• 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2011-07-29 頒布
  • 2011-12-01 實(shí)施
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GB/T 26828-2011多光譜減反射膜規(guī)范_第1頁
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文檔簡介

ICS1718001

N30..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T26828—2011

多光譜減反射膜規(guī)范

Specificationformultispectralantireflectioncoatings

2011-07-29發(fā)布2011-12-01實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

中華人民共和國

國家標(biāo)準(zhǔn)

多光譜減反射膜規(guī)范

GB/T26828—2011

*

中國標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行

北京市朝陽區(qū)和平里西街甲號(hào)

2(100013)

北京市西城區(qū)三里河北街號(hào)

16(100045)

網(wǎng)址

:

服務(wù)熱線

/p>

年月第一版

201112

*

書號(hào)

:155066·1-43928

版權(quán)專有侵權(quán)必究

GB/T26828—2011

前言

本標(biāo)準(zhǔn)由中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會(huì)提出

本標(biāo)準(zhǔn)由全國光學(xué)和光子學(xué)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC103)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國船舶重工集團(tuán)公司第七一七研究所

:。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人楊林峰熊長新劉水心

:、、。

GB/T26828—2011

多光譜減反射膜規(guī)范

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用在光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)的多光譜減反射膜膜層的分類要求試驗(yàn)方法及檢驗(yàn)規(guī)則

、、。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于在硒化鋅硫化鋅等紅外晶體上鍍制多光譜減反射膜

、。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款凡是注日期的引用文件其隨后所有

。,

的修改單不包含勘誤的內(nèi)容或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)然而鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

(),,

是否可使用這些文件的最新版本凡是不注日期的引用文件其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)

。,。

光學(xué)零件表面疵病

GB/T1185

電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)第部分試驗(yàn)方法試驗(yàn)低溫

GB/T2423.12:A:

電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)第部分試驗(yàn)方法試驗(yàn)恒定濕熱試驗(yàn)

GB/T2423.32:Cab:

電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)第部分試驗(yàn)方法試驗(yàn)鹽霧

GB/T2423.172:Ka:

計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第部分按接收質(zhì)量限檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃

GB/T2828.11:(AQL)

(GB/T2828.1—2003,ISO2859-1:1999,IDT)

周期檢驗(yàn)計(jì)數(shù)抽樣程序及表適用于對(duì)過程穩(wěn)定性的檢驗(yàn)

GB/T2829()

3分類

31近紅外紅外雙波段減反射膜

./。

32可見光近紅外紅外三波段減反射膜

.//。

4要求

41總則

.

膜層應(yīng)符合本標(biāo)準(zhǔn)和相關(guān)圖樣的要求若本標(biāo)準(zhǔn)的要求與相關(guān)圖樣要求不一致應(yīng)以相關(guān)圖樣要

。,

求為準(zhǔn)

42鍍膜面積

.

光學(xué)零件的通光孔徑應(yīng)符合圖樣要求應(yīng)在整個(gè)通光孔徑面上鍍膜通光孔徑?jīng)]有規(guī)定時(shí)可非鍍

,。,

膜面的數(shù)據(jù)見表

1。

表1

光學(xué)零件的直徑

非鍍膜面的

或最大對(duì)角尺寸

最大寬度

cm

≤51mm

附加寬度直徑每增加附加寬度增加

>51mm+

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