標(biāo)準(zhǔn)解讀
GB/T 38532-2020《微束分析 電子背散射衍射 平均晶粒尺寸的測(cè)定》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范使用電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)來(lái)測(cè)定材料平均晶粒尺寸的方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于金屬和合金材料,并且對(duì)于其他類型材料,在滿足特定條件下也可適用。
根據(jù)GB/T 38532-2020的規(guī)定,測(cè)定過(guò)程主要包括樣品準(zhǔn)備、數(shù)據(jù)采集與處理幾個(gè)關(guān)鍵步驟。首先,需要制備出適合進(jìn)行EBSD分析的高質(zhì)量表面,這通常涉及到機(jī)械拋光及后續(xù)的電解或化學(xué)腐蝕處理,以去除表面層可能存在的變形區(qū)域,確保獲得清晰的晶體學(xué)信息。接著利用掃描電子顯微鏡配備的EBSD探測(cè)器對(duì)選定區(qū)域進(jìn)行數(shù)據(jù)收集,通過(guò)調(diào)整加速電壓、工作距離等參數(shù)優(yōu)化圖像質(zhì)量。最后是數(shù)據(jù)分析階段,基于獲取到的數(shù)據(jù)集計(jì)算出晶粒大小分布情況,并據(jù)此得出平均晶粒尺寸值。
在執(zhí)行上述流程時(shí),還應(yīng)遵循一些基本原則,比如保證足夠大的統(tǒng)計(jì)樣本量以提高結(jié)果準(zhǔn)確性;合理選擇感興趣區(qū)域,避免因局部特征而產(chǎn)生偏差;以及采用合適的方法評(píng)估測(cè)量不確定度等。此外,該標(biāo)準(zhǔn)也提供了關(guān)于如何報(bào)告實(shí)驗(yàn)結(jié)果的具體指導(dǎo),包括但不限于使用的儀器型號(hào)、測(cè)試條件設(shè)置、所采取的數(shù)據(jù)分析策略等內(nèi)容。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 正在執(zhí)行有效
- 2020-03-06 頒布
- 2021-02-01 實(shí)施





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ICS7104040
G04..
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T38532—2020/ISO130672011
:
微束分析電子背散射衍射
平均晶粒尺寸的測(cè)定
Microbeamanalysis—Electronbackscatterdiffraction—
Measurementofaveragegrainsize
(ISO13067:2011,IDT)
2020-03-06發(fā)布2021-02-01實(shí)施
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布
國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T38532—2020/ISO130672011
:
目次
前言
…………………………Ⅰ
引言
…………………………Ⅱ
范圍
1………………………1
規(guī)范性引用文件
2…………………………1
術(shù)語(yǔ)和定義
3………………1
與晶粒尺寸測(cè)量相關(guān)的術(shù)語(yǔ)
3.1EBSD………………1
測(cè)定的與晶粒和晶界有關(guān)的術(shù)語(yǔ)
3.2EBSD…………3
晶粒尺寸測(cè)定相關(guān)術(shù)語(yǔ)
3.3……………4
與數(shù)據(jù)修正和取向圖不確定度有關(guān)的術(shù)語(yǔ)
3.4EBSD………………5
用于晶粒尺寸測(cè)定的圖像的獲取
4EBSD………………5
硬件要求
4.1……………5
軟件要求
4.2……………5
測(cè)量晶粒尺寸的圖像采集
5EBSD………………………5
樣品制備
5.1……………5
確定樣品軸
5.2…………………………6
樣品臺(tái)定位和校準(zhǔn)
5.3…………………6
線性校正
5.4……………6
初步檢查
5.5……………6
步長(zhǎng)選擇
5.6……………6
所需角精度水平的確定
5.7……………6
分析區(qū)域和圖像尺寸的選擇
5.8………………………8
測(cè)量塑性變形材料時(shí)的注意事項(xiàng)
5.9…………………8
分析過(guò)程
6…………………9
晶界的確定
6.1…………………………9
原始數(shù)據(jù)的后處理
6.2…………………9
數(shù)據(jù)清理步驟
6.3………………………10
晶粒尺寸的測(cè)量
6.4……………………13
數(shù)據(jù)的發(fā)布
6.5…………………………13
測(cè)量不確定度
7……………13
分析結(jié)果的報(bào)告
8…………………………14
附錄資料性附錄晶粒尺寸的測(cè)量
A()…………………15
參考文獻(xiàn)
……………………17
GB/T38532—2020/ISO130672011
:
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用微束分析電子背散射衍射平均晶粒尺寸的測(cè)
ISO13067:2011《
定
》。
與本標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)范性引用的國(guó)際文件有一致性對(duì)應(yīng)關(guān)系的我國(guó)文件如下
:
微束分析電子探針顯微分析術(shù)語(yǔ)
———GB/T21636—2008(EPMA)(ISO23833:2006,IDT)
檢測(cè)和校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室能力的通用要求
———GB/T27025—2008(ISO/IEC17025:2005,IDT)
微束分析掃描電鏡圖像放大倍率校準(zhǔn)導(dǎo)則
———GB/T27788—2011(ISO16700:2004,IDT)
微束分析電子背散射衍射取向分析方法導(dǎo)則
———GB/T30703—2014(ISO24173:2009,IDT)
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口
(SAC/TC38)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位中國(guó)寶武鋼鐵集團(tuán)中央研究院上海發(fā)電設(shè)備成套設(shè)計(jì)研究院中國(guó)科學(xué)院上海
:、、
硅酸鹽研究所
。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人姚雷張作貴曾毅鄭芳
:、、、。
Ⅰ
GB/T38532—2020/ISO130672011
:
引言
工程材料的晶粒尺寸和分布顯著影響其力學(xué)和電磁性能例如材料的強(qiáng)度韌性和硬度這些重要的
,、
力學(xué)性能塊狀材料和薄膜即使是很窄的二維結(jié)構(gòu)其性能也受晶粒尺寸的影響因此對(duì)于材料的
。,,。,
晶粒尺寸和分布測(cè)定需要有標(biāo)準(zhǔn)的方法和統(tǒng)一術(shù)語(yǔ)本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范了應(yīng)用電子背散射衍射取向分布圖測(cè)
。
定平均晶粒尺寸的程序
。
Ⅱ
GB/T38532—2020/ISO130672011
:
微束分析電子背散射衍射
平均晶粒尺寸的測(cè)定
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用電子背散射衍射法對(duì)拋光截面進(jìn)行平均晶粒尺寸的測(cè)定方法包含與晶
(EBSD),
體試樣中的位置相關(guān)的取向取向差和花樣質(zhì)量因子的測(cè)量要求[1]
、。
注1使用光學(xué)顯微鏡測(cè)定晶粒尺寸已為大家普遍接受與其相比具有很多技術(shù)優(yōu)勢(shì)如高的空間分辨率和
:,,EBSD,
晶粒取向的定量描述等
。
注2該方法還可用于一些復(fù)雜材料如雙相材料的晶粒尺寸測(cè)量
:()。
注3對(duì)變形程度較大的試樣進(jìn)行分析時(shí)需謹(jǐn)慎處理結(jié)果
:,。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
微束分析掃描電鏡圖像放大倍數(shù)校準(zhǔn)通則
ISO16700(Microbeamanalysis—Scanningelec-
tronmicroscopy—Guidelinesforcalibratingimagemagnification)
檢測(cè)和校準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室能力的通用要求
ISO/IEC17025(Generalrequirementsforthecompetenceof
testingandcalibrationlaboratories)
在測(cè)量不確定度評(píng)估中可重復(fù)性再現(xiàn)性和正確性評(píng)估的使用指南
ISO21748、(Guidanceforthe
useofrepeatability,reproducibilityandtruenessestimatesinmeasurementuncertaintyestimation)
微束分析電子探針顯微分析術(shù)語(yǔ)
ISO23833
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