射加工作為一門新興的高技術(shù)，目前已得到廣泛的應(yīng)用。電子束輻照質(zhì)量控制是保證產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵。準(zhǔn)確可靠的劑量測量，對于研究與復(fù)現(xiàn)輻射效應(yīng),校準(zhǔn)與監(jiān)控加工運行參數(shù)，提高生產(chǎn)效率，保證輻照產(chǎn)品質(zhì)量具有重要意義。為了保證輻射加工產(chǎn)品獲得所需要的工藝劑量與劑量分布，促進(jìn)輻射加工技術(shù)的發(fā)展，使我國電子束輻射加工在輻照裝置確認(rèn)、加工確認(rèn)及日常輻照質(zhì)量控制等方面的吸收劑量測址程序標(biāo)準(zhǔn)化和規(guī)范化,制定《能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝劑量學(xué)導(dǎo)則》的國家標(biāo)準(zhǔn)是十分必要的。本標(biāo)準(zhǔn)在技術(shù)內(nèi)容上非等效采用了美國材料與試驗協(xié)會標(biāo)準(zhǔn)ASTME1649-94《能址為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則》。本標(biāo)準(zhǔn)的附錄A、附錄B、附錄C、附錄D為標(biāo)準(zhǔn)的附錄;附錄E為提示的附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由國家技術(shù)監(jiān)督局提出。本標(biāo)準(zhǔn)由中國計量科學(xué)研究院技術(shù)歸口。本標(biāo)準(zhǔn)由中國計量科學(xué)研究院負(fù)責(zé)起草。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：張彥立、李承華、高鈞成、宗育達(dá)

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)能量為300keV～25MeV電子束輻射加工裝置劑量學(xué)導(dǎo)則GB/T16841-1997Guidefordosimetryinanelectronbeamfacilityforradiationprocessingatenergiesbetween300kevand25MeV1范圍1.1本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子束輻射加工中為保證全部產(chǎn)品接受到能夠產(chǎn)生預(yù)期輻射效應(yīng)所需的劑量，在輻照裝置確認(rèn)、加工確認(rèn)和日常輻照質(zhì)量控制中涉及的吸收劑量測量程序,以及有關(guān)可能影響這些過程和用以監(jiān)控產(chǎn)品中吸收劑量的其它程序，1.2本標(biāo)準(zhǔn)適用的電子束能量范圍：300keV～25MeV.1.3本標(biāo)準(zhǔn)不涉及有關(guān)危險材料及各種安全間題。引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時,所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB/T15446一1995輻射加工劑量學(xué)術(shù)語JJG/772—92電子束輻射源(輻射加工用)EJ/T971一1995輻射加工電子加速器通用規(guī)范定義本標(biāo)準(zhǔn)采用下列定義。3.1吸收劑量(D)dE除以dm所得的商。其中dE是電離輻射授與質(zhì)量為dm物質(zhì)的平均能量，即：D=dE/dm吸收劑量的單位是J·kg-1,專門名稱是戈(瑞)，符號為Gy。1Gy=1·kg-3.22工藝劑量福射加工中為在產(chǎn)品內(nèi)產(chǎn)生預(yù)期輻射效應(yīng)達(dá)到輻照的質(zhì)量要求所規(guī)定的劑量范圍或劑量極限值：3.3平均束流強(qiáng)度輻照到參考面上的電子束束流的

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